JPH07155543A - 揮発性有機塩素化合物の処理方法及び装置 - Google Patents
揮発性有機塩素化合物の処理方法及び装置Info
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- JPH07155543A JPH07155543A JP5329605A JP32960593A JPH07155543A JP H07155543 A JPH07155543 A JP H07155543A JP 5329605 A JP5329605 A JP 5329605A JP 32960593 A JP32960593 A JP 32960593A JP H07155543 A JPH07155543 A JP H07155543A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 紫外線分解法において、十分な分解ができし
かも効率的で安全な揮発性有機塩素化合物の処理方法と
その装置を提供する。 【構成】 揮発性有機塩素化合物を含有する気相中に水
素源を付加した後、該気相を紫外線に曝露して前記気相
中の揮発性有機塩素化合物を分解することを特徴とする
揮発性有機塩素化合物の処理方法としたものであり、該
処理装置として、揮発性有機塩素化合物を含有する気相
２１中に水蒸気又は水素を含む気体２３を付加する水素
源付加装置２２と、該水素源を付加された揮発性有機塩
素化合物２４を含む気体に紫外線２５を照射する紫外線
照射装置２６とを有し、さらに紫外線照射後の気体２７
をアルカリ剤により処理する湿式中和装置２８とを備え
たこととしたものである。
かも効率的で安全な揮発性有機塩素化合物の処理方法と
その装置を提供する。 【構成】 揮発性有機塩素化合物を含有する気相中に水
素源を付加した後、該気相を紫外線に曝露して前記気相
中の揮発性有機塩素化合物を分解することを特徴とする
揮発性有機塩素化合物の処理方法としたものであり、該
処理装置として、揮発性有機塩素化合物を含有する気相
２１中に水蒸気又は水素を含む気体２３を付加する水素
源付加装置２２と、該水素源を付加された揮発性有機塩
素化合物２４を含む気体に紫外線２５を照射する紫外線
照射装置２６とを有し、さらに紫外線照射後の気体２７
をアルカリ剤により処理する湿式中和装置２８とを備え
たこととしたものである。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、揮発性有機塩素化合物
の処理に係り、特に、トリクロロエチレン、テトラクロ
ロエチレン等の揮発性有機塩素化合物を気相中で分解処
理する方法に関するものである。
の処理に係り、特に、トリクロロエチレン、テトラクロ
ロエチレン等の揮発性有機塩素化合物を気相中で分解処
理する方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】揮発性有機塩素化合物による環境汚染と
くに土壌汚染・地下水・上水の汚染が報告され、社会的
に大きな問題となっている。汚染源としては主としてド
ライクリーニングや、金属工業・電子工業等の脱脂洗浄
剤の漏出に起因すると言われている。水中に含まれるこ
れらの揮発性有機塩素化合物は空気を液中に吹き込み曝
気するストリッピング方式で気相へ追い出し、これを吸
着剤で無害化する方式が一般的である。また、土中に井
戸を設置し、真空ポンプで井戸の内部を減圧しガス中に
抽出した揮発性有機塩素化合物を吸着剤にて処理する方
式も良く知られている。
くに土壌汚染・地下水・上水の汚染が報告され、社会的
に大きな問題となっている。汚染源としては主としてド
ライクリーニングや、金属工業・電子工業等の脱脂洗浄
剤の漏出に起因すると言われている。水中に含まれるこ
れらの揮発性有機塩素化合物は空気を液中に吹き込み曝
気するストリッピング方式で気相へ追い出し、これを吸
着剤で無害化する方式が一般的である。また、土中に井
戸を設置し、真空ポンプで井戸の内部を減圧しガス中に
抽出した揮発性有機塩素化合物を吸着剤にて処理する方
式も良く知られている。
