JPH0275391A - 排水処理装置 - Google Patents
排水処理装置Info
- Publication number
- JPH0275391A JPH0275391A JP63225641A JP22564188A JPH0275391A JP H0275391 A JPH0275391 A JP H0275391A JP 63225641 A JP63225641 A JP 63225641A JP 22564188 A JP22564188 A JP 22564188A JP H0275391 A JPH0275391 A JP H0275391A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- discharged
- waste water
- treatment
- exhaust gas
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000004065 wastewater treatment Methods 0.000 title claims description 9
- 239000002351 wastewater Substances 0.000 claims abstract description 21
- 239000003513 alkali Substances 0.000 claims abstract description 11
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 10
- 150000002896 organic halogen compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 6
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 6
- 239000007789 gas Substances 0.000 abstract description 23
- XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N Trichloroethylene Chemical group ClC=C(Cl)Cl XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 11
- 238000005273 aeration Methods 0.000 abstract description 11
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 9
- CYTYCFOTNPOANT-UHFFFAOYSA-N Perchloroethylene Chemical group ClC(Cl)=C(Cl)Cl CYTYCFOTNPOANT-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- 229950011008 tetrachloroethylene Drugs 0.000 abstract description 4
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- UBOXGVDOUJQMTN-UHFFFAOYSA-N trichloroethylene Natural products ClCC(Cl)Cl UBOXGVDOUJQMTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 abstract 2
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 abstract 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 abstract 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- 238000003915 air pollution Methods 0.000 description 1
- 238000007084 catalytic combustion reaction Methods 0.000 description 1
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 239000003657 drainage water Substances 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Treating Waste Gases (AREA)
- Physical Water Treatments (AREA)
- Removal Of Specific Substances (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は有機ハロゲン化合物を含有する排水を浄化する
排水処理装置に関する。
排水処理装置に関する。
従来、排水を浄化する目的の排水処理装置には、曝気処
理装置が幅広く用いられている。
理装置が幅広く用いられている。
周知のように現在、電子工業、精密工業等で有機溶剤、
例えばトリクロロエチレン、+トラクロロエチレン等が
多量に使用されており、このような分野に携わる工場等
から排出される排水には上記のような有機溶剤を含むも
のが多い。
例えばトリクロロエチレン、+トラクロロエチレン等が
多量に使用されており、このような分野に携わる工場等
から排出される排水には上記のような有機溶剤を含むも
のが多い。
しかしながら従来、これらの排水を浄化するために処理
コストの低い取気処理装置を用いた場合には、排水中に
含有する上記トリクロロエチレン。
コストの低い取気処理装置を用いた場合には、排水中に
含有する上記トリクロロエチレン。
テトラクロロエチレン等を曝気処理することは可能であ
るが、流入水濃度の変動が大きい場合には常に安定した
処理効果を上げることは困難であり、しかも大気中に放
散されれば大気を汚染するという大きな問題がある。
るが、流入水濃度の変動が大きい場合には常に安定した
処理効果を上げることは困難であり、しかも大気中に放
散されれば大気を汚染するという大きな問題がある。
そこで、これら有機ハロゲン化合物を含む排水について
は、燃焼処理、触媒燃焼処理などを行ない無害化処理を
行なっているが、この場合には設備費、処理費用の点で
問題を有している。
は、燃焼処理、触媒燃焼処理などを行ない無害化処理を
