JPS59159806A - 含フツ素高分子化合物被膜の形成方法 - Google Patents
含フツ素高分子化合物被膜の形成方法Info
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- JPS59159806A JPS59159806A JP3325983A JP3325983A JPS59159806A JP S59159806 A JPS59159806 A JP S59159806A JP 3325983 A JP3325983 A JP 3325983A JP 3325983 A JP3325983 A JP 3325983A JP S59159806 A JPS59159806 A JP S59159806A
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- coating
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- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は耐久性の優れた含フツ素高分子化合物被膜の形
成方法に関する。
成方法に関する。
従来、各種金属、ガラス、有機高分子化合物などの無機
質及び有機質基材の表面に含フツ素有機重合体被膜を形
成するため、フルオロアルケン又はフルオロアルカンの
雰囲気中に基材を置いてグロー放電することによりプラ
ズマ重合することが行われている。例えば特開昭５５−
９９９３２号に開示されているように有機高分子化合物
基材を含フツ素プラズマに接触させることにより基材表
面にフッ素を導入し改質することにより表面硬度、疎水
性、耐薬品性等の向上を図っている。
質及び有機質基材の表面に含フツ素有機重合体被膜を形
成するため、フルオロアルケン又はフルオロアルカンの
雰囲気中に基材を置いてグロー放電することによりプラ
ズマ重合することが行われている。例えば特開昭５５−
９９９３２号に開示されているように有機高分子化合物
基材を含フツ素プラズマに接触させることにより基材表
面にフッ素を導入し改質することにより表面硬度、疎水
性、耐薬品性等の向上を図っている。
しかしながら上記従来法により形成された含フツ素有機
重合体被膜の硬度を荷重を負荷した鋼球によシ試験する
と被膜が容易に破損し、また有機溶剤や水に浸漬した後
に水に対する接触角を測定すると約７５％以下に低下し
、従って耐久性が著しく悪いという、欠点を有すること
が判明した。
重合体被膜の硬度を荷重を負荷した鋼球によシ試験する
と被膜が容易に破損し、また有機溶剤や水に浸漬した後
に水に対する接触角を測定すると約７５％以下に低下し
、従って耐久性が著しく悪いという、欠点を有すること
が判明した。
本発明の目的は被膜強度の向上された含フツ素高分子化
合物被膜の形成方法を提供することにある。
合物被膜の形成方法を提供することにある。
本発明の他の目的は耐溶剤性及び耐水性が初期値におい
て従来の被膜よシ優れることは勿論のこと、該試験後に
おける水の接触角が極めて僅かにしか低下せず、約９７
〜９８％以上という高い接触角を保持し得る耐久性に著
しく優れた含フツ素高分子化合物被膜の形成方法を提供
することにある。
て従来の被膜よシ優れることは勿論のこと、該試験後に
おける水の接触角が極めて僅かにしか低下せず、約９７
〜９８％以上という高い接触角を保持し得る耐久性に著
しく優れた含フツ素高分子化合物被膜の形成方法を提供
することにある。
本発明は（ａ） フルオロアルケン及び／又はフルオ
ロアルカンの雰囲気中に基材を置いてグロー放電するこ
とにより基材上に含フツ素高分子化合物被膜を形成し、