【０００３】前記ガスの吸着処理は比較的確実な方法で
あるが、対象成分濃度が低濃度のときには、吸着剤の飽
和吸着量が、数％（ＷＴ）以下と小さく、使い捨て又は
工場持ち帰り再生する場合には、多量の吸着剤を必要と
するため、設備費・ランニングコストも高くなる点が、
問題であった。使用済みの吸着剤についても廃棄物処分
又は吸着剤メーカーの工場にて再生するにしても再び環
境を汚染する恐れがあった。
あるが、対象成分濃度が低濃度のときには、吸着剤の飽
和吸着量が、数％（ＷＴ）以下と小さく、使い捨て又は
工場持ち帰り再生する場合には、多量の吸着剤を必要と
するため、設備費・ランニングコストも高くなる点が、
問題であった。使用済みの吸着剤についても廃棄物処分
又は吸着剤メーカーの工場にて再生するにしても再び環
境を汚染する恐れがあった。
【０００４】そのため、吸着剤をその場で再生し、繰り
返し使用する方法が開発された。この方法は再生用ガス
又は水蒸気によって吸着成分を脱着し、続いてコンデン
サー（凝縮器）によって回収し、揮発性有機塩素化合物
を濃縮して廃棄処分している。これらの濃縮回収した揮
発性有機塩素化合物は、産業廃棄物として処分されるに
あたり、再び環境汚染を引き起こすことが懸念され、完
全で安全な処理方式とは言いがたいものであった。
返し使用する方法が開発された。この方法は再生用ガス
又は水蒸気によって吸着成分を脱着し、続いてコンデン
サー（凝縮器）によって回収し、揮発性有機塩素化合物
を濃縮して廃棄処分している。これらの濃縮回収した揮
発性有機塩素化合物は、産業廃棄物として処分されるに
あたり、再び環境汚染を引き起こすことが懸念され、完
全で安全な処理方式とは言いがたいものであった。
【０００５】そこで、紫外線を用いて揮発性有機塩素化
合物を分解無害化する方法が検討されている。例えば、
希薄な揮発性有機塩素化合物を含有するガス（ストリッ
ピングガスなど）に紫外線を照射する方法、ガス中の有
機塩素化合物を吸着剤に吸着させた後、吸着剤を加熱空
気によって再生し、再生排ガス中の揮発性有機塩素化合
物に紫外線を照射して分解する方法等である。しかしな
がら、これら従来の紫外線分解法では、十分な分解がで
きないという問題点があった。
合物を分解無害化する方法が検討されている。例えば、
希薄な揮発性有機塩素化合物を含有するガス（ストリッ
ピングガスなど）に紫外線を照射する方法、ガス中の有
機塩素化合物を吸着剤に吸着させた後、吸着剤を加熱空
気によって再生し、再生排ガス中の揮発性有機塩素化合
物に紫外線を照射して分解する方法等である。しかしな
がら、これら従来の紫外線分解法では、十分な分解がで
きないという問題点があった。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記の問題
点を解消し、紫外線分解法においても十分な分解がで
き、効率的でかつ安全な揮発性有機塩素化合物の処理方
法とその装置を提供することを課題とする。
点を解消し、紫外線分解法においても十分な分解がで
き、効率的でかつ安全な揮発性有機塩素化合物の処理方
法とその装置を提供することを課題とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明では、揮発性有機塩素化合物を含有する気相
中に水素源を付加した後、該気相を紫外線に曝露して前
記気相中の揮発性有機塩素化合物を分解することを特徴
とする揮発性有機塩素化合物の処理方法としたものであ
る。本発明において、揮発性有機塩素化合物を含有する
気相としては、揮発性有機塩素化合物を含む溶液を曝気
して揮発性有機塩素化合物を気相中に移行させたもの、
あるいは、揮発性有機塩素化合物を含む排ガスを活性炭
に吸着させ、該活性炭から水蒸気又は熱風により脱着
後、凝縮液化した揮発性有機塩素化合物を含む溶液を、
曝気して揮発性有機塩素化合物を気相中に移行させたも
の等を用いることができる。
に、本発明では、揮発性有機塩素化合物を含有する気相
中に水素源を付加した後、該気相を紫外線に曝露して前
記気相中の揮発性有機塩素化合物を分解することを特徴
