CN111501023A - 亲水防雾膜层及其制备方法、应用和产品 - Google Patents

亲水防雾膜层及其制备方法、应用和产品 Download PDF

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CN111501023A CN202010364202.XA CN202010364202A CN111501023A CN 111501023 A CN111501023 A CN 111501023A CN 202010364202 A CN202010364202 A CN 202010364202A CN 111501023 A CN111501023 A CN 111501023A
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Abstract

亲水防雾膜层及其制备方法、应用和产品，其中所述亲水防雾膜层通过含有羧酸基团的烯烃单体、含有磺酸基团的烯烃单体或含有羟基基团的烯烃单体藉由等离子化学气相沉积法制备，所述亲水防雾膜层具有良好的防雾性能和透光性能，尤其适用于透明基材。

Description

亲水防雾膜层及其制备方法、应用和产品
技术领域
本发明涉及防雾领域，尤其涉及到亲水防雾膜层及其制备方法、应用和产品。
背景技术
透明材料(如玻璃，塑料)在工农业生产和口常生活以及军事领域中有着广泛 的用途，例如护目镜、激光防护镜、望远镜及各种摄像设备的镜头、各种机械的 观察窗、运动潜水镜、浴室玻璃、化学或生物防护面具、车辆挡风玻璃及后视镜、 排爆处理防护设备、头盔、太阳能电池板、测量仪器的观察窗、玻璃罩、温室的 玻璃墙等。然而，在冬天哈气时眼镜会让我们“雾里看花”；在寒冷的冬天由于 挡风玻璃表面结雾会大大影响我们的能见度，甚至造成事故。雾化问题给人们的 工作和生活带来诸多不便，防雾技术与防雾材料的研究与开发倍受科学界和企业 界的关注。
在透明材料表面设置防雾涂层是一种常见防雾手段，防雾涂层通常有两种类 型，一种是在透明材料表面形成亲水表面，水滴在亲水表面铺展成膜，另一种是 在透明材料表面形成疏水表面，水滴在疏水表面成珠滚落。后者存在的缺点是在 有大量水汽迅速冷凝时，仍会出现雾化现象。前者形成均匀的水膜，以消除光线 的漫反射现象而到达防雾的目的。
目前，亲水防雾涂层的技术改进主要集中在于传统液相处理法，包括凝胶- 溶胶法、层层自组装法、自由基溶液聚合法等。这些方法耗时长、效率低，不适 合大规模的工业化。另外在液相处理方法中，存在一个缺点：溶剂、反应介质的 存在，可能与基材发生反应，破坏基材结构，产生潜在的危害。
显然，目前的亲水防雾涂层技术的应用存在着较大的限制，无法满足工业化 生产的需求。
发明内容
本发明的一个优势在于提供一亲水防雾膜层及其制备方法、应用和产品，其 中所述亲水防雾膜层适于大规模在基材表面被制备，并且尤其适用于透明基材。
本发明的另一优势在于提供一亲水防雾膜层及其制备方法、应用和产品，其 中所述亲水防雾膜层适于大规模在基材表面被制备，并且本身具有长效防雾性能。
本发明的另一优势在于提供一亲水防雾膜层及其制备方法、应用和产品，其 中所述亲水防雾膜层本身非常耐磨并且和基材结合牢固。
本发明的另一优势在于提供一亲水防雾膜层及其制备方法，其中所述亲水防 雾膜层本身具有较好的透光性能。
本发明的另一优势在于提供一亲水防雾膜层及其制备方法，其中所述亲水防 雾膜层适用于多种类型的基材，并且在形成所述亲水防雾膜层于基材表面的过程 中，基材本身结构不会被损坏。
本发明的另一优势在于提供一亲水防雾膜层及其制备方法，其中所述亲水防 雾膜层能够通过等离子化学气相沉积法形成于基材表面。
根据本发明的一方面，本发明提供了一亲水防雾膜层，其中所述亲水防雾膜 层以烯烃单体作为反应原料通过等离子体化学气相沉积法在一基材表面形成，其 中所述烯烃单体选自组合含有羧酸基团的烯烃单体、含有磺酸基团的烯烃单体和 含有羟基基团的烯烃单体中的一种或者几种。
根据本发明的一个实施例，所述烯烃单体是含有羧酸基团的烯烃单体，并且 具有如下结构式：
Figure BDA0002476015570000021
其中R1、R2、R3选自氢基、烷基、芳香基团。
根据本发明的一个实施例，所述烯烃单体是含有磺酸基团的烯烃单体，并且 具有如下结构式：
Figure BDA0002476015570000022
其中中R4、R5、R6选自氢基、烷基、芳香基团，其中R7选自氢基、烷基、芳香 基团、金属阳离子，其中R12选自键、亚烷基、芳基亚基基团。
根据本发明的一个实施例，所述烯烃单体是含有羟基基团的烯烃单体，并且 具有如下结构式：
Figure BDA0002476015570000031
其中R8、R9、R10各自选自氢基、烷基、芳香基团，其中R11选自亚烷基、芳基 亚基基团、-COO-R13、-OCO-R14、-CO-R15，R13、R14、R15各自选自亚烷基、 芳基亚基基团。
根据本发明的一个实施例，所述烯烃单体选自组合丙烯酸、甲基丙烯酸、乙 烯基磺酸钠、苯基乙烯基磺酸、对苯乙烯基磺酸钠、丙烯酸羟乙酯、甲基丙烯酸 羟乙酯和甲基丙烯酸羟丙酯中的一种或几种。
根据本发明的一个实施例，所述亲水防雾膜层的接触角不大于10°。
根据本发明的一个实施例，所述亲水防雾膜层的厚度为20nm-10μm，硬度 为HB-4H。
根据本发明的一个实施例，所述亲水防雾膜层的透光率大于91％。
