JPS62191025A - 排ガスの処理方法 - Google Patents
排ガスの処理方法Info
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- JPS62191025A JPS62191025A JP61031183A JP3118386A JPS62191025A JP S62191025 A JPS62191025 A JP S62191025A JP 61031183 A JP61031183 A JP 61031183A JP 3118386 A JP3118386 A JP 3118386A JP S62191025 A JPS62191025 A JP S62191025A
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Links
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Landscapes
- Treating Waste Gases (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野コ
本発明は半導体製造工程、金属の洗浄工程等で発生する
有機ハロゲン化合物を含有する排ガスの処理方法に関す
る。
有機ハロゲン化合物を含有する排ガスの処理方法に関す
る。
［従来の技術］
従来より半導体製造工程、金属の洗浄工程等で発生する
トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン等を含む排
ガスの処理方法として、活性炭による吸着処理が行なわ
れている。
トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン等を含む排
ガスの処理方法として、活性炭による吸着処理が行なわ
れている。
［発明が解決しようとする問題点］
しかしながら活性炭吸着処理では排ガスの処理性能は使
用初期には非常に高いが、使用途中で活性炭の吸着能力
が低下してしまうという欠点があり、このため排ガスの
処理途中で飽和した活性炭の交換、再生を行なう必要が
生じる。
用初期には非常に高いが、使用途中で活性炭の吸着能力
が低下してしまうという欠点があり、このため排ガスの
処理途中で飽和した活性炭の交換、再生を行なう必要が
生じる。
この発明の目的は上記した欠点を解消し、排ガスの処理
を継続して大量に行なうことのできる排ガスの処理方法
を提供することを目的とする。
を継続して大量に行なうことのできる排ガスの処理方法
を提供することを目的とする。
［問題点を解決するための手段］
本発明は有機ハロゲン化合物を含む排ガスを紫外線照射
処理する第１工程と、この第１工程で得られるガスをア
ルカリで処理する第２工程とを具備してなることを特徴
とする排ガスの処理方法である。
処理する第１工程と、この第１工程で得られるガスをア
ルカリで処理する第２工程とを具備してなることを特徴
とする排ガスの処理方法である。
［実施例］
次に本発明を実施例によって説明する。
第１図は本発明の方法を実施するための排ガス処理装置
の一実施例を示すブロック図、第２図は紫外線処理装置
の概略図である。
の一実施例を示すブロック図、第２図は紫外線処理装置
の概略図である。
第１図中、符号１はトリクロロエチレン、テトラクロロ
エチレン等の有機ハロゲン化合物を含む排ガスでおる。
エチレン等の有機ハロゲン化合物を含む排ガスでおる。
排ガス１は送風機２により第２図に示した内部照射型の
低圧水銀ランプ８で構成された紫外線照射処理装置３の
ガス導入管７に導かれ、紫外線を照射処理される。紫外
線照射処理された分解ガス４はアルカリ洗浄装置５に送
られ、ここでは紫外線照射処理によって発生した■αな
どの酸性分解ガスをアルカリ洗浄袋＠５で無害化処理す
る。なお、前記アルカリ洗浄装置ではアルカリ剤６、例
えばＮａＯＨの添加により洗浄装置内のｐＨが例えば常
時８〜１０になるように調整する。
低圧水銀ランプ８で構成された紫外線照射処理装置３の
ガス導入管７に導かれ、紫外線を照射処理される。紫外
線照射処理された分解ガス４はアルカリ洗浄装置５に送
られ、ここでは紫外線照射処理によって発生した■αな
どの酸性分解ガスをアルカリ洗浄袋＠５で無害化処理す
る。なお、前記アルカリ洗浄装置ではアルカリ剤６、例
えばＮａＯＨの添加により洗浄装置内のｐＨが例えば常
時８〜１０になるように調整する。
次に上記のように構成された排ガス処理装置を用いて排
ガス処理を行なった。
ガス処理を行なった。
トリクロロエチレン１５（＞ｐｐｍおよびテトラクロロ
エチレン１２５Ｄｐｍを°含む排ガスを毎時１００ｐの
流速で内部照射型の３２Ｗの低圧水銀ランプを用いて主
波長２５３７人の波長の紫外線を照射処理した。次に前
記紫外線照射処理によって発生したガスをアルカリ洗浄
装置に送り、処理槽内のｌ）Ｈを８〜１０に保持しつつ
アルカリ洗浄処理を行なった。処理後の処理ガス中に含
まれるトリクロロエチレンは１５ｐＤｍで除去率９０．
０％、テトラクロロエチレンはｌｌｐｐｍで除去率９１
，２％であった。
エチレン１２５Ｄｐｍを°含む排ガスを毎時１００ｐの
流速で内部照射型の３２Ｗの低圧水銀ランプを用いて主
波長２５３７人の波長の紫外線を照射処理した。次に前
記紫外線照射処理によって発生したガスをアルカリ洗浄
装置に送り、処理槽内のｌ）Ｈを８〜１０に保持しつつ
アルカリ洗浄処理を行なった。処理後の処理ガス中に含
まれるトリクロロエチレンは１５ｐＤｍで除去率９０．
０％、テトラクロロエチレンはｌｌｐｐｍで除去率９１
，２％であった。
一方紫外線照射処理工程において、カス導入管７に導か
れた排ガスを、例えばマグネチツクスターラーによって
撹拌子で撹拌しながら紫外線照射処理を行なった場合に
は、最終的な処理カス中のトリクロロエチレンは１．０
ｐｐｍで除去率９９．３％、テトラクロロエチレンは１