とする揮発性有機塩素化合物の処理方法としたものであ
る。本発明において、揮発性有機塩素化合物を含有する
気相としては、揮発性有機塩素化合物を含む溶液を曝気
して揮発性有機塩素化合物を気相中に移行させたもの、
あるいは、揮発性有機塩素化合物を含む排ガスを活性炭
に吸着させ、該活性炭から水蒸気又は熱風により脱着
後、凝縮液化した揮発性有機塩素化合物を含む溶液を、
曝気して揮発性有機塩素化合物を気相中に移行させたも
の等を用いることができる。
【０００８】そして、前記処理方法において、水素源と
しては水蒸気又は水素を含む気体を用いることができ
る。また、本発明では、揮発性有機塩素化合物を含有す
る気相中に水蒸気又は水素を含む気体を付加する水素源
付加装置と、該水素源を付加された揮発性有機塩素化合
物を含む気体に紫外線を照射する紫外線照射装置とを備
えたことを特徴とする揮発性有機塩素化合物の処理装置
としたものである。さらに、本発明では、上記処理装置
において、紫外線照射後の気体をアルカリ剤により処理
する湿式中和装置を備えているのがよい。
しては水蒸気又は水素を含む気体を用いることができ
る。また、本発明では、揮発性有機塩素化合物を含有す
る気相中に水蒸気又は水素を含む気体を付加する水素源
付加装置と、該水素源を付加された揮発性有機塩素化合
物を含む気体に紫外線を照射する紫外線照射装置とを備
えたことを特徴とする揮発性有機塩素化合物の処理装置
としたものである。さらに、本発明では、上記処理装置
において、紫外線照射後の気体をアルカリ剤により処理
する湿式中和装置を備えているのがよい。
【０００９】上記のように、本発明は希薄なガスから濃
縮・回収して液化させた揮発性有機塩素化合物、又は使
用済みで廃棄処分しなければならない揮発性有機塩素化
合物等に空気を吹き込み、揮発した高濃度ガスに水素源
の存在下で紫外線を照射して、ガス中の揮発性有機塩素
化合物を、塩化水素、二酸化炭素及び水に分解した後、
さらにそのガスを苛性ソーダ等のアルカリ剤で湿式中和
し、保安フィルターとしての吸着剤を通過させた後、大
気へ放出させる揮発性有機塩素化合物処理方法を提供す
るものである。
縮・回収して液化させた揮発性有機塩素化合物、又は使
用済みで廃棄処分しなければならない揮発性有機塩素化
合物等に空気を吹き込み、揮発した高濃度ガスに水素源
の存在下で紫外線を照射して、ガス中の揮発性有機塩素
化合物を、塩化水素、二酸化炭素及び水に分解した後、
さらにそのガスを苛性ソーダ等のアルカリ剤で湿式中和
し、保安フィルターとしての吸着剤を通過させた後、大
気へ放出させる揮発性有機塩素化合物処理方法を提供す
るものである。
【００１０】照射する紫外線は短波長のものが有効であ
る。水銀ランプを使用する場合、水銀の共鳴線である波
長２５３．７ｎｍと１８４．９ｎｍを比較すると１８
４．９ｎｍの方が効果的である。そのため、光源はこの
波長を効率的に発生する低圧水銀ランプで、しかもこの
波長を透過する材質（合成石英）で構成されたものを用
いるべきである。なお、トリクロロエチレン（ＴＣＥ）
及びテトラクロロエチレン分解の化学反応式は以下に示
す通りであると考えられる。
る。水銀ランプを使用する場合、水銀の共鳴線である波
長２５３．７ｎｍと１８４．９ｎｍを比較すると１８
４．９ｎｍの方が効果的である。そのため、光源はこの
波長を効率的に発生する低圧水銀ランプで、しかもこの
波長を透過する材質（合成石英）で構成されたものを用
いるべきである。なお、トリクロロエチレン（ＴＣＥ）
及びテトラクロロエチレン分解の化学反応式は以下に示
す通りであると考えられる。
【００１１】 トリクロロエチレン Ｃ2 ＨＣｌ3 ＋２Ｏ2 ＋Ｈ2 → ２ＣＯ2 ＋３ＨＣｌ Ｃ2 ＨＣｌ3 ＋ 3/2Ｏ2 ＋Ｈ2 Ｏ → ２ＣＯ2 ＋３ＨＣｌ テトラクロロエチレン Ｃ2 Ｃｌ4 ＋２Ｏ2 ＋２Ｈ2 → ２ＣＯ2 ＋４ＨＣｌ Ｃ2 Ｃｌ4 ＋Ｏ2 ＋２Ｈ2 Ｏ → ２ＣＯ2 ＋４ＨＣｌ このように有機塩素化合物は分解され、水素との反応に
より有機塩素化合物中の塩素は塩化水素として固定され
る。なお、照射する気相中の揮発性有機塩素化合物濃度