根据本发明的另一方面，本发明提供了一种亲水防雾膜层的制备方法，其包 括如下步骤：
在一PECVD装置内以烯烃单体为反应原料通过等离子体化学气相沉积法在 一基材表面形成一亲水防雾膜层，其中所述烯烃单体选自组合含有羧酸基团的烯 烃单体、含有磺酸基团的烯烃单体和含有羟基基团的烯烃单体中的一种或者几种。
根据本发明的另一方面，本发明提供了一具有亲水防雾膜层的产品，其中所 述产品通过被暴露在一烯烃单体作为反应原料的环境中，通过等离子体化学气相 沉积法沉积在产品表面的至少部分形成一亲水防雾膜层制备而成，其中所述烯烃 单体选自组合含有羧酸基团的烯烃单体、含有磺酸基团的烯烃单体和含有羟基基 团的烯烃单体中的一种或者几种。
具体实施方式
以下描述用于揭露本发明以使本领域技术人员能够实现本发明。以下描述中 的优选实施例只作为举例，本领域技术人员可以想到其他显而易见的变型。在以 下描述中界定的本发明的基本原理可以应用于其他实施方案、变形方案、改进方 案、等同方案以及没有背离本发明的精神和范围的其他技术方案。
可以理解的是，术语“一”应理解为“至少一”或“一个或多个”，即在一 个实施例中，一个元件的数量可以为一个，而在另外的实施例中，该元件的数量 可以为多个，术语“一”不能理解为对数量的限制。
本发明提供了亲水防雾膜层及其制备方法、应用和产品，所述亲水防雾膜层 具有良好的亲水性。水滴能够铺展在所述亲水防雾膜层的表面并且形成一层相对 均匀的水膜，从而减少光线漫反射，以起到防雾的功能。当所述亲水防雾膜层被 附着在一基材表面时，能够使得所述基材表面具有较好的防雾性能。
所述亲水防雾膜层本身具有较好的透光性能，这使得所述亲水防雾膜层能够 被应用于透明的基材，并且不会对于透明基材的透光性能造成过多的影响。所述 亲水防雾膜层的透光率可以达到91％以上。
在本发明的一些实施例中，所述基材的类型可以但是并不限制于玻璃、金属、 陶瓷、塑料或聚合物材质。值得注意的是，由于所述亲水防雾膜层具有良好的透 光性，因此所述亲水防雾膜层尤其适于被应用于透明基材。详细地说，所述基材 可以但是并不限制于护目镜、激光防护镜、望远镜及各种摄像设备的镜头、各种 机械的观察窗、运动潜水镜、浴室玻璃、化学或生物防护面具、车辆挡风玻璃及 后视镜、排爆处理防护设备、头盔、太阳能电池板、测量仪器的观察窗、玻璃罩、 温室的玻璃墙等。
进一步地，所述亲水防雾膜层对水的接触角可以在40°以下，比如说30°，20°，10°，5°或者是更低，并且在没有紫外光照射下可以长时间保持。比如说在可见 光下放置6个月接触角保持在原先水平。
所述亲水防雾膜层具有优良的耐磨损性能，并且能够牢固地和所述基材结合。 在施加1KG的载荷用湿无尘布摩擦2000次后接触角仍然可以保持在原先的水平。 举例说明，原先所述亲水防雾膜层的接触角为9°，在6个月后，接触角仍然为9°， 并且施加1KG的载荷用湿无尘布摩擦2000次后接触角仍然在9°。
所述亲水防雾膜层，可以被制备为具有较小的厚度，其厚度范围举例地但不 限于10nm～20000nm，比如说20nm～10μm。
根据本发明的实施例，所述亲水防雾膜层通过等离子体增强化学气相沉积(PECVD)工艺形成于所述基材表面。也就是说，在制备过程中，所述基材表面被 暴露于一等离体子增强化学气相沉积反应装置的腔室中，在该腔室中形成等离子 体，并且通过反应原料沉积反应形成所述亲水防雾膜层于所述基材的表面。
等离子体增强化学气相沉积(PECVD)工艺相较于现有的其它沉积工艺具有 很多优点：(1)干式成膜不需要使用有机溶剂；(2)等离子体对基材表面的刻蚀作 用，使所沉积上的薄膜与基材粘结性好；(3)可以对不规则基材表面均匀沉积镀 膜，气相渗透性极强；(4)涂层可设计性好，相比于液相法微米级控制精度，化 学气相法可在纳米级尺度进行涂层厚度的控制；(5)涂层结构设计容易，化学气 相法使用等离子体激活，对不同材料的复合涂层不需要设计特定的引发剂进行引 发，通过输入能量的调控即可将多种原材料复合在一起；(6)致密性好，化学气 相沉积法在等离子体引发过程中往往会对多个活性位点进行激活，类似于溶液反 应中一个分子上有多个官能团，分子链之间通过多个官能团形成交联结构；(7) 作为一种镀膜处理技术手段，其普适性极好，镀膜的对象、镀膜使用的原材料选择的范围都很广。
所述等离子体增强化学气相沉积(PECVD)工艺通过辉光放电产生等离子体， 放电的方法包括射频放电、微波放电、中频放电、高频放电、电火花放电，所述 高频放电和中频放电的波形为正弦或双极脉冲。
所述亲水防雾膜层通过含羧酸基团、磺酸基团或者是羟基基团的烯烃类单体 制备。这类单体在所述基材表面形成活性氧自由基，可以和空穴反应生成氧基空 穴具有亲水表面，并且本发明提供的所述亲水防雾膜层不会因为随着放置时间的 增加，而导致表面的C、O含量改变以及含氧基团改变，从而使得防雾效果降低。 换句话说，本发明提供的所述亲水防雾膜层具有长效防雾性。
含羧酸基团的烯烃类单体可以具有如下结构式：
Figure BDA0002476015570000051
其中R1、R2、R3可以是氢基、烷基或者是芳香基团。R1、R2、R3可以是相 同的，也可以是不相同的。
含羧酸基团的烯烃类单体的烯基和羧基之间可以是直接相连的，也可以是通 过其他基团，比如说烷基或者芳香基团相连的。
含羧酸基团的烯烃类单体可以是甲基丙烯酸、丙烯酸、或者是苯基丙烯酸。
含磺酸基团的烯烃类单体可以具有如下结构式：
Figure BDA0002476015570000052
