JPS62191447A - 撥水処理方法 - Google Patents
撥水処理方法Info
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- JPS62191447A JPS62191447A JP3418386A JP3418386A JPS62191447A JP S62191447 A JPS62191447 A JP S62191447A JP 3418386 A JP3418386 A JP 3418386A JP 3418386 A JP3418386 A JP 3418386A JP S62191447 A JPS62191447 A JP S62191447A
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（技術分野）
本発明は、自動車用バックミラー、ヘッドランプレンズ
、交通信号灯用レンズ、各種窓ガラス、眼鏡レンズ等の
表面の撥水性を高めるのに好適な撥水処理方法に関する
ものである。
、交通信号灯用レンズ、各種窓ガラス、眼鏡レンズ等の
表面の撥水性を高めるのに好適な撥水処理方法に関する
ものである。
（従来技術）
従来は、基材の表面に撥水性樹脂（シリコン樹脂、フッ
素樹脂等）を塗布して表面に樹月旨の塗膜を形成して撥
水性を持たせている。塗布方法としては、スプレー法、
浸漬法、ブレード法などを用いる。
素樹脂等）を塗布して表面に樹月旨の塗膜を形成して撥
水性を持たせている。塗布方法としては、スプレー法、
浸漬法、ブレード法などを用いる。
しかし、このように撥水性樹脂を単に塗布しただけでは
、撥水性の度合いが低かったり（接触角９０〜１００°
）、耐熱性・耐薬品性に劣る。また、塗膜の耐摩耗性が
低いばかりでな（、経時変化カー大きく特性の低下が著
しいため、短寿命であると（・つた欠点がある。
、撥水性の度合いが低かったり（接触角９０〜１００°
）、耐熱性・耐薬品性に劣る。また、塗膜の耐摩耗性が
低いばかりでな（、経時変化カー大きく特性の低下が著
しいため、短寿命であると（・つた欠点がある。
（発明の目的）
本発明の目的は、すぐれた撥水性を容易に得ることがで
きる撥水処理方法を提供することにある。
きる撥水処理方法を提供することにある。
（発明の概要）
本発明は、基材表面にプラズマ重合膜を形成しり後、そ
の表面をエツチングにより粗面化し、更にプラズマ重合
膜を形成することを特徴とするものである。
の表面をエツチングにより粗面化し、更にプラズマ重合
膜を形成することを特徴とするものである。
（実施態様）
次に、本発明方法の実施の態様について説明する。まず
、第１図に示すように基材ｌの表面にプラズマ重合膜２
を形成し、次いでこの重合膜２０表面をエツチングによ
り粗面化する。この後、再度プラズマ重合膜３を形成す
る。重合膜２の膜厚は０．１〜２．０ ／ｊｍとし、重
合膜３の膜厚は０．１〜０．５μｍ とする。
、第１図に示すように基材ｌの表面にプラズマ重合膜２
を形成し、次いでこの重合膜２０表面をエツチングによ
り粗面化する。この後、再度プラズマ重合膜３を形成す
る。重合膜２の膜厚は０．１〜２．０ ／ｊｍとし、重
合膜３の膜厚は０．１〜０．５μｍ とする。
上記処理には第２図に示すような容量結合型高周波プラ
ズマ（低温プラズマ）発生装置（周波数１３．５６ Ｍ
Ｈ２）を用い、基材１はそのカソード電極１１上にセッ
トする。カソード電極１１とアノード電極１２は容器１
３内に配置され、高周波電源１４に接続される。容器１
３にはガス導入口１５と排気口１６があり、ガス導入口
１５から、まずシリコン系またはフッ素系のモノマーガ
スを導入する。この状態で電極１１ 、１２間に高周波
電圧を印加してプラズマを発生させると、基材１の表面
にプラズマ重合膜２が形成される。この膜厚は０．１〜
２．０μｍで十分である。
ズマ（低温プラズマ）発生装置（周波数１３．５６ Ｍ
Ｈ２）を用い、基材１はそのカソード電極１１上にセッ
トする。カソード電極１１とアノード電極１２は容器１
３内に配置され、高周波電源１４に接続される。容器１
３にはガス導入口１５と排気口１６があり、ガス導入口
１５から、まずシリコン系またはフッ素系のモノマーガ
スを導入する。この状態で電極１１ 、１２間に高周波
電圧を印加してプラズマを発生させると、基材１の表面
にプラズマ重合膜２が形成される。この膜厚は０．１〜
２．０μｍで十分である。
重合膜２の形成後、モノマーガスを止め、エツチング用
ガスに切換える。エツチングガスとしては、ＣＨ４、Ａ
ｒ、０２またはこれらの混合ガスを用いる。このエツチ
ングは表面の粗面化が目的である。