（ｂ） 必要に応じて、引き続いてフルオロアルケン
及び／又はフルオロアルカンのよシ高い圧力の雰囲気に
上記被膜を形成した基材を置くことによって形成被膜の
膜厚を増大させ、（ｃ）次に上記被膜全形成した基材を
熱処理することを特徴とする基材上に耐久性の優れた含
フツ素高分子化合物被膜を形成する方法に係る。
ロアルカンの雰囲気中に基材を置いてグロー放電するこ
とにより基材上に含フツ素高分子化合物被膜を形成し、
（ｂ） 必要に応じて、引き続いてフルオロアルケン
及び／又はフルオロアルカンのよシ高い圧力の雰囲気に
上記被膜を形成した基材を置くことによって形成被膜の
膜厚を増大させ、（ｃ）次に上記被膜全形成した基材を
熱処理することを特徴とする基材上に耐久性の優れた含
フツ素高分子化合物被膜を形成する方法に係る。
本発明においては基材を含フツ素プラズマに接触させて
、その表面に含フツ素高分子化合物被膜を形成し、次い
で該基材を熱処理するという極めて簡単な操作を施こす
ことにより、被膜強度の向上は勿論のこと、耐溶剤性、
耐水性が初期値で熱処理のないものに比し数％向上する
たけでなく、驚くべきことに耐溶剤、耐水試験後にも殆
どその特性が低下せず、９７〜９８％以上の極めて高い
保持率を有することが明らかとなった。この理由は未だ
十分には解明されていないが、恐らく含フツ素高分子化
合物中の比較的低分子量の物質が熱処理により除去され
、あるいは形成された含フツ素化合物の架橋反応が誘発
され完結されたか、または遊離ラジカルが消失したこと
等によるものと考えられる。
、その表面に含フツ素高分子化合物被膜を形成し、次い
で該基材を熱処理するという極めて簡単な操作を施こす
ことにより、被膜強度の向上は勿論のこと、耐溶剤性、
耐水性が初期値で熱処理のないものに比し数％向上する
たけでなく、驚くべきことに耐溶剤、耐水試験後にも殆
どその特性が低下せず、９７〜９８％以上の極めて高い
保持率を有することが明らかとなった。この理由は未だ
十分には解明されていないが、恐らく含フツ素高分子化
合物中の比較的低分子量の物質が熱処理により除去され
、あるいは形成された含フツ素化合物の架橋反応が誘発
され完結されたか、または遊離ラジカルが消失したこと
等によるものと考えられる。
本発明において基材として無機質及び有機質の基材が用
いられる。０Ｔｈ１者の例としては鉄、銅、アルミニウ
ム、ステンレス等の金属又は合金、ガラス、セラミック
等の全ゆる無機質の基材が包含される。また後者の例と
してはポリオレフィン、ポリアクリレート、ポリアミド
、ポリイミド、ポリエステル、エポキシ樹脂、ポリ塩化
ビニル、ポリカーボネート、ポリビニルアルコール、ポ
リスチレン等の各種の基材を例示できる。
いられる。０Ｔｈ１者の例としては鉄、銅、アルミニウ
ム、ステンレス等の金属又は合金、ガラス、セラミック
等の全ゆる無機質の基材が包含される。また後者の例と
してはポリオレフィン、ポリアクリレート、ポリアミド
、ポリイミド、ポリエステル、エポキシ樹脂、ポリ塩化
ビニル、ポリカーボネート、ポリビニルアルコール、ポ
リスチレン等の各種の基材を例示できる。
本発明で使用されるフルオロアルケンの好適な例として
炭素数２〜１５の直鎖状、分校状、環状のアルケンの１
以上の水素がフッ素により置換された化合物、好ましく
は半数以上の水素がフッ素により置換された化合物、最
も好ましくは全部の水素が置換された化合物を例示でき
る。一部の水素が塩素、臭素、沃素により置換されてい
てもよい。
炭素数２〜１５の直鎖状、分校状、環状のアルケンの１
以上の水素がフッ素により置換された化合物、好ましく
は半数以上の水素がフッ素により置換された化合物、最
も好ましくは全部の水素が置換された化合物を例示でき