は、ＴＣＥの場合、１００ｐｐｍから５００００ｐｐｍ
程度が有効である。
より有機塩素化合物中の塩素は塩化水素として固定され
る。なお、照射する気相中の揮発性有機塩素化合物濃度
は、ＴＣＥの場合、１００ｐｐｍから５００００ｐｐｍ
程度が有効である。
【００１２】また、揮発性有機塩素化合物の紫外線によ
る安定的な分解には当該物質濃度、特にその中の塩素原
子の量に応じて上記反応式に示されるように水素源が必
要である。その水素源を供給して必要量を確保する点が
本発明の要旨である。例えばＴＣＥ１ｍｏｌの分解には
水素原子が２ｍｏｌ必要であり、それは水分子では１ｍ
ｏｌに相当する。大気中の水蒸気は天候に応じて変動す
る。気温１０℃、相対湿度３０％のとき、水蒸気濃度は
９００ｐｐｍである。この濃度の水蒸気で分解できるト
リクロロエチレン濃度は最高９００ｐｐｍである。その
ため、高濃度のＴＣＥを安定して分解するためには水素
の供給源となる物質を安定して供給する必要がある。水
素の供給源としては水蒸気及び水素ガスなどがある。
る安定的な分解には当該物質濃度、特にその中の塩素原
子の量に応じて上記反応式に示されるように水素源が必
要である。その水素源を供給して必要量を確保する点が
本発明の要旨である。例えばＴＣＥ１ｍｏｌの分解には
水素原子が２ｍｏｌ必要であり、それは水分子では１ｍ
ｏｌに相当する。大気中の水蒸気は天候に応じて変動す
る。気温１０℃、相対湿度３０％のとき、水蒸気濃度は
９００ｐｐｍである。この濃度の水蒸気で分解できるト
リクロロエチレン濃度は最高９００ｐｐｍである。その
ため、高濃度のＴＣＥを安定して分解するためには水素
の供給源となる物質を安定して供給する必要がある。水
素の供給源としては水蒸気及び水素ガスなどがある。
【００１３】
【作用】本発明の作用について、本発明の一例を示す図
１を参照しながら説明する。図１において、トリクロロ
エチレン、テトラクロロエチレン等の揮発性有機塩素化
合物を含有する原水１は、ストリッピング装置２に導か
れて上方から充填物３に散布され、下方から送風機４に
よって吹き込まれるストリッピングガス（空気など５）
により水中の揮発性有機塩素化合物が除去され、処理水
６となって流出する。一方、ストリッピング装置２から
排気される排ガス７中には、水中から追い出された揮発
性有機塩素化合物が含まれており、この排ガス７を吸着
剤８を充填した吸着装置９に導入して吸着剤８に接触さ
せることにより、排ガス７中の有機塩素化合物は吸着剤
８に吸着され、無害化された処理ガス１０となって排出
される。吸着の条件は常温常圧で良い。
１を参照しながら説明する。図１において、トリクロロ
エチレン、テトラクロロエチレン等の揮発性有機塩素化
合物を含有する原水１は、ストリッピング装置２に導か
れて上方から充填物３に散布され、下方から送風機４に
よって吹き込まれるストリッピングガス（空気など５）
により水中の揮発性有機塩素化合物が除去され、処理水
６となって流出する。一方、ストリッピング装置２から
排気される排ガス７中には、水中から追い出された揮発
性有機塩素化合物が含まれており、この排ガス７を吸着
剤８を充填した吸着装置９に導入して吸着剤８に接触さ
せることにより、排ガス７中の有機塩素化合物は吸着剤
８に吸着され、無害化された処理ガス１０となって排出
される。吸着の条件は常温常圧で良い。
【００１４】このような吸着条件において、吸着剤８は
吸着の進行によって吸着能を失うが、破過に達する以前
に排ガスの通気停止あるいは予備吸着装置への切り換え
を行ない、吸着剤８の吸着成分の脱着、再生を行なえば
良い。脱着、再生は、例えば吸着剤層にボイラー１１で
発生させた水蒸気１２をさらにヒーター１３で加熱した
後供給し、吸着剤層を通過させ、吸着剤８に吸着された
揮発性有機塩素化合物を脱着する。脱着には水蒸気の他
空気等の高温気体を用いることができる。排出される揮
発性有機塩素化合物を含有する蒸気１４はコンデンサー
１５に導かれて凝縮回収される。凝縮回収された液は分
離槽１６に導かれて、揮発性有機塩素化合物液１７と水
１８に分離され、水１８は原水１に混合し再度ストリッ