其中R4、R5或者R6可以是氢基、烷基或者是芳香基团。R7可以是H或者是 烷基或者是芳香基团。R7也可以是金属阳离子，从而使得含磺酸基团的烯烃类单 体成为磺酸盐。R12选自键、亚烷基、芳基亚基基团。R4、R5、R6、R7可以是相 同的，也可以是不相同的。
含磺酸基团的烯烃类单体的烯基和磺酸基之间可以是直接相连的，也可以是 通过其他基团，比如说烷基或者芳香基团相连的。
含磺酸基团的烯烃类单体可以是乙烯基磺酸钠、苯基乙烯基磺酸、对苯乙烯 基磺酸钠。
含羟基基团的烯烃类单体可以具有如下结构式：
Figure BDA0002476015570000061
其中R8、R9或者R10可以是氢基、烷基或者是芳香基团。R11可以是亚烷基、 芳基亚基基团、或者是-COO-R13、或者是-OCO-R14、或者是-CO-R15。R13、R14、 R15可以是亚烷基或者是芳基亚基基团。R8、R9、R10可以是相同的，也可以是 不相同的。
可以理解的是，含羟基基团的烯烃单体的烯基和羟基也可以是直接相连接的。
含羟基的烯烃类单体可以是丙烯酸羟乙酯、甲基丙烯酸羟乙酯和甲基丙烯酸 羟丙酯。
进一步地，根据本发明的实施例，所述亲水防雾膜层的制备过程可以是：
(1)前处理：放置所述基材于所述PECVD装置的反应腔室，抽真空后通 入等离子源气体，开启运动机构使得所述基材在所述反应腔室内运动；
(2)沉积：在所述PECVD装置内以烯烃单体为反应原料通过等离子体增 强化学气相沉积法在所述基材表面形成所述亲水防雾膜层，其中所述烯烃单体选 自组合含有羧酸基团的烯烃单体、含有磺酸基团的烯烃单体和含有羟基基团的烯 烃单体中的一种或者几种；以及
(3)后处理：停止等离子体放电，抽真空后通入大气至一个大气压，停止 所述基材运动，然后取出形成有所述亲水防雾膜层的所述基材。
可以理解的是，所述等离子源气体可以是惰性气体或者是氮气、或者是氧气 等。所述等离子源气体可以是单一气体或者是上述单一气体的混合气体，比如说 惰性气体中He和Ar的混合气体。
值得一提的是，所述亲水防雾膜层能够被大批量制备，并且制备的步骤简单， 方法，制备获得的所述亲水防雾膜层具有长效防雾性能，适于工业化的应用。
根据本发明的实施例，所述亲水防雾膜层的整体制备方法可以包括如下步骤：
(1)前处理：
将基材置于所述PECVD装置的反应腔室内，对反应腔室连续抽真空，将反 应腔室内的真空度抽到10～200毫托，并通入所述等离子源气体，开启运动机构， 使基材在反应腔室内产生运动；
(2)亲水防雾膜层的制备：
进行以下步骤，在基材表面制备所述亲水防雾膜层：
通入所述烯烃类单体到反应腔室内，至真空度为30～300毫托，开启等离子 体放电，进行化学气相沉积。
所述亲水防雾膜层：涂层总厚度为20nm-10μm；涂层的硬度为HB-4H；
(3)后处理:
停止等离子体放电，持续抽真空，保持反应腔室真空度为10～200毫托，1～ 5min后通入大气至一个大气压，停止基材的运动，然后取出基材即可；或者， 停止等离子体放电，向反应腔室内充入空气或惰性气体至压力2000-5000毫托， 然后抽真空至10-200毫托，进行上述充气和抽真空步骤至少一次，通入空气至 一个大气压，停止基材的运动，然后取出基材即可。
所述步骤(2)中，所述烯烃单体的流量可以是10～1000μL/min。
所述步骤(2)中，所述烯烃单体选自组合含有羧酸基团的烯烃单体、含有 磺酸基团的烯烃单体和含有羟基基团的烯烃单体中的一种或者几种。
所述步骤(2)中，当所述烯烃单体是含有羧酸基团的烯烃单体，含羧酸基 团的烯烃类单体可以具有如下结构式：
Figure BDA0002476015570000071
其中R1、R2、R3可以是氢基、烷基或者是芳香基团。R1、R2、R3可以是相 同的，也可以是不相同的。
含羧酸基团的烯烃类单体的烯基和羧基之间可以是直接相连的，也可以是通 过其他基团，比如说烷基或者芳香基团相连的。
所述步骤(2)中，含羧酸基团的烯烃类单体可以是甲基丙烯酸、丙烯酸、 或者是苯基丙烯酸。
所述步骤(2)中，当所述烯烃单体是含有磺酸基团的烯烃单体，所述含有 磺酸基团的烯烃类单体可以具有如下结构式：
Figure BDA0002476015570000081
其中R4、R5或者R6可以是氢基、烷基或者是芳香基团。R7可以是H或者是 烷基或者是芳香基团。R7也可以是金属阳离子，从而使得含磺酸基团的烯烃类单 体成为磺酸盐。R12选自键、亚烷基、芳基亚基基团。R4、R5、R6、R7可以是相 同的，也可以是不相同的。
含磺酸基团的烯烃类单体的烯基和磺酸基之间可以是直接相连的，也可以是 通过其他基团，比如说烷基或者芳香基团相连的。
所述步骤(2)中，含磺酸基团的烯烃类单体可以是乙烯基磺酸钠、苯基乙 烯基磺酸、对苯乙烯基磺酸钠。
所述步骤(2)中，当所述烯烃单体是含有羟基基团的烯烃单体，所述含有 羟基基团的烯烃类单体可以具有如下结构式：
Figure BDA0002476015570000082
其中R8、R9或者R10可以是氢基、烷基或者是芳香基团。R11可以是亚烷基、 芳基亚基基团、或者是-COO-R13、或者是-OCO-R14、或者是-CO-R15。R13、R14、 R15可以是亚烷基或者是芳基亚基基团。R8、R9、R10可以是相同的，也可以是 不相同的。
含羟基基团的烯烃单体的烯基和羟基也可以是直接相连接的。
所述步骤(2)中，含羟基的烯烃类单体可以是丙烯酸羟乙酯、甲基丙烯酸 羟乙酯和甲基丙烯酸羟丙酯。