る。一部の水素が塩素、臭素、沃素により置換されてい
てもよい。
具体例としてＣ２Ｆ４（テトラフルオロエチレン）、Ｃ
３Ｆ６、Ｃ４Ｆ８、Ｃ２Ｈ３Ｆ１Ｃ２ＨＦ３、Ｃ２Ｃｌ
Ｆ５、ＣＦ２−ＣＨ２等を挙げることができる。
３Ｆ６、Ｃ４Ｆ８、Ｃ２Ｈ３Ｆ１Ｃ２ＨＦ３、Ｃ２Ｃｌ
Ｆ５、ＣＦ２−ＣＨ２等を挙げることができる。
本発明においてフルオロアルカンの好ましいものは炭素
数１〜１０の直鎖状、分枝状、環状のアルカンの１以上
の水素がフッ素により置換された化合物、好ましくは半
数以上の水素がフッ素により置換された化合物、最も好
ましくは水素の数が０〜２で他はフッ素で置換された化
合物である。
数１〜１０の直鎖状、分枝状、環状のアルカンの１以上
の水素がフッ素により置換された化合物、好ましくは半
数以上の水素がフッ素により置換された化合物、最も好
ましくは水素の数が０〜２で他はフッ素で置換された化
合物である。
一部の水素が塩素、臭素、沃素により置換されていても
よい。具体例としては ＣＦ４、ＣＢｒＦ３、ＣＣｌ２
Ｆ２、ＣＣ４３Ｆ１ＣＨＣ４Ｆ２、ＣＣｌ２Ｆ２キＣ２
Ｆ６、ＣＣ１２ＦＣＣβ２Ｆ、ＣＣ１２ＦＣＣＣＦ２、
ＣＨ３ＣＣｌＦ２、ＣＨ３ＣＨＦ２、Ｃ，３Ｆ８、Ｃ４
Ｆ１ｏＳｃｙｃｌｏ−Ｃ４Ｆ８、Ｃ３Ｆ１゜、Ｃ６Ｆ１
４、Ｃ８Ｆ１８、Ｃ１ｏＦ２２ 等を例示できる、上記
フルオロアルケン及びフルオロアルカンを１ノド用する
ことも可能で、また各々１棟又は２腫以上混合して用い
ることができる。
よい。具体例としては ＣＦ４、ＣＢｒＦ３、ＣＣｌ２
Ｆ２、ＣＣ４３Ｆ１ＣＨＣ４Ｆ２、ＣＣｌ２Ｆ２キＣ２
Ｆ６、ＣＣ１２ＦＣＣβ２Ｆ、ＣＣ１２ＦＣＣＣＦ２、
ＣＨ３ＣＣｌＦ２、ＣＨ３ＣＨＦ２、Ｃ，３Ｆ８、Ｃ４
Ｆ１ｏＳｃｙｃｌｏ−Ｃ４Ｆ８、Ｃ３Ｆ１゜、Ｃ６Ｆ１
４、Ｃ８Ｆ１８、Ｃ１ｏＦ２２ 等を例示できる、上記
フルオロアルケン及びフルオロアルカンを１ノド用する
ことも可能で、また各々１棟又は２腫以上混合して用い
ることができる。
本発明は」二記フルオロプルケン及び／又はフルオロア
ルカンの雰囲気中に基材を置いてグロー放電を行う。フ
ルオロアルケン及び／又はフルオロアルカンの流速につ
いては特に制限はないが通常は放電域の体積１１に対し
て約０１〜２０．ＳＴＰｍ／ｍｉｎとするのが好ましい
。またグロー放電域に不活性ガスを混合することも任意
である。グロー放電は公知の方法に従えば良く、例えば
−１０〜８０°Ｃ１好ましくは０〜４０°Ｃの温度、０
．０５〜２ Ｔｏｒｒ、好ましくは０．１〜０．５ Ｔ
ｏｒｒの雰囲気を、容器１１当り２〜５０ Ｗの放電電
力で、０．１〜１００ ＭＨｚの高周波電界下に置くの
が好ましい。装置としては外部電極方式、内部電極方式
の両方が使用できるが、電極上に重合体が生成しない点
より前者がより好ましい。
ルカンの雰囲気中に基材を置いてグロー放電を行う。フ
ルオロアルケン及び／又はフルオロアルカンの流速につ
いては特に制限はないが通常は放電域の体積１１に対し
て約０１〜２０．ＳＴＰｍ／ｍｉｎとするのが好ましい
。またグロー放電域に不活性ガスを混合することも任意
である。グロー放電は公知の方法に従えば良く、例えば
−１０〜８０°Ｃ１好ましくは０〜４０°Ｃの温度、０
．０５〜２ Ｔｏｒｒ、好ましくは０．１〜０．５ Ｔ
ｏｒｒの雰囲気を、容器１１当り２〜５０ Ｗの放電電
力で、０．１〜１００ ＭＨｚの高周波電界下に置くの
が好ましい。装置としては外部電極方式、内部電極方式
の両方が使用できるが、電極上に重合体が生成しない点
より前者がより好ましい。
次に本発明では必要に応じて、引き続いてフルオロアル
ケン及び／又はフルオロアルカンのより高い圧力の雰囲
気に上記被膜を形成した基材を置くことにより形成被膜