行なっているが、この場合には設備費、処理費用の点で
問題を有している。
本発明の目的は、上記従来の諸問題を解決した排水処理
装置を提供することにある。
装置を提供することにある。
本発明は有機ハロゲン化合物を含有する排水を浄化する
排水処理装置において、前記排水を曝気処理し且つ紫外
線照射する反応装置と、この反応装置から排出される第
1の排ガスに紫外線を照射する紫外線照射処理装置と、
この紫外線照射処理装置から排出される第2の排ガスを
アルカリで処理するアルカリ洗浄装置とを具備してなる
。
排水処理装置において、前記排水を曝気処理し且つ紫外
線照射する反応装置と、この反応装置から排出される第
1の排ガスに紫外線を照射する紫外線照射処理装置と、
この紫外線照射処理装置から排出される第2の排ガスを
アルカリで処理するアルカリ洗浄装置とを具備してなる
。
次に、本発明について図面を参照して説明する。
第1図は本発明の一実施例の構成図である。
本実施例における処理対象の排水lはトリクロロエチレ
ン、テトラクロロエチレン等の有機ノ10ゲン化合物を
含有するものである。本実施例は、排水1を曝気処理し
且つ紫外線を照射するために送気装置3.散気機構4及
び低圧水銀ランプ5を備える反応装置2と、この反応装
置2から排出される排ガス7に紫外線を照射する紫外線
照射処理装置8と、この紫外線照射処理後f8から排出
される分解カス9をアルカリで処理するアルカリ洗浄装
置10とを有してなる。
ン、テトラクロロエチレン等の有機ノ10ゲン化合物を
含有するものである。本実施例は、排水1を曝気処理し
且つ紫外線を照射するために送気装置3.散気機構4及
び低圧水銀ランプ5を備える反応装置2と、この反応装
置2から排出される排ガス7に紫外線を照射する紫外線
照射処理装置8と、この紫外線照射処理後f8から排出
される分解カス9をアルカリで処理するアルカリ洗浄装
置10とを有してなる。
このような構成の本実施例において、排水lはまずプロ
ワ−等の送気装置3に接続した散気機構4から放出され
る空気により曝気処理されると同時に反応装置2に設置
した低圧水銀ランプ5で紫外線照射処理される。曝気処
理と紫外線照射処理された排水lは処理水6として排出
され、一方、放散された排ガス7、例えば反応装置2で
未反応のトリクロロエチレン、テトラクロロエチレンを
含むガスは内部照射型の低水銀ランプで構成された紫外
線照射処理装置8に送られ、紫外線照射される。その結
果、排ガス7は分解した塩化水素等れ、処理ガス11と
して処理される。
ワ−等の送気装置3に接続した散気機構4から放出され
る空気により曝気処理されると同時に反応装置2に設置
した低圧水銀ランプ5で紫外線照射処理される。曝気処
理と紫外線照射処理された排水lは処理水6として排出
され、一方、放散された排ガス7、例えば反応装置2で
未反応のトリクロロエチレン、テトラクロロエチレンを
含むガスは内部照射型の低水銀ランプで構成された紫外
線照射処理装置8に送られ、紫外線照射される。その結
果、排ガス7は分解した塩化水素等れ、処理ガス11と
して処理される。
次に、上記のような本実施例の排水処理装置を用いて排
水の浄化を行なった結果について説明する。
水の浄化を行なった結果について説明する。
900 mg/lの濃度のトリクロロエチレンを含む排
水1を12θl/Hrの流量で反応装置2に送)、空気
量85 Nm /Hrで曝気処理を行ないながら、反応
装置2に設置した低圧水銀ランプ5で紫外線照射処理を
行なった。曝気処理と紫外線照射処理後の処理水6中の
トリクロロエチレンの濃度は、0.01mg/l以下で
あった。次に、曝気処理によって発生した排ガス7t−
紫外線照射処理装置8で内部照射型の低圧水銀ランプに
より紫外線照射処理を行ない、続いて紫外線照射処理に
よって発生した分解ガス9をアルカリ洗浄装置10で無
害化処理した。この処理ガスll中のトリクロロエチレ
ンガスの濃度はQ、5ppm以下であった。
水1を12θl/Hrの流量で反応装置2に送)、空気
量85 Nm /Hrで曝気処理を行ないながら、反応
装置2に設置した低圧水銀ランプ5で紫外線照射処理を
行なった。曝気処理と紫外線照射処理後の処理水6中の
トリクロロエチレンの濃度は、0.01mg/l以下で
あった。次に、曝気処理によって発生した排ガス7t−
紫外線照射処理装置8で内部照射型の低圧水銀ランプに
より紫外線照射処理を行ない、続いて紫外線照射処理に
よって発生した分解ガス9をアルカリ洗浄装置10で無
害化処理した。この処理ガスll中のトリクロロエチレ
ンガスの濃度はQ、5ppm以下であった。
このように本実施例の排水処理装置を用いると、排水中
のトリクロロエチレン濃度を0.01mg/A!と公共
用水域への排水の抑制に関する管理目標値0.3mg/
l及び地下浸透の防止に関する管理目標値0.03mg
/l以下に処理することが出来、しかも曝気処理により
発生したガスを紫外線照射処理とアルカリ洗浄処理によ
り大気中に放散することなく効率よく処理することが出
来る。
のトリクロロエチレン濃度を0.01mg/A!と公共
用水域への排水の抑制に関する管理目標値0.3mg/
l及び地下浸透の防止に関する管理目標値0.03mg
/l以下に処理することが出来、しかも曝気処理により
発生したガスを紫外線照射処理とアルカリ洗浄処理によ
り大気中に放散することなく効率よく処理することが出
来る。
尚、本発明の効果を明らかにするために比較数値を例示
すると、本実施例によらずに紫外線照射処理しない曝気
処理のみの従来の処理では、上記と同条件の排水に対し
処理水に含まれるトリクロロエチレン1#度は0.1〜
0.03mg/lであった。
すると、本実施例によらずに紫外線照射処理しない曝気
処理のみの従来の処理では、上記と同条件の排水に対し
処理水に含まれるトリクロロエチレン1#度は0.1〜
0.03mg/lであった。
以上説明したように本発明は、曝気処理に加えて紫外線
照射処理及びアルカリ処理を行う手段を設けることによ
シ、排水中に含まれる有機ハロゲン化合物を大気中に放
散することなく分解処理が可能とな9、しかも良好な処
理水質が得られる効果がある。
照射処理及びアルカリ処理を行う手段を設けることによ
シ、排水中に含まれる有機ハロゲン化合物を大気中に放
散することなく分解処理が可能とな9、しかも良好な処
理水質が得られる効果がある。
第1図は本発明の一実施例を示す構成図である。
1・・・・・・排水、2・・・・・・反応装置、3・・
・・・・送気装置、4・・・・・・散気機構、5・・・
・・・低圧水銀ランプ、6・・・・・・処理水、7・・
・・・・排ガス、8・・・・・・紫外線照射処理装置、
9・・・・・・分解ガス、10・・・・・・アルカリ洗