所述步骤(1)中，所述等离子源气体可以是惰性气体，比如说He和/或Ar。
所述步骤(1)中，所述等离子源气体可以是氧气或者是氮气，流量为 2～200sccm。
所述步骤(1)中基材在反应腔室内产生运动，基材运动形式为基材相对反应 腔室进行直线往复运动或曲线运动，所述曲线运动包括圆周运动、椭圆周运动、 行星运动、球面运动或其他不规则路线的曲线运动。
所述步骤(1)中反应腔室为旋转体形腔室或者立方体形腔室，其容积为50～1000L，反应腔室的温度控制在30～60℃，所述惰性气体通入流量为5～300sccm。
所述步骤(2)中：等离子体放电，进行化学气相沉积，沉积过程中等离子体 放电过程为连续放电或脉冲放电，具体包括以下沉积过程至少一次：沉积过程包 括预处理阶段和镀膜阶段，预处理阶段等离子体放电功率为150～600W，持续 放电时间60～450s，然后进入镀膜阶段，调整等离子体放电功率为10～200W， 放电时间600～7200s。
所述步骤(2)中，等离子体放电方式为射频放电、微波放电、中频放电、高 频放电、电火花放电，所述高频放电和中频放电的波形为正弦或双极脉冲。
所述步骤(1)中基材为金属、玻璃及聚合物材质的具有防雾要求及高表面能 处理要求的产品，包括但不限于护目镜、激光防护镜、望远镜及各种摄像设备的 镜头、各种机械的观察窗、运动潜水镜、浴室玻璃、化学或生物防护面具、车辆 挡风玻璃及后视镜、排爆处理防护设备、头盔、太阳能电池板、测量仪器的观察 窗、玻璃罩、温室的玻璃墙等。
所获的所述亲水防雾膜层具有长效亲水性，对水的接触角均低于10°，放置 6个月后超亲水性仍然保持，并且施加1KG的载荷用湿无尘布摩擦2000次后接 触角仍低于10°，防雾性能优良，透光率可达91％以上，特别适用于透明基材的 防雾场合。
所述亲水防雾膜层能够改善所述基材表面的防雾性能，所述基材表面的防雾 方法可以是：将所述基材暴露在被暴露在所述烯烃单体作为反应原料的环境中， 通过等离子体化学气相沉积法沉积在所述基材表面的至少部分形成所述亲水防 雾膜层。
所述亲水防雾膜层能够被形成于产品的表面，以改善所述产品的防雾性能， 举例说明，一具有所述亲水防雾膜层的所述产品，所述产品通过被暴露在所述烯 烃单体作为反应原料的环境中，通过等离子体化学气相沉积法沉积在产品表面的 至少部分形成所述亲水防雾膜层制备而成。
以下通过具体实施例对本发明作进一步详细说明，需要指出的是，以下所述 实施例旨在便于对本发明的理解，而对其不起任何限定作用。
实施例1
本实施例的等离子增强化学气相沉积法制备的所述亲水防雾涂层的总厚度 约为100nm。
所述亲水防雾涂层可以按照以下步骤制备：
(1)前处理：
将基材置于PECVD装置的反应腔室内，闭合反应腔室并对反应腔室连续抽 真空，将反应腔室内的真空度抽到10毫托，通入惰性气体Ar，开启运动机构， 使基材在反应腔室内产生运动；
步骤(1)中基材为金属、玻璃及聚合物材质的具有防雾要求及高表面能处理 要求的产品。
步骤(1)中反应腔室为旋转体形腔室，反应腔室的容积为500L，反应腔室的 温度控制在45℃，通入惰性气体的流量为60sccm。
步骤(1)中基材在反应腔室内产生运动，基材运动形式为基材相对反应腔室 进行圆周运动，转速为6转/min。
(2)亲水防雾涂层制备：
通入烯烃单体蒸汽到反应腔室内，至真空度为30毫托时，开启等离子体放 电，进行化学气相沉积，在基材表面化学气相沉积制备亲水防雾涂层；
所述单体蒸汽成分为：丙烯酸，通入单体蒸汽为将单体通过加料泵进行雾化、 挥发并由低压10毫托引入反应腔室，所述通入单体蒸汽的流量为110μL/min；
所述步骤(2)中等离子体放电，进行化学气相沉积，沉积过程中等离子体放 电过程为连续放电，具体包括以下沉积过程一次：
沉积过程包括预处理阶段和镀膜阶段，预处理阶段等离子体放电功率为 300W，持续放电时间450s，然后进入镀膜阶段，调整等离子体放电功率为25W， 持续放电时间3600s。
所述步骤(2)中，等离子体放电方式为射频放电；
(3)后处理：
停止通入单体蒸汽，同时停止等离子体放电，持续抽真空，保持反应腔体真 空度为10毫托，1min后通入空气至一个大气压，然后取出基材即可。
实施例2
本实施例的等离子增强化学气相沉积法制备的所述亲水防雾涂层的总厚度 约为20nm。
所述亲水防雾涂层可以按照以下步骤制备：
(1)前处理：
将基材置于PECVD装置的反应腔室内，闭合反应腔室并对反应腔室连续抽 真空，将反应腔室内的真空度抽到10毫托，通入惰性气体He，开启运动机构， 使基材在反应腔室内产生运动；
步骤(1)中基材为金属、玻璃及聚合物材质的具有防雾要求及高表面能处理 要求的产品。
步骤(1)中反应腔室为旋转体形腔室，反应腔室的容积为100L，反应腔室的 温度控制在40℃，通入惰性气体的流量为50sccm。
步骤(1)中基材在反应腔室内产生运动，基材运动形式为基材相对反应腔室 进行圆周运动，转速为5转/min。
(2)亲水防雾涂层制备：
通入单体蒸汽到反应腔室内，至真空度为50毫托时，开启等离子体放电， 进行化学气相沉积，在基材表面化学气相沉积制备亲水防雾涂层；
所述烯烃单体蒸汽成分为：乙烯基磺酸钠，通入单体蒸汽为将单体通过加料 泵进行雾化、挥发并由低压10毫托引入反应腔室，所述通入单体蒸汽的流量为 100μL/min；
所述步骤(2)中等离子体放电，进行化学气相沉积，沉积过程中等离子体放 电过程为连续放电，具体包括以下沉积过程一次：
