JPS62192337A - 高純度4−ヒドロキシ−2,4,6−トリメチル−2,5−シクロヘキサジエン−1−オンの製造方法 - Google Patents
高純度4−ヒドロキシ−2,4,6−トリメチル−2,5−シクロヘキサジエン−1−オンの製造方法Info
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- JPS62192337A JPS62192337A JP3283786A JP3283786A JPS62192337A JP S62192337 A JPS62192337 A JP S62192337A JP 3283786 A JP3283786 A JP 3283786A JP 3283786 A JP3283786 A JP 3283786A JP S62192337 A JPS62192337 A JP S62192337A
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、ビタミンEの原料として有用なλ45−トリ
メチルハイドロキノン(TMHQ’)の前駆物質である
4−ヒドロキシ−2,4,6−)ジメチル−2,5−シ
ク四へキサジエン−1−オン(HTCD)の製造方法で
ある。
メチルハイドロキノン(TMHQ’)の前駆物質である
4−ヒドロキシ−2,4,6−)ジメチル−2,5−シ
ク四へキサジエン−1−オン(HTCD)の製造方法で
ある。
さらに詳しくは、TMHQを高収率で与える高品位のH
TCDの製造方法に係る。
TCDの製造方法に係る。
(従来技術)
2.4.6−トリメチルフェノール(TMP )からH
TCDを製造する方法としては、特公昭57−2093
0号、特開昭58−41835号の酸素酸化による方法
、特公昭59−1694号の次亜ハロゲン酸塩類を用い
る方法、特開昭59−53438号の二酸化マンガン;
硫酸による方法及び特開昭60−38339−1、同6
〇−215646号の塩素化、加水分解による方法等が
ある。更にHTCDの精製法として、特公昭59−15
893号がある。
TCDを製造する方法としては、特公昭57−2093
0号、特開昭58−41835号の酸素酸化による方法
、特公昭59−1694号の次亜ハロゲン酸塩類を用い
る方法、特開昭59−53438号の二酸化マンガン;
硫酸による方法及び特開昭60−38339−1、同6
〇−215646号の塩素化、加水分解による方法等が
ある。更にHTCDの精製法として、特公昭59−15
893号がある。
(本発明の目的)
本発明は、上記特開昭60−38339号、同60−2
15646号のλ4,6−TMPの塩素化、加水分解に
よる方法で得られる粗HTCDから高品位のHTCDを
得る方法に関するものであり、本発明によるHTCDは
、従来公知の方法例えば塩基性試剤の存在下に加熱する
ことにより高収率で2.3.5−TMHQに転位するこ
とができる。
15646号のλ4,6−TMPの塩素化、加水分解に
よる方法で得られる粗HTCDから高品位のHTCDを
得る方法に関するものであり、本発明によるHTCDは
、従来公知の方法例えば塩基性試剤の存在下に加熱する
ことにより高収率で2.3.5−TMHQに転位するこ
とができる。
(発明の構成)
本発明は、2,4.6−ドリメチルフエノールを有機溶
媒中で塩素を用いて塩素化し、反応生成物を加水分解す
るHTCDの製造方法において、アルデヒド化合物、二
量体キノン、及び着色成分を不純分として含有する粗H
TCDをエーテルに溶解し、次いで該エーテル層に低級
脂肪族炭化水素を加えHTCDを晶析回収することを特
徴とする高純度HTCDの製造方法である。
媒中で塩素を用いて塩素化し、反応生成物を加水分解す
るHTCDの製造方法において、アルデヒド化合物、二
量体キノン、及び着色成分を不純分として含有する粗H
TCDをエーテルに溶解し、次いで該エーテル層に低級
脂肪族炭化水素を加えHTCDを晶析回収することを特
徴とする高純度HTCDの製造方法である。
(発明が解決しようとする問題点)
本発明が立脚する2、4.6−TMPを有機溶媒中で塩
素を用いて、塩素化し、生成物を加水分解する方法で得
られる粗HTCDは、2.5.5−TMHQの原料とし
てそのまま使用すると、粗HTCDに含まれる副反応生
成物、着色成分等のため生成するλ3,5−TMHQの
収率が低く、更に結晶の白変、純度融点、安定性などの
各点でビタミンEの原料として満足できる2、 5.5
−TM)IIQを得ることが容易でない。
素を用いて、塩素化し、生成物を加水分解する方法で得
られる粗HTCDは、2.5.5−TMHQの原料とし
てそのまま使用すると、粗HTCDに含まれる副反応生
成物、着色成分等のため生成するλ3,5−TMHQの
収率が低く、更に結晶の白変、純度融点、安定性などの
各点でビタミンEの原料として満足できる2、 5.5
−TM)IIQを得ることが容易でない。
こうした実情に鑑み、本発明者は、2.3.5−TMH
Qの収率、並びに品質に決定的影響を及ぼす化合物の究
明に努めた結果、主たる原因化合物が4−ヒドロキシ−
