JP3360986B2 - ハロゲン化有機化合物の分解方法およびハロゲン化有機化合物の分解装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、フロン等のハロゲ
ン化有機化合物を紫外線により分解・無害化するハロゲ
ン化有機化合物の分解方法および分解装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】ハロゲン化有機化合物は、化学工業等の
各種の分野で広く使用されてきたが、例えば有機塩素系
化合物であるトリクロロエチレンやＰＣＢ（ポリクロロ
ビフェニル）は人体に対して有害の可能性があり、さら
にフッ素を含むクロロフルオロカーボン、いわゆる特定
フロンはオゾン層を破壊して地球環境を悪化させる可能
性がある。そこで、これらハロゲン化有機化合物を分解
して無害化する方法が種々検討されている。

【０００３】例えば、液相中のハロゲン化有機化合物を
対象とする無害化方法としては、触媒分解法、紫外線等
を利用する電子線分解法、ナトリウム分解法等が研究さ
れている。これらのうち、最も実用化の可能性が高い紫
外線分解法においては、分解効率を上げるために、アル
カリを含むアルコール溶媒中にハロゲン化有機化合物、
例えばフロンを溶解した状態で紫外線を照射することが
行われてきた。

【０００４】しかし、アルカリを含むアルコール溶媒中
でハロゲン化有機化合物に紫外線を照射する方法は、脱
水素置換反応（還元反応）が行われて、最終的にハイド
ロフルオロカーボンや炭化水素にする際に、中間生成物
からハイドロフルオロカーボンや炭化水素への反応が妨
げられ、塩素を 1つまたは 2つ含む中間生成物としての
クロロフルオロカーボンが残留するという難点を有して
いた。例えば、フロンとしてＲ１１(CCl₃ F)の分解を行
った場合、Ｒ１１からＲ２１（CHCl₂ F)への塩素離脱反
応はほぼ100%進行するものの、Ｒ２１からＲ３１（CH₂
ClF)への反応やＲ３１からＲ４１（CH₃ F)への反応効率
が低下し、Ｒ２１やＲ３１のような塩素を含む中間生成
物が最終的に残留してしまう。

【０００５】上述したような中間生成物の残留を防止す
るために、例えば特開平 6-63177号公報には、アルカリ
の不存在下でアルコール溶媒等にフロンのようなハロゲ
ン化有機化合物を溶解し、まずこの状態で紫外線を照射
し、この紫外線照射後にはじめてアルカリ処理を行う、
2段階のハロゲン化有機化合物の分解方法が記載されて
いる。この方法によれば、中間生成物の残留が大幅に抑
制され、クロロフルオロカーボン（中間生成物としての
ハイドロクロロフルオロカーボンを含む）をほぼ100%分
解することができる。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た紫外線照射とアルカリ処理とを順に行う 2段階のハロ
ゲン化有機化合物の分解方法においては、紫外線照射工
程で当初のクロロフルオロカーボン等のハロゲン化有機
化合物をほぼ100%分解するのに、例えば30分以上という
ような長時間を要し、分解処理効率が低いと共に、長時
間紫外線を照射することで溶媒が高温となるために、反
応系に悪影響を及ぼすおそれがあった。このように、従
来の 2段階のハロゲン化有機化合物の分解方法では、当
初の紫外線照射工程における分解処理効率を高め、紫外
線の照射時間を短縮することが課題とされていた。

【０００７】本発明は、上述したような課題に対処する
ためになされたもので、紫外線照射工程における分解処
理効率を高めることによって、紫外線の照射時間を短縮
することを可能にしたハロゲン化有機化合物の分解方法
および分解装置を提供することを目的としている。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記目的
を達成するために研究を進めた結果、前述した従来の2
段階のハロゲン化有機化合物の分解方法では、溶媒中に
酸素が含まれることによって、紫外線の照射当初のエネ
ルギーが酸素ラジカルの生成反応に消費されてしまい、
またその酸素ラジカルが本来目的とする還元反応とは逆
の酸化反応を起こし、その結果としてハロゲン化有機化
合物の分解処理効率が低下し、紫外線を長時間照射しな
ければ当初のハロゲン化有機化合物をほぼ100%分解する
ことができないことを見出した。