沉积过程包括预处理阶段和镀膜阶段，预处理阶段等离子体放电功率为 400W，持续放电时间400s，然后进入镀膜阶段，调整等离子体放电功率为20W， 持续放电时间800s。
所述步骤(2)中，等离子体放电方式为射频放电；
(3)后处理：
停止通入单体蒸汽，同时停止等离子体放电，持续抽真空，保持反应腔体真 空度为20毫托，2min后通入空气至一个大气压，然后取出基材即可。
实施例3
本实施例的等离子增强化学气相沉积法制备的所述亲水防雾涂层的总厚度 约为20nm。
所述亲水防雾涂层可以按照以下步骤制备：
(1)前处理：
将基材置于PECVD装置的反应腔室内，闭合反应腔室并对反应腔室连续抽 真空，将反应腔室内的真空度抽到10毫托，通入惰性气体He和Ar，开启运动 机构，使基材在反应腔室内产生运动；
步骤(1)中基材为金属、玻璃及聚合物材质的具有防雾要求及高表面能处理 要求的产品。
步骤(1)中反应腔室为旋转体形腔室，反应腔室的容积为1000L，反应腔室的 温度控制在40℃，通入惰性气体的流量为50sccm。
步骤(1)中基材在反应腔室内产生运动，基材运动形式为基材相对反应腔室 进行圆周运动，转速为5转/min。
(2)亲水防雾涂层制备：
通入烯烃单体蒸汽到反应腔室内，至真空度为50毫托时，开启等离子体放 电，进行化学气相沉积，在基材表面化学气相沉积制备亲水防雾涂层；
所述单体蒸汽成分为：丙烯酸羟乙酯，通入单体蒸汽为将单体通过加料泵进 行雾化、挥发并由低压10毫托引入反应腔室，所述通入单体蒸汽的流量为120 μL/min；
所述步骤(2)中等离子体放电，进行化学气相沉积，沉积过程中等离子体放 电过程为连续放电，具体包括以下沉积过程一次：
沉积过程包括预处理阶段和镀膜阶段，预处理阶段等离子体放电功率为 400W，持续放电时间400s，然后进入镀膜阶段，调整等离子体放电功率为20W， 持续放电时间700s。
所述步骤(2)中，等离子体放电方式为中频放电；
(3)后处理：
停止通入单体蒸汽，同时停止等离子体放电，持续抽真空，保持反应腔体真 空度为20毫托，2min后通入空气至一个大气压，然后取出基材即可。
实施例4
本实施例的等离子增强化学气相沉积法制备的所述亲水防雾涂层的总厚度 约为1000nm。
所述亲水防雾涂层可以按照以下步骤制备：
(1)前处理：
将基材置PECVD装置的反应腔室内，闭合反应腔室并对反应腔室连续抽真 空，将反应腔室内的真空度抽到10毫托，通入惰性气体He，开启运动机构，使 基材在反应腔室内产生运动；
步骤(1)中基材为透明玻璃。
步骤(1)中反应腔室为旋转体形腔室，反应腔室的容积为300L，反应腔室的 温度控制在40℃，通入惰性气体的流量为50sccm。
步骤(1)中基材在反应腔室内产生运动，基材运动形式为基材相对反应腔室 进行圆周运动，转速为5转/min。
(2)亲水防雾涂层制备：
通入烯烃单体蒸汽到反应腔室内，至真空度为50毫托时，开启等离子体放 电，进行化学气相沉积，在基材表面化学气相沉积制备亲水防雾涂层；
所述单体蒸汽成分为：丙烯酸、苯基乙烯基磺酸和甲基丙烯酸羟丙酯，通入 单体蒸汽为将单体通过加料泵进行雾化、挥发并由低压10毫托引入反应腔室， 所述通入单体蒸汽的流量为120μL/min；
所述步骤(2)中等离子体放电，进行化学气相沉积，沉积过程中等离子体放 电过程为连续放电，具体包括以下沉积过程一次：
沉积过程包括预处理阶段和镀膜阶段，预处理阶段等离子体放电功率为 400W，持续放电时间400s，然后进入镀膜阶段，调整等离子体放电功率为20W， 持续放电时间18000s。
所述步骤(2)中，等离子体放电方式为高频放电。
(3)后处理：
停止通入单体蒸汽，同时停止等离子体放电，持续抽真空，保持反应腔体真 空度为20毫托，2min后通入空气至一个大气压，然后取出基材即可。
实施例5
本实施例的等离子增强化学气相沉积法制备的所述亲水防雾涂层的总厚度 约为100nm。
所述亲水防雾涂层可以按照以下步骤制备：
(1)前处理：
将基材置于PECVD装置的反应腔室内，闭合反应腔室并对反应腔室连续抽 真空，将反应腔室内的真空度抽到10毫托，通入惰性气体Ar，开启运动机构， 使基材在反应腔室内产生运动；
步骤(1)中基材为金属、玻璃及聚合物材质的具有防雾要求及高表面能处理 要求的产品。
步骤(1)中反应腔室为旋转体形腔室，反应腔室的容积为500L，反应腔室的 温度控制在45℃，通入惰性气体的流量为60sccm。
步骤(1)中基材在反应腔室内产生运动，基材运动形式为基材相对反应腔室 进行圆周运动，转速为6转/min。
(2)亲水防雾涂层制备：
通入烯烃单体蒸汽到反应腔室内，至真空度为30毫托时，开启等离子体放 电，进行化学气相沉积，在基材表面化学气相沉积制备亲水防雾涂层；
所述单体蒸汽成分为：丙烯酸，通入单体蒸汽为将单体通过加料泵进行雾化、 挥发并由低压10毫托引入反应腔室，所述通入单体蒸汽的流量为110μL/min；
所述步骤(2)中等离子体放电，进行化学气相沉积，沉积过程中等离子体放 电过程为脉冲放电，具体包括以下沉积过程一次：
沉积过程包括预处理阶段和镀膜阶段，预处理阶段等离子体放电功率为 300W，放电时间450s，然后进入镀膜阶段，等离子体放电功率为25W，脉冲的 占空比为10:100，放电时间3600s。
所述步骤(2)中，等离子体放电方式为射频放电；
(3)后处理：
停止通入单体蒸汽，同时停止等离子体放电，持续抽真空，保持反应腔体真 空度为10毫托，1min后通入空气至一个大气压，然后取出基材即可。