の膜厚を増大させることができる。より高い圧力とは好
ましくは１〜２ ａｔｒｎの範囲であり、通常この圧力
に約０５〜１０時間置くことにより膜厚を約２〜１０倍
に増大させることができる。
ケン及び／又はフルオロアルカンのより高い圧力の雰囲
気に上記被膜を形成した基材を置くことにより形成被膜
の膜厚を増大させることができる。より高い圧力とは好
ましくは１〜２ ａｔｒｎの範囲であり、通常この圧力
に約０５〜１０時間置くことにより膜厚を約２〜１０倍
に増大させることができる。
本発明では次に上記被膜を形成した基材を熱処理するこ
とにより被膜の強度及び耐久性を著しく向上させること
ができる。熱処理の条件は基桐の耐熱性及び含フツ素高
分子化合物の耐熱性に応じて選択すればよく、温度は一
般には５０〜７００°Ｃの範囲で選択でき、処理時間は
この温度範囲で低温稈長く、高温程短（することが適当
であり、通常０５秒〜７日程度の範囲とするのが好捷し
い。
とにより被膜の強度及び耐久性を著しく向上させること
ができる。熱処理の条件は基桐の耐熱性及び含フツ素高
分子化合物の耐熱性に応じて選択すればよく、温度は一
般には５０〜７００°Ｃの範囲で選択でき、処理時間は
この温度範囲で低温稈長く、高温程短（することが適当
であり、通常０５秒〜７日程度の範囲とするのが好捷し
い。
基材の耐熱性例えば軟化点、分解温度が約２００°Ｃ以
下のときは基材の耐熱性に従って定めるのが良く、基材
の耐熱性が約２００°Ｃ以上のときは含フツ素高分子化
合物の耐熱性に従って熱処理温度及び時間を選択するの
が良い。具体的には基材が鋼鉄の場合には約２００〜４
００°Ｃ、ガラスでは約１５０〜３００°Ｃ、ポリエス
テルでは約１００〜２００°Ｃ、ポリアミドでは約１５
０〜３００°Ｃ１ポリアクリレートでは約５０〜１５０
°Ｃ１ポリオレフインでは約８０〜２００°Ｃ程度とす
るのが好ましい。熱処理工程は空気中で゛行うこともで
きるが、窒素、ヘリウム、アルゴン等の不活性ガス中で
行うのが好１しく、この場合には耐水性、耐溶剤性など
の耐久性がより優れた含フツ素高分子化合物被膜を得る
ことができる。 − 以上述べたように本発明はグロー放電により形成した含
）゛シ素高分子化合物岐膜の性質を改善するものであり
、含フツ素高分子化合物被膜を形成するだめの原判やグ
ロー放電重合条件の如何を問わず適用できるものであり
、また基材の種類によって処理温度や処理時間、場合に
より処理雰囲気を調節する以外は貼付の種類如何を問わ
ず適用できるものである。
下のときは基材の耐熱性に従って定めるのが良く、基材
の耐熱性が約２００°Ｃ以上のときは含フツ素高分子化
合物の耐熱性に従って熱処理温度及び時間を選択するの
が良い。具体的には基材が鋼鉄の場合には約２００〜４
００°Ｃ、ガラスでは約１５０〜３００°Ｃ、ポリエス
テルでは約１００〜２００°Ｃ、ポリアミドでは約１５
０〜３００°Ｃ１ポリアクリレートでは約５０〜１５０
°Ｃ１ポリオレフインでは約８０〜２００°Ｃ程度とす
るのが好ましい。熱処理工程は空気中で゛行うこともで
きるが、窒素、ヘリウム、アルゴン等の不活性ガス中で
行うのが好１しく、この場合には耐水性、耐溶剤性など
の耐久性がより優れた含フツ素高分子化合物被膜を得る
ことができる。 − 以上述べたように本発明はグロー放電により形成した含
）゛シ素高分子化合物岐膜の性質を改善するものであり
、含フツ素高分子化合物被膜を形成するだめの原判やグ
ロー放電重合条件の如何を問わず適用できるものであり
、また基材の種類によって処理温度や処理時間、場合に
より処理雰囲気を調節する以外は貼付の種類如何を問わ
ず適用できるものである。
次いで実施例および比較例により本発明を説明する。尚