浄装置、11・・・・・・処理ガス。
・・・・送気装置、4・・・・・・散気機構、5・・・
・・・低圧水銀ランプ、6・・・・・・処理水、7・・
・・・・排ガス、8・・・・・・紫外線照射処理装置、
9・・・・・・分解ガス、10・・・・・・アルカリ洗
浄装置、11・・・・・・処理ガス。
Claims (1)
- 有機ハロゲン化合物を含有する排水を浄化する排水処理
装置において、前記排水を曝気処理し且つ紫外線照射す
る反応装置と、この反応装置から排出される第1の排ガ
スに紫外線を照射する紫外線照射処理装置と、この紫外
線照射処理装置から排出される第2の排ガスをアルカリ
で処理するアルカリ洗浄装置とを具備してなることを特
徴とする排水処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63225641A JPH0275391A (ja) | 1988-09-09 | 1988-09-09 | 排水処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63225641A JPH0275391A (ja) | 1988-09-09 | 1988-09-09 | 排水処理装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0275391A true JPH0275391A (ja) | 1990-03-15 |
Family
ID=16832485
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63225641A Pending JPH0275391A (ja) | 1988-09-09 | 1988-09-09 | 排水処理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0275391A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04114667A (ja) * | 1990-09-03 | 1992-04-15 | Suishiyou:Kk | 有機ハロゲン化合物分解処理装置 |
JP2007069097A (ja) * | 2005-09-06 | 2007-03-22 | Kurimoto Ltd | 排水処理装置 |
JP2008143290A (ja) * | 2006-12-08 | 2008-06-26 | Kenji Yamamura | 発熱装置、乗り物 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61146387A (ja) * | 1984-12-17 | 1986-07-04 | Sharp Corp | 水道水の浄化方法 |
JPS62191095A (ja) * | 1986-02-14 | 1987-08-21 | Nec Corp | 排水処理装置 |
-
1988
- 1988-09-09 JP JP63225641A patent/JPH0275391A/ja active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61146387A (ja) * | 1984-12-17 | 1986-07-04 | Sharp Corp | 水道水の浄化方法 |
JPS62191095A (ja) * | 1986-02-14 | 1987-08-21 | Nec Corp | 排水処理装置 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04114667A (ja) * | 1990-09-03 | 1992-04-15 | Suishiyou:Kk | 有機ハロゲン化合物分解処理装置 |
JP2007069097A (ja) * | 2005-09-06 | 2007-03-22 | Kurimoto Ltd | 排水処理装置 |
JP2008143290A (ja) * | 2006-12-08 | 2008-06-26 | Kenji Yamamura | 発熱装置、乗り物 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3399530B2 (ja) | 汚染水の処理方法 | |
JPH07241557A (ja) | 汚染水の処理方法とその装置 | |
CA2281392C (en) | Method for decomposing bromic acid by photocatalyst and apparatus therefor | |
JP2006341229A (ja) | シアン化合物含有排水の高度処理方法 | |
JPS62191095A (ja) | 排水処理装置 | |
JPH0275391A (ja) | 排水処理装置 | |
JP2005074409A (ja) | 1,4−ジオキサンの処理方法 | |
JP3516327B2 (ja) | ダイオキシン類を含有する有機廃水の処理方法及び装置 | |
JPH01218676A (ja) | 排水の処理方法 | |
EP0242941B1 (en) | Process and apparatus for the deodorization of air | |
JPS5935653B2 (ja) | 廃水の処理法 | |
JP3110034B2 (ja) | 有機物と溶存酸素とを同時に除去する方法 | |
JPS61200836A (ja) | 排ガス処理方法 | |
JP2809367B2 (ja) | 排ガスの処理方法 | |
JP3402411B2 (ja) | 廃水の窒素処理方法 | |
EP4208412A1 (en) | Wastewater ozone treatment | |
JPH0338297A (ja) | トリクロロエチレン及びテトラクロロエチレン汚染水の処理方法 | |
JP2613586B2 (ja) | 排水処理装置と排水処理方法 | |
KR19980085039A (ko) | 전자선 및 오존에 의한 폐수처리 방법 및 장치 | |
JPH06335688A (ja) | アンモニア含有水の処理方法 | |
JPH07155543A (ja) | 揮発性有機塩素化合物の処理方法及び装置 | |
JP3859866B2 (ja) | 水処理方法 | |
JPH06304581A (ja) | 廃液処理方法 | |
JP2669375B2 (ja) | 水中の有機塩素化合物の分解処理装置 | |
JPS6051876B2 (ja) | 水処理方法 |