【０００９】本発明は、このような知見に基いてなされ
たもので、本発明のハロゲン化有機化合物の分解方法
は、請求項１に記載したように、ハロゲン化有機化合物
を溶媒中に溶解し、この状態で前記ハロゲン化有機化合
物に紫外線を照射する第１の工程と、前記紫外線照射後
の前記ハロゲン化有機化合物を含む溶媒をアルカリ処理
する第２の工程と、前記第２の工程を経た前記溶媒から
前記ハロゲン化有機化合物の分解生成物を除去し、前記
溶媒を再生する第３の工程とを具備し、前記溶媒を予め
低濃度酸素系とする処理を行うことを特徴としている。

【００１０】また、本発明のハロゲン化有機化合物の分
解装置は、請求項３に記載したように、下部にハロゲン
化有機化合物を溶媒中に撹拌しながら溶解させるガス導
入口を有し、前記溶媒中に溶解された前記ハロゲン化有
機化合物に紫外線を照射する紫外線照射槽と、前記紫外
線照射槽に供給前の溶媒を、低濃度酸素ガスの導入処理
および減圧処理から選ばれる少なくとも 1つの処理によ
り低濃度酸素系とする溶媒脱酸素化手段と、前記紫外線
照射後の前記ハロゲン化有機化合物を含む溶媒にアルカ
リ処理を施すアルカリ処理槽とを具備することを特徴と
している。

【００１１】本発明のハロゲン化有機化合物の分解方法
においては、ハロゲン化有機化合物を溶解する溶媒を予
め低濃度酸素系としているため、紫外線によるエネルギ
ーが酸素ラジカルの生成反応に消費されることを防止す
ることができる。従って、紫外線の照射当初からそのエ
ネルギーをハロゲン化有機化合物の分解反応に利用する
ことが可能となるため、ハロゲン化有機化合物の分解処
理効率を高めることができる。すなわち、紫外線の照射
時間を短縮することが可能となる。また、本発明のハロ
ゲン化有機化合物の分解装置は、紫外線照射槽に供給前
の溶媒を低濃度酸素系とする溶媒脱酸素化手段を有して
いるため、同様にハロゲン化有機化合物の分解処理効率
を高めることが、すなわち紫外線の照射時間を短縮する
ことが可能となる。

【００１２】なお、本発明で言う低濃度酸素系とは、空
気中放置により溶解している酸素濃度より少なくとも低
濃度の状態を指すものであり、溶媒中の酸素がハロゲン
化有機化合物の分解反応を実質的に阻害しない酸素濃度
状態とすることが好ましい。具体的には溶媒中の溶存酸
素量を0.1ppm以下とすることが好ましい。

【００１３】

【発明の実施の形態】以下、本発明を実施するための形
態について説明する。

【００１４】図１は、本発明のハロゲン化有機化合物の
分解装置の一実施形態を示す図である。同図に示すハロ
ゲン化有機化合物の分解装置は、例えばガス状フロン等
のハロゲン化有機化合物を分解する装置として用いられ
る。

【００１５】同図において、１は気密系の紫外線（Ｕ
Ｖ）照射槽であり、このＵＶ照射槽１の上部には溶媒投
入口２が設けられている。この溶媒投入口２は、溶媒ポ
ンプ３が介挿された配管４を介して溶媒タンク５に接続
されている。溶媒タンク５内には、フロン等のハロゲン
化有機化合物の溶解に適した溶媒６、例えばアルコール
系溶媒、ニトリル系溶媒等が収容されている。上記した
ような溶媒のうち、特にイソプロパノール（ＩＰＡ）が
好適である。なお、以下では溶媒６としてＩＰＡを用い
た例について述べる。すなわち、溶媒タンク５内に収容
されたＩＰＡ６は処理の開始に先立って溶媒ポンプ３に
よりＵＶ照射槽１内に所定量投入される。ＵＶ照射槽１
の底部には、例えばガス状フロンをＩＰＡ６中に撹拌し
ながら溶解させるフロン導入口としてバブラー７が設け
られている。このバブラー７は、フロン投入口８と配管
９により接続されている。フロン投入口８から導入され
たガス状フロンは、ＵＶ照射槽１内のＩＰＡ６をバブリ
ングにより撹拌しながら、ＩＰＡ６中に溶解される。