ピング等処理される。一方、揮発性有機塩素化合物１７
は廃液タンク１９に導かれる。
吸着の進行によって吸着能を失うが、破過に達する以前
に排ガスの通気停止あるいは予備吸着装置への切り換え
を行ない、吸着剤８の吸着成分の脱着、再生を行なえば
良い。脱着、再生は、例えば吸着剤層にボイラー１１で
発生させた水蒸気１２をさらにヒーター１３で加熱した
後供給し、吸着剤層を通過させ、吸着剤８に吸着された
揮発性有機塩素化合物を脱着する。脱着には水蒸気の他
空気等の高温気体を用いることができる。排出される揮
発性有機塩素化合物を含有する蒸気１４はコンデンサー
１５に導かれて凝縮回収される。凝縮回収された液は分
離槽１６に導かれて、揮発性有機塩素化合物液１７と水
１８に分離され、水１８は原水１に混合し再度ストリッ
ピング等処理される。一方、揮発性有機塩素化合物１７
は廃液タンク１９に導かれる。
【００１５】廃液タンク１９中の揮発性有機塩素化合物
液１７にコンプレッサー等の空気源２０から発生させた
空気の一部を通過させ、揮発性有機塩素化合物を高濃度
に含有するガス２１を発生させる。そのガスに水素源付
加装置、即ち加湿槽２２によって水素源である水蒸気を
含む加湿された空気２３を混合させ、一定の濃度・風量
となるように調整する。
液１７にコンプレッサー等の空気源２０から発生させた
空気の一部を通過させ、揮発性有機塩素化合物を高濃度
に含有するガス２１を発生させる。そのガスに水素源付
加装置、即ち加湿槽２２によって水素源である水蒸気を
含む加湿された空気２３を混合させ、一定の濃度・風量
となるように調整する。
【００１６】続いて、この揮発性有機塩素化合物及び水
蒸気を含有するガス２４を、低圧紫外線ランプ２５を内
蔵したＵＶリアクタ２６の中に一定時間流し、紫外線に
よってガス中の有機塩素化合物を分解する。紫外線への
曝露時間は、紫外線ランプの強度とガス流量によって適
宜選定する。分解によって発生した塩化水素を含むガス
２７は中和槽２８に導かれて中和無害化され、最後に活
性炭を充填した保安フィルター２９を通って無害化され
た処理ガス３０として大気へ放出される。中和槽はスク
ラバ方式であっても良い。
蒸気を含有するガス２４を、低圧紫外線ランプ２５を内
蔵したＵＶリアクタ２６の中に一定時間流し、紫外線に
よってガス中の有機塩素化合物を分解する。紫外線への
曝露時間は、紫外線ランプの強度とガス流量によって適
宜選定する。分解によって発生した塩化水素を含むガス
２７は中和槽２８に導かれて中和無害化され、最後に活
性炭を充填した保安フィルター２９を通って無害化され
た処理ガス３０として大気へ放出される。中和槽はスク
ラバ方式であっても良い。
【００１７】
【実施例】以下に、実施例を挙げて本発明をより具体的
に説明するが、本発明はこれらに限定されない。 実施例１ 図１に示す装置を用いて、本発明に従って下記条件によ
り揮発性有機塩素化合物を処理した。
に説明するが、本発明はこれらに限定されない。 実施例１ 図１に示す装置を用いて、本発明に従って下記条件によ
り揮発性有機塩素化合物を処理した。
【００１８】処理条件 （ストリッピング装置２） 方式 ：テラレット充填塔（５ｍ充填） 通気量（空気）／通水量 ：３０ 通水速度 ：６０ｍ／ｈ 水質 原水中トリクロロエチレン ：０．３〜０．６ｍｇ／リットル 処理水中トリクロロエチレン ：＜０．０３ｍｇ／リットル
【００１９】（吸着装置８） 方式 ：繊維状活性炭吸着（水蒸気再生） 吸着剤通気ＳＶ ：５０００リットル／ｈ 再生水蒸気流量 ：３０ｋｇ／ｈ 入口（排ガス）トリクロロエチレン：２〜４ｐｐｍ 出口（処理ガス）トリクロロエチレン：＜０．３３ｐｐｍ 再生頻度 ：８時間毎 再生時間 ：３０分
【００２０】 （ＵＶリアクタ２６） 紫外線ランプ ：低圧水銀ランプ（１１０ｗ） 原ガス流量 ：０．５〜３．８リットル／ｍｉｎ 紫外線照射時間 ：１〜８ｍｉｎ ＵＶリアクタ容積 ：３．８リットル 原ガストリクロロエチレン濃度：１８５００ｐｐｍ 原ガス水蒸気濃度 ：２５０００ｐｐｍ 処理ガストリクロロエチレン濃度：０．５ｐｐｍ以下