、以下において被膜の硬さ、耐溶剤性およ、び耐水性は
次の方法で測定した。
、以下において被膜の硬さ、耐溶剤性およ、び耐水性は
次の方法で測定した。
１、被膜の硬さ
０５±０．１μ２２１の厚さの被膜を形成した基材をそ
の被膜面を上にしまたこれを水平に設置して、この上に
、水平方向に移動せずまた回転しないように固定し、附
属物を含めて重Ｍを相殺した直径８ｍｍの磨き鋼球に荷
重２００ｙ−をがけて置く。ついで被膜面を基材ととも
に水平面内で直線に沿って１６０ｍｍ／ｍｉｎの平均速
度で ２０ｍｍ動がした後、目視によって被膜が破損し
ているがどうか全観桜した。
の被膜面を上にしまたこれを水平に設置して、この上に
、水平方向に移動せずまた回転しないように固定し、附
属物を含めて重Ｍを相殺した直径８ｍｍの磨き鋼球に荷
重２００ｙ−をがけて置く。ついで被膜面を基材ととも
に水平面内で直線に沿って１６０ｍｍ／ｍｉｎの平均速
度で ２０ｍｍ動がした後、目視によって被膜が破損し
ているがどうか全観桜した。
尚、評価は次の基準によった。
○１１．１０１９．被膜に傷がついていないか又は被膜
に傷がついていることがあるが被膜はイ簸損せず、基材
面が現われるには至って いない。
に傷がついていることがあるが被膜はイ簸損せず、基材
面が現われるには至って いない。
Ｘ 、、、、、、、、 被膜が破損し基材面が現われ
ている。
ている。
２ 耐溶剤性
被試験体を試験液の四塩化炭素または １，１．’２−
トリクロロー１．２．２−トリフルオロエタン中で所定
時間超音波を用いて十分接触させる。次いで被試験体を
試験液より取出し、７０〜８０°Ｃで１時間乾燥させた
後、被膜の水に対する接触角を測定した。超音波による
接触はペットクリーナー（超音波工業株式会社製）、周
波数４１＆Ｈｚ、３５Ｗで行なった。被膜の厚さはタリ
ステップ（ティラー・ホブソン社製）により、接触角は
ゴニオメータ−（エルマ光学株式会社製）により測定し
た。
トリクロロー１．２．２−トリフルオロエタン中で所定
時間超音波を用いて十分接触させる。次いで被試験体を
試験液より取出し、７０〜８０°Ｃで１時間乾燥させた
後、被膜の水に対する接触角を測定した。超音波による
接触はペットクリーナー（超音波工業株式会社製）、周
波数４１＆Ｈｚ、３５Ｗで行なった。被膜の厚さはタリ
ステップ（ティラー・ホブソン社製）により、接触角は
ゴニオメータ−（エルマ光学株式会社製）により測定し
た。
３、耐水性
被試験体を２４時間水に浸漬した後、７０〜８０°Ｃで
１時間乾燥して、水に対する接触角を測定した。接触角
の測定は前述と同様にして行った。
１時間乾燥して、水に対する接触角を測定した。接触角
の測定は前述と同様にして行った。
実施例１〜８及び比較例１
外部に誘導負荷励起装置を備えたプラズマ反応管（直径
約１８０＋＋ｏ＋＋、長さ約２００＋＋＋＋＋、容積５
１）内にアセトンによシ脱脂したステンレス板（ＳＵＳ
−３０４、長さ１００ ｍｍｓ幅５０ｍＴｎ、厚さ１ｍ
ｍ）を入れ、０．０５ Ｔｏｒｒまで排気した後、Ｃ２
Ｆ４ガスをＩＯ８ＴＰａｍ／１ｎｔｎで流し圧力’ｚ
Ｏ，１５Ｔｏｒｒに調整し、１３．５６ＭＨｚの 高周
波電力’ｔ ５０Ｗで電極に印加してプラズマを発生さ
せ３０分間処理したところ、厚さ０４μｍ の被膜を形
成した。
約１８０＋＋ｏ＋＋、長さ約２００＋＋＋＋＋、容積５
１）内にアセトンによシ脱脂したステンレス板（ＳＵＳ
−３０４、長さ１００ ｍｍｓ幅５０ｍＴｎ、厚さ１ｍ
ｍ）を入れ、０．０５ Ｔｏｒｒまで排気した後、Ｃ２
Ｆ４ガスをＩＯ８ＴＰａｍ／１ｎｔｎで流し圧力’ｚ
Ｏ，１５Ｔｏｒｒに調整し、１３．５６ＭＨｚの 高周
波電力’ｔ ５０Ｗで電極に印加してプラズマを発生さ