【００１６】また、ＵＶ照射槽１の上部にはガス排出口
１０が設けられており、ＩＰＡ６中に溶解しきれなかっ
たフロンはガス排出口１０から排出されると共に、配管
１１およびポンプ１２を介して、再度バブラー７からＩ
ＰＡ６中に還流される。ＩＰＡ６中のフロンの濃度が所
定濃度になるまで、上記溶解・撹拌が繰り返される。な
お、フロン投入口８からは、ＵＶ照射槽１内の圧力を監
視しながら（図示せず）、逐次ガス状フロンが投入でき
るように構成されている。

【００１７】そして、ＵＶ照射槽１の中央部には、電源
１３に接続された紫外線（ＵＶ）ランプ１４が配置され
ており、ＵＶ照射槽１内のＩＰＡ６中に溶解されたフロ
ンに、アルカリがほとんど存在しない状態でＵＶランプ
１４から紫外線が照射される。なお、図中１５はＵＶラ
ンプ１４の保護管であり、ＵＶランプ１４との空隙にエ
アーを導入することによりＵＶランプ１４を冷却してい
る。ＵＶランプ１４としては、主波長 254nmの低圧水銀
灯が好ましく、出力 32W程度の通常のＵＶランプを用い
てもよいが、本発明では後に詳述するように、紫外線照
射時間の短縮により溶媒の高温化を抑制することが可能
であるため、例えば200Wの高出力ＵＶランプを用いるこ
とができる。これによって、 1度に大量のフロンを処理
することが可能となる。

【００１８】上述したＵＶ照射槽１でアルカリの不存在
下での紫外線照射工程（第１の工程）が行われ、この第
１の工程を経た紫外線照射後のフロンを含むＩＰＡは、
アルカリ処理工程（第２の工程）が実施されるアルカリ
処理槽２１に、弁２２および移送ポンプ２３が介挿され
た配管２４を介して送られる。すなわち、配管２４は弁
２２を介してＵＶ照射槽１の底部に接続されており、こ
の弁２２を開くと共に移送ポンプ２３を作動させること
によって、紫外線照射後のフロンを含むＩＰＡは溶媒投
入口２５からアルカリ処理槽２１に送られる。

【００１９】アルカリ処理槽２１の上部には、アルカリ
槽２６に接続されたアルカリ投入口２７が設けられてお
り、アルカリ槽２６には粉末アルカリ２８が収容されて
いる。粉末アルカリ２８としては、離脱させてハロゲン
を塩の形で分離し得るものであれば種々のものを使用す
ることができるが、良好な性能が得られるナトリウムや
カリウムを用いることが好ましい。これらはアルコール
系溶媒に対して溶解性に優れるアルコラート（例えばナ
トリウムアルコラート）として用いることが好ましい。
以下では、粉末アルカリ２８としてナトリウムアルコラ
ートを用いた例について述べる。

【００２０】また、アルカリ処理槽２１内の上部には洗
浄液噴射口２９が設けられており、この洗浄液噴射口２
９は洗浄液槽３０に洗浄液ポンプ３１が介挿された配管
３２を介して接続されている。洗浄液槽３０には、例え
ばNaCl水溶液３３のようなアルカリ水溶液が洗浄液とし
て収容されている。そして、紫外線照射後のフロンを含
むＩＰＡをナトリウムアルコラート２８等のアルカリで
処理した後に、アルカリ処理槽２１内に洗浄液噴射口２
９からNaCl水溶液３３等の洗浄水がシャワー噴射（シャ
ワー洗浄）されるよう構成されている。