【００２１】 （中和槽２８） 中和剤 ：１規定苛性ソーダ溶液 （保安フィルター２９） 充填剤 ：粒状活性炭 ＳＶ ：１０００（リットル／ｈｒ）
【００２２】上記の様にトリクロロエチレンは紫外線照
射によってほぼ１００％分解されていることが分かっ
た。このとき原ガス中には十分量の水蒸気が含まれてい
た。また、ＵＶリアクタ処理ガス中の炭酸ガス及び一酸
化炭素濃度を分析した結果を図２に示す。滞留時間８分
では一酸化炭素はほゞ消失し、炭酸ガス濃度は３７５０
０ｐｐｍとなった。この結果から、原ガスのトリクロロ
エチレン中に含まれる炭素がほぼ１００％炭酸ガスに酸
化分解されていることがわかった。
射によってほぼ１００％分解されていることが分かっ
た。このとき原ガス中には十分量の水蒸気が含まれてい
た。また、ＵＶリアクタ処理ガス中の炭酸ガス及び一酸
化炭素濃度を分析した結果を図２に示す。滞留時間８分
では一酸化炭素はほゞ消失し、炭酸ガス濃度は３７５０
０ｐｐｍとなった。この結果から、原ガスのトリクロロ
エチレン中に含まれる炭素がほぼ１００％炭酸ガスに酸
化分解されていることがわかった。
【００２３】実施例２ 実施例１と同様の操作によって揮発性有機塩素化合物を
吸着剤に吸着、脱着し、凝縮させた液に空気を吹き込ん
でガス化させ、ＵＶリアクタによって処理した。ただ
し、トリクロロエチレン濃度を約５０００ｐｐｍとなる
ように設定した。 処理条件
吸着剤に吸着、脱着し、凝縮させた液に空気を吹き込ん
でガス化させ、ＵＶリアクタによって処理した。ただ
し、トリクロロエチレン濃度を約５０００ｐｐｍとなる
ように設定した。 処理条件
【００２４】 （ＵＶリアクタ２６） 紫外線ランプ ：低圧水銀ランプ（１１０ｗ） 原ガス流量 ：１．０〜７．６リットル／ｍｉｎ 紫外線照射時間 ：０．５〜４ｍｉｎ ＵＶリアクタ容積 ：３．８リットル 原ガストリクロロエチレン濃度：４９００ｐｐｍ 原ガス水蒸気濃度 ：３０，０００ｐｐｍ 処理ガストリクロロエチレン濃度：０．５ｐｐｍ以下
【００２５】（中和槽２８） 中和剤 ：１規定苛性ソーダ溶液 （保安フィルター２９） 充填剤 ：粒状活性炭 ＳＶ ：１０００リットル／ｈ
ｒ
ｒ
【００２６】上記の様にトリクロロエチレンは紫外線照
射によってほぼ１００％分解されていることが分かっ
た。この時、原ガス中には十分量の水蒸気が含まれてい
た。また、ＵＶリアクタ出口ガス中の炭酸ガス及び一酸
化炭素濃度を分析した結果を図３に示す。滞留時間４分
では一酸化炭素はほゞ消失し、炭酸ガス濃度は１０１０
０ｐｐｍとなった。この結果から、原ガスのトリクロロ
エチレン中に含まれる炭素がほぼ１００％炭酸ガスに酸
化分解されていることがわかった。
射によってほぼ１００％分解されていることが分かっ
た。この時、原ガス中には十分量の水蒸気が含まれてい
た。また、ＵＶリアクタ出口ガス中の炭酸ガス及び一酸
化炭素濃度を分析した結果を図３に示す。滞留時間４分
では一酸化炭素はほゞ消失し、炭酸ガス濃度は１０１０
０ｐｐｍとなった。この結果から、原ガスのトリクロロ
エチレン中に含まれる炭素がほぼ１００％炭酸ガスに酸
化分解されていることがわかった。
【００２７】
【発明の効果】以上述べたように本発明によれば、揮発
性有機塩素化合物を効果的に無害化し、環境汚染を防止
することができる。
性有機塩素化合物を効果的に無害化し、環境汚染を防止
することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の処理方法に用いる装置の一例を示す工
程図。
程図。
【図２】ＵＶリアクタ出口ガス中のＣＯ2 とＣＯのガス
濃度を示すグラフ。
濃度を示すグラフ。
【図３】ＵＶリアクタ出口ガス中のＣＯ2 とＣＯのガス
濃度を示すグラフ。
濃度を示すグラフ。
１：原水、２：ストリッピング装置、３：充填物、４：
送風機、５：曝気気体、６：処理水、７：排気ガス、
８：吸着剤、９：吸着装置、１０：吸着処理ガス、１
１：ボイラー、１２：水蒸気、１３：ヒーター、１４：
脱着蒸気、１５：コンデンサー、１６：分離槽、１７：
揮発性有機塩素化合物液、１８：水、１９：廃液タン