せ３０分間処理したところ、厚さ０４μｍ の被膜を形
成した。
次いで０２Ｆ４をプラズマ反応管に大気圧まで盛たし３
０分経過せしめると被膜の厚さは０６μ７ｎになった。
０分経過せしめると被膜の厚さは０６μ７ｎになった。
このように処理したステンレス板を第１表に記載の雰囲
気中で所定の温度及び時間、熱処理を行った。結果を第
１表に示す。尚、面１溶剤性は四塩化炭素中で１５分間
洗滌した後の水に対する接触角を示す。また比較例１と
して熱処理を行わなかった場合の結果をも示した。
気中で所定の温度及び時間、熱処理を行った。結果を第
１表に示す。尚、面１溶剤性は四塩化炭素中で１５分間
洗滌した後の水に対する接触角を示す。また比較例１と
して熱処理を行わなかった場合の結果をも示した。
試験例１
実施例３および比較例１で得た被膜形成ステンレス板を
それぞれ １，１．２−トリクロロ−１，２，２−トリ
フルオロエタン中に３０分間浸漬して耐溶剤性を測定し
た。その結果を第２表に示す。
それぞれ １，１．２−トリクロロ−１，２，２−トリ
フルオロエタン中に３０分間浸漬して耐溶剤性を測定し
た。その結果を第２表に示す。
第２表
実施例９〜１１および比較例２
実施例１〜８と同様にして被膜を形成し試験を行った。
ただし異なる点は、ステンレス板の代りにアセトンで洗
滌したガラス板（厚さ１ｍｍ、長さ５０ｍｍ、 幅２
０ｍｍ）４枚を並べて入れプラズマ処理を３０分に代え
て４５分にした点である。尚、（ａ）工程後の被膜の厚
さは０．４μ２７？ であり、（′ｂ）工程後は０．
６μｍ であった。結果を第３表に示す。
滌したガラス板（厚さ１ｍｍ、長さ５０ｍｍ、 幅２
０ｍｍ）４枚を並べて入れプラズマ処理を３０分に代え
て４５分にした点である。尚、（ａ）工程後の被膜の厚
さは０．４μ２７？ であり、（′ｂ）工程後は０．
６μｍ であった。結果を第３表に示す。
第３表
実施例１２および比較例３
ポリメチルメタクリレートシート（長さ５０１１１１１
１、幅２０ｍｍ、厚さ８龍）を用い、高周波電力を３０
Ｗ、プラズマ処理を４５分に代えた以外は実施例１〜８
と同様にして被膜を形成し、耐水性（２４時間）を測定
した。結果全第４表に示す。
１、幅２０ｍｍ、厚さ８龍）を用い、高周波電力を３０
Ｗ、プラズマ処理を４５分に代えた以外は実施例１〜８
と同様にして被膜を形成し、耐水性（２４時間）を測定
した。結果全第４表に示す。
第４表
実施例１３
実施例１において本発明の（ｂ）工程にａ当する膜厚増
大工程を省略した以外は実施例１と同様にして得た被膜
形成ステンレス板は、その膜厚が０３μｍである以外は
、被膜硬度、耐溶剤性及び耐水性において実施例１と同
一であった。
大工程を省略した以外は実施例１と同様にして得た被膜
形成ステンレス板は、その膜厚が０３μｍである以外は
、被膜硬度、耐溶剤性及び耐水性において実施例１と同
一であった。
Claims (4)
- （１）（ａ） フルオロアルケン及び／又はフルオロ
アルカンの雰囲気中に基材を置いてグロー放電すること
により基材上に含フツ素高分子化合物被膜を形成し、 （ｂ） 必要に応じて、引き続いてフルオロアルケン
及び／又はフルオロアルカンのより高い圧力”の雰囲気
に上記被膜を形成した基材を置くことによって形成被膜
の膜厚を増大させ、 （ｃ）次に上記被膜を形成した基材を熱処理することを
特徴とする基材上に耐久性の優れた含フツ素高分子化合
物被膜を形成する方法。 - （２）基材が無機質暴利である請求の範囲第１項に記載
の方法。 - （３）基材が有機質基材である請求の範囲第１項に記載
の方法。 - （４）不活性ガス中で熱処理を行う請求の範囲第１項に
