JPS62200733A - 乾式洗浄装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明はオゾンを使用して、ウェハ或いはガラス上の
レジスト、有機物等を除去する乾式洗浄装置に関するも
ので粂る。

〔従来の技術〕

第３図は従来の乾式洗浄装置の一例を示す概略構成図、
第４図は同乾式洗浄装置の一部を拡大した構成図である
。図において（１）は０２を吹き出すノズル、（２）は
０２よりオゾンを発生させる水銀灯、（３）は処理され
るウェハである。（４）はウエノ５（３）上のレジスト
である。

従来の乾式洗浄装置は上記のように構成され、たとえば
、ウェハ（３）上のレジスト（４）を除去する場合、ノ
ズル（１）よシ０２が送りこまれ水銀灯（２）の作用に
よりオゾンにな夛、レジスト（４）を除去する。

〔発明が解決しようとする問題点〕

上記のような従来の乾式洗浄装置では、発生するオゾン
はノズル（１）付近が多く、ノズル（１）をはなれるＫ
したがって減るということがあり、第４図で示すように
ノズル（１）付近のレジスト（４）が他にくらべ除去さ
れてしまうために均一な除去ができないという問題点が
あった。

この発明はかかる問題点を解決するためになされたもの
で、レジストの均一な除去ができる乾式洗浄装置を得る
ことを目的とする。

〔問題点を解決するための手段〕

この発明にかかる乾式洗浄装置は、発生したオゾンをウ
ェハに向けて送風するファンと、ファンによって送風さ
れたオゾン′ｆ：整流する整流板をもうけるように構成
したものである。

〔作用〕

この発明においては発生したオゾンがファンによりウェ
ハに向けて送風され、整流板をとおる時に整流されてウ
ェハ上のレジストに均一に轟たる。

〔実施例〕

第１図はこの発明の一実施例の概略構成図、第２図は同
実施例の斜視図である。図において、従来例と同一の構
成は同一符号を付して重複する構成の説明を省略する。

（５）はオゾンを送風するファン、（６）はオゾンを整
流する整流板である。この整流板（６）としてはエアフ
ィルター、クリーンルーム用へパフイルター、スポンジ
状部材が用いられる。（７）はダクトである。

上記のように構成された乾式洗浄装置によれば、ノズル
（１）より０２が送りこまれ水銀灯（２）によシ発生し
たオゾンは、ファン（５）により、整流板（６）ヲとお
ってウェハ（３）上のレジスト（４）に均一にあたる。

このために均一にレジストが除去できる。

〔発明の効果〕

この発明は以上説明したとおり、発生したオゾンがファ
ンによりウェハに向けて送風され、整流板をとおる時に
整流されてウェハ上のレジストに均一にあたるために均
一に除去することができ、膜厚のコントロールが可能と
なるという効果がある。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明の一実施例を示す概略構成図、第２図
は同実施例の斜視図、第６図は従来の乾式洗浄装置の一
例を示す概略構成図、第４図は同乾式洗浄装置の妻滲者
母一部を拡大した構成図である。 図において（１）はノズル、（２）は水銀灯、（３）は
ウェハ、（４）はレジスト、（５）は送風ファン（６）
は整流板である。 なお各図中同一符号は同一または相当部分を示す。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）オゾンを使用して、ウェハ上のレジスト、有機物
   等を除去する乾式洗浄装置において、発生したオゾンを
   ウェハに向けて送風するファンとファンによって送風さ
   れたオゾンを整流する整流板を設けたことを特徴とする
   乾式洗浄装置。