ク、２０：コンプレッサー、２１：揮発性有機塩素化合
物高濃度含有ガス、２２：加湿槽、２３：加湿空気、２
４：被処理ガス、２５：低圧紫外線ランプ、２６：ＵＶ
リアクタ、２７：塩化水素を含む分解ガス、２８：中和
槽、２９：保安フィルター、３０：無害化された処理ガ
ス
送風機、５：曝気気体、６：処理水、７：排気ガス、
８：吸着剤、９：吸着装置、１０：吸着処理ガス、１
１：ボイラー、１２：水蒸気、１３：ヒーター、１４：
脱着蒸気、１５：コンデンサー、１６：分離槽、１７：
揮発性有機塩素化合物液、１８：水、１９：廃液タン
ク、２０：コンプレッサー、２１：揮発性有機塩素化合
物高濃度含有ガス、２２：加湿槽、２３：加湿空気、２
４：被処理ガス、２５：低圧紫外線ランプ、２６：ＵＶ
リアクタ、２７：塩化水素を含む分解ガス、２８：中和
槽、２９：保安フィルター、３０：無害化された処理ガ
ス
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０２Ｆ 1/20 Ａ (72)発明者 岩泉 孝司 神奈川県藤沢市本藤沢４丁目２番１号 株 式会社荏原総合研究所内 (72)発明者 三井 康弘 東京都港区港南１丁目６番27号 荏原イン フィルコ株式会社内
Claims (6)
- 【請求項１】 揮発性有機塩素化合物を含有する気相中
に水素源を付加した後、該気相を紫外線に曝露して前記
気相中の揮発性有機塩素化合物を分解することを特徴と
する揮発性有機塩素化合物の処理方法。 - 【請求項２】 揮発性有機塩素化合物を含む溶液を曝気
して揮発性有機塩素化合物を気相中に移行させ、該気相
に水素源を付加した後、紫外線に曝露して前記気相中の
揮発性有機塩素化合物を分解することを特徴とする揮発
性有機塩素化合物の処理方法。 - 【請求項３】 揮発性有機塩素化合物を含む排ガスを活
性炭に吸着させ、該活性炭から水蒸気又は熱風により脱
着後、凝縮液化した揮発性有機塩素化合物を含む溶液
を、曝気して揮発性有機塩素化合物を気相中に移行さ
せ、該気相に水素源を付加した後、紫外線に曝露して前
記気相中の揮発性有機塩素化合物を分解することを特徴
とする揮発性有機塩素化合物の処理方法。 - 【請求項４】 前記水素源が、水蒸気又は水素を含む気
体であることを特徴とする請求項１、２又は３記載の揮
発性有機塩素化合物の処理方法。 - 【請求項５】 揮発性有機塩素化合物を含有する気相中
に水蒸気又は水素を含む気体を付加する水素源付加装置
と、該水素源を付加された揮発性有機塩素化合物を含む
気体に紫外線を照射する紫外線照射装置とを備えたこと
を特徴とする揮発性有機塩素化合物の処理装置。 - 【請求項６】 揮発性有機塩素化合物を含有する気相中
に水蒸気又は水素を含む気体を付加する水素源付加装置
と、該水素源を付加された揮発性有機塩素化合物を含む
気体に紫外線を照射する紫外線照射装置と、紫外線照射
後の気体をアルカリ剤により処理する湿式中和装置とを
備えたことを特徴とする揮発性有機塩素化合物の処理装
置。
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP32960593A JP3384464B2 (ja) | 1993-12-02 | 1993-12-02 | 揮発性有機塩素化合物の処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
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|---|---|---|---|
| JP32960593A JP3384464B2 (ja) | 1993-12-02 | 1993-12-02 | 揮発性有機塩素化合物の処理方法 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07155543A true JPH07155543A (ja) | 1995-06-20 |
| JP3384464B2 JP3384464B2 (ja) | 2003-03-10 |