．２ｐｐｍで除去率９９．０％となり、さらに高い除去
率が得られた。
れた排ガスを、例えばマグネチツクスターラーによって
撹拌子で撹拌しながら紫外線照射処理を行なった場合に
は、最終的な処理カス中のトリクロロエチレンは１．０
ｐｐｍで除去率９９．３％、テトラクロロエチレンは１
．２ｐｐｍで除去率９９．０％となり、さらに高い除去
率が得られた。
また紫外線照射処理工程について、繰返し紫外線照射処
理、多段処理する方が高い除去率が得られた。
理、多段処理する方が高い除去率が得られた。
［発明の効果］
以上説明したように、本発明の方法によれば半導体製造
工程、金属の洗浄工程等で発生する有機ハロゲン化合物
を含む排ガスを継続して効率よく処理することができる
。
工程、金属の洗浄工程等で発生する有機ハロゲン化合物
を含む排ガスを継続して効率よく処理することができる
。
また紫外線熱ＩＦｌ処理を撹拌下で行なうことにより、
処理ガス中の有機ハロゲン化合物の除去率をざらに高め
ることができる。
処理ガス中の有機ハロゲン化合物の除去率をざらに高め
ることができる。
第１図は本発明の方法を実施するための排ガス処理装置
の一実施例を示すブロック図、第２図は紫外線照射処理
装置の概略図を示す。 １・・・排ガス ２・・・送風機３・・・
紫外線照射処理装置 ４・・・分解ガス５・・・アルカ
リ洗浄装置 ６・・・アルカリ剤７・・・ガス導入管
８・・・低圧水銀ランプ第１図 第２図
の一実施例を示すブロック図、第２図は紫外線照射処理
装置の概略図を示す。 １・・・排ガス ２・・・送風機３・・・
紫外線照射処理装置 ４・・・分解ガス５・・・アルカ
リ洗浄装置 ６・・・アルカリ剤７・・・ガス導入管
８・・・低圧水銀ランプ第１図 第２図
Claims (2)
- （１）有機ハロゲン化合物を含む排ガスを紫外線照射処
理する第１工程と、この第１工程で得られるガスをアル
カリで処理する第２工程とを具備してなることを特徴と
する排ガスの処理方法。 - （２）紫外線照射処理は排ガスを撹拌しながら行なわれ
る特許請求の範囲第１項記載の排ガスの処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61031183A JPS62191025A (ja) | 1986-02-14 | 1986-02-14 | 排ガスの処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61031183A JPS62191025A (ja) | 1986-02-14 | 1986-02-14 | 排ガスの処理方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62191025A true JPS62191025A (ja) | 1987-08-21 |
Family
ID=12324328
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61031183A Pending JPS62191025A (ja) | 1986-02-14 | 1986-02-14 | 排ガスの処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62191025A (ja) |
Cited By (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| US4941957A (en) * | 1986-10-22 | 1990-07-17 | Ultrox International | Decomposition of volatile ogranic halogenated compounds contained in gases and aqueous solutions |
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| JPH0394813A (ja) * | 1989-09-06 | 1991-04-19 | Japan Atom Energy Res Inst | ごみ燃焼排ガス中の有害ガス除去方法 |
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| US7018514B2 (en) | 2001-11-12 | 2006-03-28 | Canon Kabushiki Kaisha | Method and apparatus for processing substances to be decomposed |
| US7163615B2 (en) | 2001-11-12 | 2007-01-16 | Canon Kabushiki Kaisha | Method of treating substance to be degraded and its apparatus |
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-
1986
- 1986-02-14 JP JP61031183A patent/JPS62191025A/ja active Pending
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| JPH0521609B2 (ja) * | 1989-09-06 | 1993-03-25 | Nippon Genshiryoku Kenkyusho | |
| JPH03151023A (ja) * | 1989-11-07 | 1991-06-27 | Agency Of Ind Science & Technol | 気体状有害物質の光化学的処理方法 |
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