实施例6
本实施例的等离子增强化学气相沉积法制备的所述亲水防雾涂层的总厚度 约为20nm。
所述亲水防雾涂层可以按照以下步骤制备：
(1)前处理：
将基材置于PECVD装置的反应腔室内，闭合反应腔室并对反应腔室连续抽 真空，将反应腔室内的真空度抽到10毫托，通入惰性气体He，开启运动机构， 使基材在反应腔室内产生运动；
步骤(1)中基材为金属、玻璃及聚合物材质的具有防雾要求及高表面能处理 要求的产品。
步骤(1)中反应腔室为旋转体形腔室，反应腔室的容积为100L，反应腔室的 温度控制在40℃，通入惰性气体的流量为50sccm。
步骤(1)中基材在反应腔室内产生运动，基材运动形式为基材相对反应腔室 进行圆周运动，转速为5转/min。
(2)亲水防雾涂层制备：
通入单体蒸汽到反应腔室内，至真空度为50毫托时，开启等离子体放电， 进行化学气相沉积，在基材表面化学气相沉积制备亲水防雾涂层；
所述烯烃单体蒸汽成分为：乙烯基磺酸钠，通入单体蒸汽为将单体通过加料 泵进行雾化、挥发并由低压10毫托引入反应腔室，所述通入单体蒸汽的流量为 100μL/min；
所述步骤(2)中等离子体放电，进行化学气相沉积，沉积过程中等离子体放 电过程为脉冲放电，具体包括以下沉积过程一次：
沉积过程包括预处理阶段和镀膜阶段，预处理阶段等离子体放电功率为 400W，持续放电时间400s，然后进入镀膜阶段，等离子体放电功率为20W，脉 冲的占空比5:100，放电时间800s。
所述步骤(2)中，等离子体放电方式为射频放电；
(3)后处理：
停止通入单体蒸汽，同时停止等离子体放电，持续抽真空，保持反应腔体真 空度为20毫托，2min后通入空气至一个大气压，然后取出基材即可。
上述各实施例施镀后的基材，进行涂层厚度、水接触角、透光率测试。
纳米涂层厚度，使用美国FilmetricsF20-UV-薄膜厚度测量仪进行检测。
纳米涂层水接触角，根据GB/T 30447-2013标准进行测试。
纳米涂层透光率，使用美国Perkin-Elmer-Lambda 950型号的紫外可见分光 光度计进行检测。
Figure BDA0002476015570000161
本领域的技术人员应理解，上述描述中所示的本发明的实施例只作为举例而 并不限制本发明。本发明的目的已经完整并有效地实现。本发明的功能及结构原 理已在实施例中展示和说明，在没有背离所述原理下，本发明的实施方式可以有 任何变形或修改。

Claims (26)

1.一亲水防雾膜层，其特征在于，其以烯烃单体作为反应原料通过等离子体化学气相沉积法在一基材表面形成，其中所述烯烃单体选自组合含有羧酸基团的烯烃单体、含有磺酸基团的烯烃单体和含有羟基基团的烯烃单体中的一种或者几种。
2.根据权利要求1所述的亲水防雾膜层，其中所述烯烃单体是含有羧酸基团的烯烃单体，并且具有如下结构式：
Figure FDA0002476015560000011
其中R1、R2、R3选自氢基、烷基、芳香基团。
3.根据权利要求1所述的亲水防雾基团，其中所述烯烃单体是含有磺酸基团的烯烃单体，并且具有如下结构式：
Figure FDA0002476015560000012
其中中R4、R5、R6选自氢基、烷基、芳香基团，其中R7选自氢基、烷基、芳香基团、金属阳离子，其中R12选自键、亚烷基、芳基亚基基团。
4.根据权利要求1所述的亲水防雾膜层，其中所述烯烃单体是含有羟基基团的烯烃单体，并且具有如下结构式：
Figure FDA0002476015560000013
其中R8、R9、R10各自选自氢基、烷基、芳香基团，其中R11选自亚烷基、芳基亚基基团、-COO-R13、-OCO-R14、-CO-R15，R13、R14、R15各自选自亚烷基、芳基亚基基团。
5.根据权利要求1所述的亲水防雾膜层，其中所述烯烃单体选自组合丙烯酸、甲基丙烯酸、乙烯基磺酸钠、苯基乙烯基磺酸、对苯乙烯基磺酸钠、丙烯酸羟乙酯、甲基丙烯酸羟乙酯和甲基丙烯酸羟丙酯中的一种或几种。
6.根据权利要求1至5任一所述的亲水防雾膜层，其中所述亲水防雾膜层的接触角不大于10°。
7.根据权利要求1至5任一所述的亲水防雾膜层，其中所述亲水防雾膜层的厚度为20nm-10μm，硬度为HB-4H。
8.根据权利要求1至5任一所述的亲水防雾膜层，其中所述亲水防雾膜层的透光率大于91％。
9.一种亲水防雾膜层的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：
在一PECVD装置内以烯烃单体为反应原料通过等离子体化学气相沉积法在一基材表面形成一亲水防雾膜层，其中所述烯烃单体选自组合含有羧酸基团的烯烃单体、含有磺酸基团的烯烃单体和含有羟基基团的烯烃单体中的一种或者几种。
10.根据权利要求9所述的制备方法，其中所述烯烃单体是含有羧酸基团的烯烃单体，并且具有如下结构式：
Figure FDA0002476015560000021
其中R1、R2、R3选自氢基、烷基、芳香基团。
11.根据权利要求9所述的制备方法，其中所述烯烃单体是含有磺酸基团的烯烃单体，并且具有如下结构式：
Figure FDA0002476015560000022
其中中R4、R5、R6选自氢基、烷基、芳香基团，其中R7选自氢基、烷基、芳香基团、金属阳离子，其中R12选自键、亚烷基、芳基亚基基团。
12.根据权利要求9所述的制备方法，其中所述烯烃单体是含有羟基基团的烯烃单体，并且具有如下结构式：
Figure FDA0002476015560000023