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ID=18223223
Family Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP32960593A Expired - Fee Related JP3384464B2 (ja) | 1993-12-02 | 1993-12-02 | 揮発性有機塩素化合物の処理方法 |
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|---|---|
| JP (1) | JP3384464B2 (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005211704A (ja) * | 2004-01-27 | 2005-08-11 | Koken Ltd | 連続空気浄化装置 |
| US7144556B2 (en) | 2002-04-25 | 2006-12-05 | Canon Kabushiki Kaisha | Method and apparatus for decomposition of substance contained in gas |
| US7364710B2 (en) | 2002-03-28 | 2008-04-29 | Koken Ltd. | System for decomposing organic compound |
| WO2021014912A1 (ja) * | 2019-07-22 | 2021-01-28 | ウシオ電機株式会社 | ガス処理装置及びガス処理方法 |
| WO2021024653A1 (ja) * | 2019-08-08 | 2021-02-11 | ウシオ電機株式会社 | ガス処理装置、ガス処理システム及びガス処理方法 |
| WO2022163607A1 (ja) * | 2021-01-26 | 2022-08-04 | ウシオ電機株式会社 | ガス処理装置及びガス検知装置 |
-
1993
- 1993-12-02 JP JP32960593A patent/JP3384464B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7364710B2 (en) | 2002-03-28 | 2008-04-29 | Koken Ltd. | System for decomposing organic compound |
| US7722830B2 (en) | 2002-03-28 | 2010-05-25 | Koken Ltd. | System for decomposing organic compound |
| US7144556B2 (en) | 2002-04-25 | 2006-12-05 | Canon Kabushiki Kaisha | Method and apparatus for decomposition of substance contained in gas |
| JP2005211704A (ja) * | 2004-01-27 | 2005-08-11 | Koken Ltd | 連続空気浄化装置 |
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| JP2021016619A (ja) * | 2019-07-22 | 2021-02-15 | ウシオ電機株式会社 | ガス処理装置及びガス処理方法 |
| WO2021024653A1 (ja) * | 2019-08-08 | 2021-02-11 | ウシオ電機株式会社 | ガス処理装置、ガス処理システム及びガス処理方法 |
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|---|---|
| JP3384464B2 (ja) | 2003-03-10 |
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