記載の方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3325983A JPS59159806A (ja) | 1983-02-28 | 1983-02-28 | 含フツ素高分子化合物被膜の形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3325983A JPS59159806A (ja) | 1983-02-28 | 1983-02-28 | 含フツ素高分子化合物被膜の形成方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59159806A true JPS59159806A (ja) | 1984-09-10 |
| JPH0314043B2 JPH0314043B2 (ja) | 1991-02-25 |
Family
ID=12381509
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3325983A Granted JPS59159806A (ja) | 1983-02-28 | 1983-02-28 | 含フツ素高分子化合物被膜の形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59159806A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6044503A (ja) * | 1983-07-22 | 1985-03-09 | シ−メンス、アクチエンゲゼルシヤフト | グロ−重合体層の形成方法 |
| JPS61227978A (ja) * | 1985-03-29 | 1986-10-11 | ジェイエスアール株式会社 | プラズマ重合膜被覆セラミツクス製品 |
| JPS62111739A (ja) * | 1985-11-11 | 1987-05-22 | 株式会社クラレ | 多層シ−ト状構造物及びその製造方法 |
| US4902529A (en) * | 1987-11-25 | 1990-02-20 | Linde Aktiengesellschaft | Process for the fluorination of synthetic resin articles |
-
1983
- 1983-02-28 JP JP3325983A patent/JPS59159806A/ja active Granted
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6044503A (ja) * | 1983-07-22 | 1985-03-09 | シ−メンス、アクチエンゲゼルシヤフト | グロ−重合体層の形成方法 |
| JPH0514722B2 (ja) * | 1983-07-22 | 1993-02-25 | Siemens Ag | |
| JPS61227978A (ja) * | 1985-03-29 | 1986-10-11 | ジェイエスアール株式会社 | プラズマ重合膜被覆セラミツクス製品 |
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| JPS62111739A (ja) * | 1985-11-11 | 1987-05-22 | 株式会社クラレ | 多層シ−ト状構造物及びその製造方法 |
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0314043B2 (ja) | 1991-02-25 |
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