ガスに切換える。エツチングガスとしては、ＣＨ４、Ａ
ｒ、０２またはこれらの混合ガスを用いる。このエツチ
ングは表面の粗面化が目的である。
エツチングにより粗面化した後、エツチングガスを止め
、再びモノマーガスを導入する。そして、プラズマ重合
膜２の形成と同じ方法により０．１〜０．５μｍの重合
膜３を形成する。 ・実施例を以下に示す。
、再びモノマーガスを導入する。そして、プラズマ重合
膜２の形成と同じ方法により０．１〜０．５μｍの重合
膜３を形成する。 ・実施例を以下に示す。
（ａ）、アクリル及びガラス基板上に次の条件によりプ
ラズマ重合膜を１．０μｍ形成した。
ラズマ重合膜を１．０μｍ形成した。
（ｂ）６次にＣＦ４＋Ａｒ混合ガスをエツチングガスと
して１０分間エツチングを行い、重合膜表面な粗面化し
た。
して１０分間エツチングを行い、重合膜表面な粗面化し
た。
（Ｃ）、続いて前記（Ａ）と同じ条件でプラズマ重合膜
を０．２μｍ形成した。
を０．２μｍ形成した。
（ｄ）、この試料の水による接触角（第３図のθ）を測
定したところ、θ＝１３０°であり、十分な撥水性を示
した。この撥水性は極めて安定であり、大気中に１ケ月
間放置した後でも、θ〉１２０°であった。また、この
重合膜をスチールウール１１ Ｑ Ｑ Ｑ ｌ／で強く
擦っても全く傷が付かず、十分な耐摩耗性を有していた
。
定したところ、θ＝１３０°であり、十分な撥水性を示
した。この撥水性は極めて安定であり、大気中に１ケ月
間放置した後でも、θ〉１２０°であった。また、この
重合膜をスチールウール１１ Ｑ Ｑ Ｑ ｌ／で強く
擦っても全く傷が付かず、十分な耐摩耗性を有していた
。
（発明の効果）
本発明は次のような効果を有する。
（１）、基材表面を極めてすぐれた撥水性にすることが
できる。通常の材料で最も高い撥水性を示すテフロン材
でも接触角は約１００°であるが、プラズマ重合膜は適
切なモノマーがス（シリコン系またはフッ素系）を選び
、適度な条件により形成すれば１００〜１１０°の接触
角を容易に実現できる。表面を粗面化することで撥水性
が高まるが、エツチングにより表面物性が変化するため
、よりすぐれた撥水性とするには、更に重合膜を設ける
必要がある。
できる。通常の材料で最も高い撥水性を示すテフロン材
でも接触角は約１００°であるが、プラズマ重合膜は適
切なモノマーがス（シリコン系またはフッ素系）を選び
、適度な条件により形成すれば１００〜１１０°の接触
角を容易に実現できる。表面を粗面化することで撥水性
が高まるが、エツチングにより表面物性が変化するため
、よりすぐれた撥水性とするには、更に重合膜を設ける
必要がある。
（２）、撥水処理は低温での処理であり、いかなる材料
にも施すことが可能であり、効果も犬である。
にも施すことが可能であり、効果も犬である。
例えば、バックミラーを撥水処理すれば、視界が常に確
保でき、安全性が向上する。ヘッドランプレンズや交通
信号灯のレンズに適用すれば、水滴付着による光のロス
を防ぐことができる。
保でき、安全性が向上する。ヘッドランプレンズや交通
信号灯のレンズに適用すれば、水滴付着による光のロス
を防ぐことができる。
（３）、この撥水性表面は、摩擦係数が非常に小さいた
め、汚れた水滴が付着しにくく、しかもごみも付きにく
い。従って、高層ビルの窓ガラスに適用すれば、優れた
効果を発揮する。
め、汚れた水滴が付着しにくく、しかもごみも付きにく
い。従って、高層ビルの窓ガラスに適用すれば、優れた
効果を発揮する。
（４）、撥水処理を施した表面は、一度重合膜を形成し
た後、エツチングにより粗面化し、その上に再度重合膜
を形成した二重の重合膜としたことにより、安定性が向
上し半永久的な特性となる。
た後、エツチングにより粗面化し、その上に再度重合膜
を形成した二重の重合膜としたことにより、安定性が向
上し半永久的な特性となる。
（５）、この撥水性表面は、耐摩耗性に優れている。
これは、プラズマ重合を行う場合、基材をカソード電極
上にセットしたため、重合と同時にス／？ツタリングが
生じ、弱い結合分子は取り除かれ、強い結合のみにより
膜が形成されるからである。
上にセットしたため、重合と同時にス／？ツタリングが
生じ、弱い結合分子は取り除かれ、強い結合のみにより
膜が形成されるからである。
（６）、この撥水性表面は、耐熱性、耐薬品性に優れて
いる。これは、プラズマ重合膜が三次元クロスリンク構
造から成り立っているためと考えられる。
いる。これは、プラズマ重合膜が三次元クロスリンク構
造から成り立っているためと考えられる。
第１図は本発明に係る撥水処理方法の一実施例を示す処
理工程説明図、第２図は撥水処理に用いる装置の構成図