3,5−ジメチルベンズアルデヒド及びキノンの二量体
であることを確認した。
Qの収率、並びに品質に決定的影響を及ぼす化合物の究
明に努めた結果、主たる原因化合物が4−ヒドロキシ−
3,5−ジメチルベンズアルデヒド及びキノンの二量体
であることを確認した。
次いで、これら反応化合物及び着色成分をHTCDの転
位反応に先立って分離する方法について検討を重ね、工
業的実施が極めて容易な方法をここに確立し本発明を完
成した。
位反応に先立って分離する方法について検討を重ね、工
業的実施が極めて容易な方法をここに確立し本発明を完
成した。
(問題点を解決するための手段)
本発明の実施のため前提となる、2.4.6−TMPを
有機溶媒中で塩素を用いて塩素化し、反応生成物を加水
分解するHTCDの製造方法は、特開昭60−3855
9号、60−215646号により容易に実施すること
ができる。
有機溶媒中で塩素を用いて塩素化し、反応生成物を加水
分解するHTCDの製造方法は、特開昭60−3855
9号、60−215646号により容易に実施すること
ができる。
本発明に従った、高純度HTCDの製造は、加水分解反
応により得られた反応液の有機層を分液し、全部又は一
部の溶媒を留去して得られる粗HTCDを用いて行われ
る。
応により得られた反応液の有機層を分液し、全部又は一
部の溶媒を留去して得られる粗HTCDを用いて行われ
る。
粗HT CDは、0.5〜5.0倍量(重量)のエーテ
ル類例えば、エチルエーテル、イソプロピルエーテル、
n−7’チルエーテル、n−ヘキシルエーテル等に溶解
し、次いで0.1〜2.0倍量(重量)の低級脂肪族炭
化水素例えば、n−ヘキサン、イソヘキサン、n−ペプ
タン、n−オクタン、イソオクタン、石油エーテル、リ
グロイン等を加え晶析分離する。尚、使用するエーテル
類、低級脂肪族炭化水素の量は上記の範囲に限定される
ものではない。
ル類例えば、エチルエーテル、イソプロピルエーテル、
n−7’チルエーテル、n−ヘキシルエーテル等に溶解
し、次いで0.1〜2.0倍量(重量)の低級脂肪族炭
化水素例えば、n−ヘキサン、イソヘキサン、n−ペプ
タン、n−オクタン、イソオクタン、石油エーテル、リ
グロイン等を加え晶析分離する。尚、使用するエーテル
類、低級脂肪族炭化水素の量は上記の範囲に限定される
ものではない。
本発明方法で得られたI(TCDは、0.2〜0,6重
量部の水酸化ナトリウムを35〜70重量部の水に溶解
したアルカリ水溶液に加え、温度120〜180℃で3
0〜120分間維持すれば、転位反応が進み、高収率で
、高純度の2,6゜(S−TMHQを得ることができる
。なおこの転位反応は、特公昭57−60525号、特
開昭49−49927号、同50−13340号、同5
0−64253号、同50−69025号、同5O−7
032fS号、同50−70327号、同50−116
431号、同50−100050号等に記載の何れの方
法によりても実施することができる。
量部の水酸化ナトリウムを35〜70重量部の水に溶解
したアルカリ水溶液に加え、温度120〜180℃で3
0〜120分間維持すれば、転位反応が進み、高収率で
、高純度の2,6゜(S−TMHQを得ることができる
。なおこの転位反応は、特公昭57−60525号、特
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431号、同50−100050号等に記載の何れの方
法によりても実施することができる。
次に実施例を用いて本発明を説明する。
実施例1
3−e四つロフラスコに攪拌機、気体導入管、温度計滴
下ν斗及び溶媒流出口を備え、2.4.6−TMP 1
00 f、塩化メチレン1500mを入れ、攪拌しなが
ら35℃まで加熱し、60Fの塩素を2時間で導入した
。滴下F斗より塩化メチレンを反応液の容量を一定に保
つように加え反応させた。次いで溶媒流出口を還流コン
デンサーに変えて、681の炭酸水素ナトリウムを溶解
した水1000Jを添加し、塩化メチレン還流下4時間
攪拌した。冷却後有機相を分液し、無水硫酸ナトリウム
で乾燥し、塩化メチレンを留去し粗HTCD 1012
9−を得た。組成はNMR測定により決定した。
下ν斗及び溶媒流出口を備え、2.4.6−TMP 1
00 f、塩化メチレン1500mを入れ、攪拌しなが
ら35℃まで加熱し、60Fの塩素を2時間で導入した
。滴下F斗より塩化メチレンを反応液の容量を一定に保
つように加え反応させた。次いで溶媒流出口を還流コン
デンサーに変えて、681の炭酸水素ナトリウムを溶解
した水1000Jを添加し、塩化メチレン還流下4時間
攪拌した。冷却後有機相を分液し、無水硫酸ナトリウム
で乾燥し、塩化メチレンを留去し粗HTCD 1012
9−を得た。組成はNMR測定により決定した。
2.4.6−TMP 12.5 PHTCD
78.7P4−ヒドロキシ−3,5−
ジメチル ベンズアルデヒド 4.2P 二量体キノン 5.8? この反応での44,6−TMPの反応率は87.5チで
HTCDの収率は80.5%であった。
78.7P4−ヒドロキシ−3,5−
ジメチル ベンズアルデヒド 4.2P 二量体キノン 5.8? この反応での44,6−TMPの反応率は87.5チで
