JPS62191025A - 排ガスの処理方法 - Google Patents
排ガスの処理方法Info
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- JPS62191025A JPS62191025A JP61031183A JP3118386A JPS62191025A JP S62191025 A JPS62191025 A JP S62191025A JP 61031183 A JP61031183 A JP 61031183A JP 3118386 A JP3118386 A JP 3118386A JP S62191025 A JPS62191025 A JP S62191025A
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- alkali
- treating
- ultraviolet irradiation
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Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 15
- 150000002896 organic halogen compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 9
- 239000003513 alkali Substances 0.000 claims abstract description 8
- 238000003756 stirring Methods 0.000 claims description 3
- XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N Trichloroethylene Chemical group ClC=C(Cl)Cl XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 6
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 abstract description 4
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 abstract description 3
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 abstract description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 abstract 2
- UBOXGVDOUJQMTN-UHFFFAOYSA-N trichloroethylene Natural products ClCC(Cl)Cl UBOXGVDOUJQMTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 25
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 10
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- CYTYCFOTNPOANT-UHFFFAOYSA-N Perchloroethylene Chemical group ClC(Cl)=C(Cl)Cl CYTYCFOTNPOANT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229950011008 tetrachloroethylene Drugs 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 3
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Treating Waste Gases (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野コ
本発明は半導体製造工程、金属の洗浄工程等で発生する
有機ハロゲン化合物を含有する排ガスの処理方法に関す
る。
有機ハロゲン化合物を含有する排ガスの処理方法に関す
る。
[従来の技術]
従来より半導体製造工程、金属の洗浄工程等で発生する
トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン等を含む排
ガスの処理方法として、活性炭による吸着処理が行なわ
れている。
トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン等を含む排
ガスの処理方法として、活性炭による吸着処理が行なわ
れている。
[発明が解決しようとする問題点]
しかしながら活性炭吸着処理では排ガスの処理性能は使
用初期には非常に高いが、使用途中で活性炭の吸着能力
が低下してしまうという欠点があり、このため排ガスの
処理途中で飽和した活性炭の交換、再生を行なう必要が
生じる。
用初期には非常に高いが、使用途中で活性炭の吸着能力
が低下してしまうという欠点があり、このため排ガスの
処理途中で飽和した活性炭の交換、再生を行なう必要が
生じる。
この発明の目的は上記した欠点を解消し、排ガスの処理
を継続して大量に行なうことのできる排ガスの処理方法
を提供することを目的とする。
を継続して大量に行なうことのできる排ガスの処理方法
を提供することを目的とする。
[問題点を解決するための手段]
本発明は有機ハロゲン化合物を含む排ガスを紫外線照射
処理する第1工程と、この第1工程で得られるガスをア
ルカリで処理する第2工程とを具備してなることを特徴
とする排ガスの処理方法である。
処理する第1工程と、この第1工程で得られるガスをア
ルカリで処理する第2工程とを具備してなることを特徴
とする排ガスの処理方法である。
[実施例]
次に本発明を実施例によって説明する。
第1図は本発明の方法を実施するための排ガス処理装置
の一実施例を示すブロック図、第2図は紫外線処理装置
の概略図である。
の一実施例を示すブロック図、第2図は紫外線処理装置
の概略図である。
第1図中、符号1はトリクロロエチレン、テトラクロロ
エチレン等の有機ハロゲン化合物を含む排ガスでおる。
エチレン等の有機ハロゲン化合物を含む排ガスでおる。
排ガス1は送風機2により第2図に示した内部照射型の
低圧水銀ランプ8で構成された紫外線照射処理装置3の
ガス導入管7に導かれ、紫外線を照射処理される。紫外
線照射処理された分解ガス4はアルカリ洗浄装置5に送
られ、ここでは紫外線照射処理によって発生した■αな
どの酸性分解ガスをアルカリ洗浄袋@5で無害化処理す
る。なお、前記アルカリ洗浄装置ではアルカリ剤6、例
えばNaOHの添加により洗浄装置内のpHが例えば常
時8〜10になるように調整する。
低圧水銀ランプ8で構成された紫外線照射処理装置3の
ガス導入管7に導かれ、紫外線を照射処理される。紫外
線照射処理された分解ガス4はアルカリ洗浄装置5に送
られ、ここでは紫外線照射処理によって発生した■αな
どの酸性分解ガスをアルカリ洗浄袋@5で無害化処理す
る。なお、前記アルカリ洗浄装置ではアルカリ剤6、例
えばNaOHの添加により洗浄装置内のpHが例えば常
時8〜10になるように調整する。
次に上記のように構成された排ガス処理装置を用いて排
ガス処理を行なった。
ガス処理を行なった。
トリクロロエチレン15(>ppmおよびテトラクロロ
エチレン125Dpmを°含む排ガスを毎時100pの
流速で内部照射型の32Wの低圧水銀ランプを用いて主
波長2537人の波長の紫外線を照射処理した。次に前
記紫外線照射処理によって発生したガスをアルカリ洗浄
装置に送り、処理槽内のl)Hを8〜10に保持しつつ
アルカリ洗浄処理を行なった。処理後の処理ガス中に含
まれるトリクロロエチレンは15pDmで除去率90.