其中R8、R9、R10各自选自氢基、烷基、芳香基团，其中R11选自亚烷基、芳基亚基基团、-COO-R13、-OCO-R14、-CO-R15，R13、R14、R15各自选自亚烷基、芳基亚基基团。
13.根据权利要求9所述的制备方法，其中所述烯烃单体选自组合丙烯酸、甲基丙烯酸、乙烯基磺酸钠、苯基乙烯基磺酸、对苯乙烯基磺酸钠、丙烯酸羟乙酯、甲基丙烯酸羟乙酯和甲基丙烯酸羟丙酯中的一种或几种。
14.根据权利要求9至13任一所述的制备方法，其中在通入所述反应原料之前，先通入一等离子源，其中所述等离子源是惰性气体。
15.根据权利要求9至13任一所述的制备方法，其中所述PECVD装置的反应腔室的温度控制为30～60℃。
16.根据权利要求9至13任一所述的制备方法，其中在上述方法中，所述形成过程包括一预处理阶段和一镀膜阶段，在所述预处理阶段，等离子体放电功率为150～600W，持续放电时间60～450s，然后进入所述镀膜阶段，调整等离子体放电功率为10～200W，持续放电时间600～7200s。
17.一具有亲水防雾膜层的产品，其中所述产品通过被暴露在一烯烃单体作为反应原料的环境中，通过等离子体化学气相沉积法沉积在产品表面的至少部分形成一亲水防雾膜层制备而成，其中所述烯烃单体选自组合含有羧酸基团的烯烃单体、含有磺酸基团的烯烃单体和含有羟基基团的烯烃单体中的一种或者几种。
18.根据权利要求17所述的产品，其中所述烯烃单体是含有羧酸基团的烯烃单体，并且具有如下结构式：
Figure FDA0002476015560000031
其中R1、R2、R3选自氢基、烷基、芳香基团。
19.根据权利要求17所述的产品，其中所述烯烃单体是含有磺酸基团的烯烃单体，并且具有如下结构式：
Figure FDA0002476015560000032
其中中R4、R5、R6选自氢基、烷基、芳香基团，其中R7选自氢基、烷基、芳香基团、金属阳离子，其中R12选自键、亚烷基、芳基亚基基团。
20.根据权利要求17所述的产品，其中所述烯烃单体是含有羟基基团的烯烃单体，并且具有如下结构式：
Figure FDA0002476015560000033
其中R8、R9、R10各自选自氢基、烷基、芳香基团，其中R11选自亚烷基、芳基亚基基团、-COO-R13、-OCO-R14、-CO-R15，R13、R14、R15各自选自亚烷基、芳基亚基基团。
21.根据权利要求17所述的产品，其中所述烯烃单体选自组合丙烯酸、甲基丙烯酸、乙烯基磺酸钠、苯基乙烯基磺酸、对苯乙烯基磺酸钠、丙烯酸羟乙酯、甲基丙烯酸羟乙酯和甲基丙烯酸羟丙酯中的一种或几种。
22.根据权利要求17至21任一所述的产品，其中形成有所述亲水防雾膜层的所述产品表面的接触角不大于10°。
23.根据权利要求17至21任一所述的产品，其中所述亲水防雾膜层的厚度为20nm-10μm，硬度为HB-4H。
24.根据权利要求17至21任一所述的产品，其中所述亲水防雾膜层的透光率大于91％，所述产品包括透明材料，所述亲水防雾膜层形成于所述透明材料的表面。
25.根据权利要求17至21任一所述的产品，其中所述产品选自：玻璃产品、金属产品、陶瓷产品、塑料产品中的一种。
26.根据权利要求17至21任一所述的产品，其中所述产品是透明产品。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2021219115A1 (zh) * 2020-04-30 2021-11-04 江苏菲沃泰纳米科技股份有限公司 亲水防雾膜层及其制备方法、应用和产品
WO2022188639A1 (zh) * 2021-03-12 2022-09-15 江苏菲沃泰纳米科技股份有限公司 带有亲水防雾膜层的护目镜和镀膜方法
WO2023185465A1 (zh) * 2022-03-29 2023-10-05 江苏菲沃泰纳米科技股份有限公司 一种亲水涂层、制备方法及器件
WO2024037567A1 (zh) * 2022-08-16 2024-02-22 江苏菲沃泰纳米科技股份有限公司 一种亲水涂层、制备方法及器件

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5487920A (en) * 1994-04-19 1996-01-30 The Boc Group, Inc. Process for plasma-enhanced chemical vapor deposition of anti-fog and anti-scratch coatings onto various substrates
US6342275B1 (en) * 1993-12-24 2002-01-29 Seiko Epson Corporation Method and apparatus for atmospheric pressure plasma surface treatment, method of manufacturing semiconductor device, and method of manufacturing ink jet printing head
KR20020043702A (ko) * 2000-12-02 2002-06-12 강병구 저온 플라즈마 중합법을 이용한 중합박막의 형성방법