HTCDの収率は80.5%であった。
次に粗I(TCDlooFをエチルエーテル150dに
溶解し、攪拌しながら石油エーテル50−を加え晶析し
濾過、減圧乾燥を経て、HTCD66.8fを得た。収
率68.3チ、純度は99、81であった。
溶解し、攪拌しながら石油エーテル50−を加え晶析し
濾過、減圧乾燥を経て、HTCD66.8fを得た。収
率68.3チ、純度は99、81であった。
(反応例−1)
1!のオートクレーブに上記の精HTCD10?、水酸
化ナトリウム1.2?、水500ゴを仕込み、160℃
で60分窒素雰囲気下で転位反応を行ない反応終了後反
応液を硫酸で中和、晶析しTMHQ8.89Fを得た。
化ナトリウム1.2?、水500ゴを仕込み、160℃
で60分窒素雰囲気下で転位反応を行ない反応終了後反
応液を硫酸で中和、晶析しTMHQ8.89Fを得た。
TMHQの純度は、998チ、0.D、 (光学密度)
は0.063(450nm)、収率は88.9チであっ
た。
は0.063(450nm)、収率は88.9チであっ
た。
(反応例−2)
上記の精HTCD10p、水酸化ナトリウムt2fP、
水350−をオートクレーブに仕込み、窒素雰囲気下1
40℃で1時間反応させた。上側と同じ操作で回収した
結晶の純度は、次のとおりでありた。
水350−をオートクレーブに仕込み、窒素雰囲気下1
40℃で1時間反応させた。上側と同じ操作で回収した
結晶の純度は、次のとおりでありた。
TMHQ 8.23F(収率82.31%
)純度 994チ 0、D、(450nm)0.088 (反応例−3) 上記の精HTCD10)、水酸化ナトリウム1.71、
水700dをオートクレーブに仕込み窒素雰囲気下16
0℃で1時間反応させた。反応例1と同じ操作で回収し
た結晶の純度は、次のとおりであった。
)純度 994チ 0、D、(450nm)0.088 (反応例−3) 上記の精HTCD10)、水酸化ナトリウム1.71、
水700dをオートクレーブに仕込み窒素雰囲気下16
0℃で1時間反応させた。反応例1と同じ操作で回収し
た結晶の純度は、次のとおりであった。
TMHQ 8.1i(収率8t2チ)純度
997チ 0、D、(450nm) 0.072比較例 上記の粗HTCD10?(純度90.7 % )、水酸
化ナトリウム12?、水500dをオートクレーブに仕
込み、窒素雰囲気下160’C,1時間反応を行った。
997チ 0、D、(450nm) 0.072比較例 上記の粗HTCD10?(純度90.7 % )、水酸
化ナトリウム12?、水500dをオートクレーブに仕
込み、窒素雰囲気下160’C,1時間反応を行った。
反応例1と同じ操作で回収した結晶の純度は、次のとお
りでありた。
りでありた。
TMHQ 4.94F
純度 95.8%
収率 52.2チ
Claims (1)
- 2,4,6−トリメチルフェノールを有機溶媒中で塩素
を用いて塩素化し、反応生成物を加水分解する4−ヒド
ロキシ−2,4,6−トリメチル−2,5−シクロヘキ
サジエン−1−オン(HTCD)の製造方法において、
粗生成物をエーテルに溶解し、次いで該エーテル層に低
級脂肪族炭化水素を加えHTCDを晶析回収することを
特徴とする高純度4−ヒドロキシ−2,4,6−トリメ
チル−2,5−シクロヘキサジエン−1−オンの製造方
法
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3283786A JPS62192337A (ja) | 1986-02-19 | 1986-02-19 | 高純度4−ヒドロキシ−2,4,6−トリメチル−2,5−シクロヘキサジエン−1−オンの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3283786A JPS62192337A (ja) | 1986-02-19 | 1986-02-19 | 高純度4−ヒドロキシ−2,4,6−トリメチル−2,5−シクロヘキサジエン−1−オンの製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62192337A true JPS62192337A (ja) | 1987-08-22 |
Family
ID=12369931
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3283786A Pending JPS62192337A (ja) | 1986-02-19 | 1986-02-19 | 高純度4−ヒドロキシ−2,4,6−トリメチル−2,5−シクロヘキサジエン−1−オンの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62192337A (ja) |
-
1986
- 1986-02-19 JP JP3283786A patent/JPS62192337A/ja active Pending
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