0%、テトラクロロエチレンはllppmで除去率91
,2%であった。
エチレン125Dpmを°含む排ガスを毎時100pの
流速で内部照射型の32Wの低圧水銀ランプを用いて主
波長2537人の波長の紫外線を照射処理した。次に前
記紫外線照射処理によって発生したガスをアルカリ洗浄
装置に送り、処理槽内のl)Hを8〜10に保持しつつ
アルカリ洗浄処理を行なった。処理後の処理ガス中に含
まれるトリクロロエチレンは15pDmで除去率90.
0%、テトラクロロエチレンはllppmで除去率91
,2%であった。
一方紫外線照射処理工程において、カス導入管7に導か
れた排ガスを、例えばマグネチツクスターラーによって
撹拌子で撹拌しながら紫外線照射処理を行なった場合に
は、最終的な処理カス中のトリクロロエチレンは1.0
ppmで除去率99.3%、テトラクロロエチレンは1
.2ppmで除去率99.0%となり、さらに高い除去
率が得られた。
れた排ガスを、例えばマグネチツクスターラーによって
撹拌子で撹拌しながら紫外線照射処理を行なった場合に
は、最終的な処理カス中のトリクロロエチレンは1.0
ppmで除去率99.3%、テトラクロロエチレンは1
.2ppmで除去率99.0%となり、さらに高い除去
率が得られた。
また紫外線照射処理工程について、繰返し紫外線照射処
理、多段処理する方が高い除去率が得られた。
理、多段処理する方が高い除去率が得られた。
[発明の効果]
以上説明したように、本発明の方法によれば半導体製造
工程、金属の洗浄工程等で発生する有機ハロゲン化合物
を含む排ガスを継続して効率よく処理することができる
。
工程、金属の洗浄工程等で発生する有機ハロゲン化合物
を含む排ガスを継続して効率よく処理することができる
。
また紫外線熱IFl処理を撹拌下で行なうことにより、
処理ガス中の有機ハロゲン化合物の除去率をざらに高め
ることができる。
処理ガス中の有機ハロゲン化合物の除去率をざらに高め
ることができる。
第1図は本発明の方法を実施するための排ガス処理装置
の一実施例を示すブロック図、第2図は紫外線照射処理
装置の概略図を示す。 1・・・排ガス 2・・・送風機3・・・
紫外線照射処理装置 4・・・分解ガス5・・・アルカ
リ洗浄装置 6・・・アルカリ剤7・・・ガス導入管
8・・・低圧水銀ランプ第1図 第2図
の一実施例を示すブロック図、第2図は紫外線照射処理
装置の概略図を示す。 1・・・排ガス 2・・・送風機3・・・
紫外線照射処理装置 4・・・分解ガス5・・・アルカ
リ洗浄装置 6・・・アルカリ剤7・・・ガス導入管
8・・・低圧水銀ランプ第1図 第2図
Claims (2)
- (1)有機ハロゲン化合物を含む排ガスを紫外線照射処
理する第1工程と、この第1工程で得られるガスをアル
カリで処理する第2工程とを具備してなることを特徴と
する排ガスの処理方法。 - (2)紫外線照射処理は排ガスを撹拌しながら行なわれ
る特許請求の範囲第1項記載の排ガスの処理方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61031183A JPS62191025A (ja) | 1986-02-14 | 1986-02-14 | 排ガスの処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61031183A JPS62191025A (ja) | 1986-02-14 | 1986-02-14 | 排ガスの処理方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62191025A true JPS62191025A (ja) | 1987-08-21 |
Family
ID=12324328
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61031183A Pending JPS62191025A (ja) | 1986-02-14 | 1986-02-14 | 排ガスの処理方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62191025A (ja) |
Cited By (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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-
1986
- 1986-02-14 JP JP61031183A patent/JPS62191025A/ja active Pending
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JPH03151023A (ja) * | 1989-11-07 | 1991-06-27 | Agency Of Ind Science & Technol | 気体状有害物質の光化学的処理方法 |
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