、第３図は撥水性の度合い（水による接触角）を示す図
である。 １・・・・・・基材、 ２及び３・・・・・・プラズマ重合膜、１１・・・・・
・容量結合型高周波プラズマ発生装置のカソード電極、 １２・・・・・・アノード電極、 １３・・・・・・容
器、１４・・・・・・高周波電源、 １５・・・・・
・ガス導入口、１６・・・・・・排気口。 特許出願人 スタンレー電気株式会社、−、）−Ｑ 第１図 第３図
理工程説明図、第２図は撥水処理に用いる装置の構成図
、第３図は撥水性の度合い（水による接触角）を示す図
である。 １・・・・・・基材、 ２及び３・・・・・・プラズマ重合膜、１１・・・・・
・容量結合型高周波プラズマ発生装置のカソード電極、 １２・・・・・・アノード電極、 １３・・・・・・容
器、１４・・・・・・高周波電源、 １５・・・・・
・ガス導入口、１６・・・・・・排気口。 特許出願人 スタンレー電気株式会社、−、）−Ｑ 第１図 第３図
Claims (3)
- （１）、基材表面にプラズマ重合膜を形成した後、その
表面をエッチングにより粗面化し、更にプラズマ重合膜
を形成することを特徴とする撥水処理方法。 - （２）、プラズマ重合膜としてシリコン系またはフッ素
系重合膜を用いる特許請求の範囲第１項記載の撥水処理
方法。 - （３）、エッチング時にＣＦ＿４、Ａｒ、Ｏ＿２または
これらの混合ガスを用いる特許請求の範囲第１項または
第２項記載の撥水処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3418386A JPS62191447A (ja) | 1986-02-19 | 1986-02-19 | 撥水処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3418386A JPS62191447A (ja) | 1986-02-19 | 1986-02-19 | 撥水処理方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62191447A true JPS62191447A (ja) | 1987-08-21 |
| JPH0415179B2 JPH0415179B2 (ja) | 1992-03-17 |
Family
ID=12407081
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3418386A Granted JPS62191447A (ja) | 1986-02-19 | 1986-02-19 | 撥水処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62191447A (ja) |
Cited By (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| EP0614857A1 (en) * | 1993-03-12 | 1994-09-14 | Biwex N.V. | Apparatus and method for providing a film on a sheet of glass, and the sheet of glass thus obtained |
| US5415927A (en) * | 1991-10-04 | 1995-05-16 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | Water-repellant glass products and process for the production thereof |
| WO1996004123A1 (de) * | 1994-07-29 | 1996-02-15 | Wilhelm Barthlott | Selbstreinigende oberflächen von gegenständen sowie verfahren zur herstellung derselben |
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-
1986
- 1986-02-19 JP JP3418386A patent/JPS62191447A/ja active Granted
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0415179B2 (ja) | 1992-03-17 |
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