CN1398305A (zh) * 2000-12-12 2003-02-19 柯尼卡株式会社 薄膜形成方法、具有薄膜的物品、光学膜、介电体覆盖电极及等离子体放电处理装置
US20110313363A1 (en) * 2010-06-17 2011-12-22 Becton, Dickinson And Company Medical Components Having Coated Surfaces Exhibiting Low Friction and Low Reactivity
CN110144569A (zh) * 2019-07-03 2019-08-20 东莞市和域战士纳米科技有限公司 长效亲水薄膜的制备方法

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100438941B1 (ko) * 2001-10-12 2004-07-03 주식회사 엘지이아이 플라즈마를 이용한 내식성 및 친수성을 가지는 다층막형성방법
KR100529209B1 (ko) * 2002-08-28 2005-11-17 한국과학기술연구원 세포 친화성이 향상된 생분해성의 조직 공학용 다공성고분자 지지체의 제조방법
CN106609392A (zh) * 2015-10-23 2017-05-03 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 二维纳米薄膜制备装置及方法
EP3320986B1 (en) * 2016-11-09 2020-07-01 Europlasma NV Hydrophilic, multifunctional ultra-thin coatings with excellent stability and durability
CN111501023A (zh) * 2020-04-30 2020-08-07 江苏菲沃泰纳米科技有限公司 亲水防雾膜层及其制备方法、应用和产品

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6342275B1 (en) * 1993-12-24 2002-01-29 Seiko Epson Corporation Method and apparatus for atmospheric pressure plasma surface treatment, method of manufacturing semiconductor device, and method of manufacturing ink jet printing head
US5487920A (en) * 1994-04-19 1996-01-30 The Boc Group, Inc. Process for plasma-enhanced chemical vapor deposition of anti-fog and anti-scratch coatings onto various substrates
KR20020043702A (ko) * 2000-12-02 2002-06-12 강병구 저온 플라즈마 중합법을 이용한 중합박막의 형성방법
CN1398305A (zh) * 2000-12-12 2003-02-19 柯尼卡株式会社 薄膜形成方法、具有薄膜的物品、光学膜、介电体覆盖电极及等离子体放电处理装置
US20110313363A1 (en) * 2010-06-17 2011-12-22 Becton, Dickinson And Company Medical Components Having Coated Surfaces Exhibiting Low Friction and Low Reactivity
CN110144569A (zh) * 2019-07-03 2019-08-20 东莞市和域战士纳米科技有限公司 长效亲水薄膜的制备方法

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2021219115A1 (zh) * 2020-04-30 2021-11-04 江苏菲沃泰纳米科技股份有限公司 亲水防雾膜层及其制备方法、应用和产品
WO2022188639A1 (zh) * 2021-03-12 2022-09-15 江苏菲沃泰纳米科技股份有限公司 带有亲水防雾膜层的护目镜和镀膜方法
CN115079317A (zh) * 2021-03-12 2022-09-20 江苏菲沃泰纳米科技股份有限公司 带有亲水防雾膜层的护目镜和镀膜方法
WO2023185465A1 (zh) * 2022-03-29 2023-10-05 江苏菲沃泰纳米科技股份有限公司 一种亲水涂层、制备方法及器件
CN116925606A (zh) * 2022-03-29 2023-10-24 江苏菲沃泰纳米科技股份有限公司 一种亲水涂层、制备方法及器件
WO2024037567A1 (zh) * 2022-08-16 2024-02-22 江苏菲沃泰纳米科技股份有限公司 一种亲水涂层、制备方法及器件
CN117625020A (zh) * 2022-08-16 2024-03-01 江苏菲沃泰纳米科技股份有限公司 一种亲水涂层、制备方法及器件

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