【００２１】さらに、アルカリ処理槽２１の底部には排
出口３４が設けられており、この排出口３４は切替弁３
５、３６を介して、ＩＰＡタンク（溶媒タンク）５と廃
液タンク３７に接続されている。そして、上述したシャ
ワー洗浄を実施すると、生成塩と過剰なアルカリは洗浄
液側に移行し、最終的に再生されたＩＰＡ６′と生成塩
や過剰なアルカリを含むNaCl水溶液（廃液）３３′の 2
相に分離するため、例えばセンサ３８で液の透過率を監
視しながらアルカリ処理後の再生・分離されたＩＰＡ
６′と廃液３３′とを分別し、切替弁３５、３６により
それぞれＩＰＡタンク５および廃液タンク３７に排出す
る。

【００２２】上述したＵＶ照射槽１およびアルカリ処理
槽２１を有するハロゲン化有機化合物の分解装置は溶媒
脱酸素化手段として、溶媒（ＩＰＡ６）中への窒素ガス
導入系４１を有している。すなわち、ＩＰＡタンク（溶
媒タンク）５内には、窒素ボンベ４２に切替弁４３を介
して接続された窒素ガス導入口４４が配置されており、
この窒素ガス導入口４４からＵＶ照射槽１に投入する前
のＩＰＡ６中に窒素ガスが導入される。このように、Ｉ
ＰＡ６を予め窒素パージ（窒素置換）することによっ
て、ＩＰＡ６中の溶存酸素をフロンの分解反応を実質的
に阻害しない濃度、例えば0.1ppm以下まで除去すること
ができる。すなわち、溶媒としてのＩＰＡ６を低濃度酸
素系とすることができる。

【００２３】窒素ボンベ４２は切替弁４３および切替弁
４５を介して、バブラー７に接続された配管９にも接続
されており、切替弁４３および切替弁４５を切替えるこ
とによって、ＵＶ照射槽１内を窒素置換する、すなわち
低濃度酸素系とすることが可能とされている。すなわ
ち、溶媒脱酸素化手段としての窒素ガス導入系４１は、
ＵＶ照射槽１内の脱酸素化手段としても機能する。さら
に、ＵＶ照射槽１内のＩＰＡ６中に窒素ガスをバブリン
グにより導入することも可能であり、これによってガス
状のフロンのバブリング導入によりＩＰＡ６中に溶解し
た酸素を除去することができる。

【００２４】なお、上記実施形態では溶媒脱酸素化手段
として窒素ガス導入系４１を用いた例について説明した
が、溶媒の脱酸素化は窒素ガスに限らず、アルゴンやヘ
リウム等の他の不活性ガスを用いて行ってもよい。さら
に、溶媒脱酸素化手段は低濃度酸素ガスの導入処理に限
らず、減圧処理や前述との組合せによって実施すること
も可能である。すなわち、ＩＰＡタンク５やＵＶ照射槽
１に真空ポンプ等の排気手段を接続し、これらの槽内を
減圧することによって溶媒やＵＶ照射槽１内を低濃度酸
素系とすることができる。

【００２５】次に、上記構成のハロゲン化有機化合物の
分解装置を用いたフロンの分解工程（分解方法）にいて
説明する。

【００２６】まず、予めＩＰＡタンク５内のＩＰＡ６中
に窒素ボンベ４２から N₂ ガスを導入し、ＩＰＡ６を窒
素パージすることによって、ＩＰＡ６中の溶存酸素を予
め除去する。これに続いて、切替弁４３、４５を切替え
て N₂ ガスをＵＶ照射槽１内に導入し、系内を完全に窒
素パージしておく。

【００２７】そして、ＩＰＡタンク５から低濃度酸素系
とされたＩＰＡ６を、溶媒ポンプ３によりＵＶ照射槽１
内に投入する。ＵＶ照射槽１内にＩＰＡ６が所定量貯留
された後、ガス状フロンをフロン投入口８から導入し、
バブラー７でバブリングにより撹拌しながらＩＰＡ６中
にフロンを溶解させる。溶解しきれなかったフロンは、
ＵＶ照射槽１内部の気相中に放出されるが、ポンプ１２
によりバブラー７へ再び還流され、所定濃度になるまで
溶解・撹拌を繰り返す。

【００２８】上述した循環バブリングを実施しながら、
ＵＶランプ１４から紫外線を照射すると、ＩＰＡ６に溶
解したフロン、すなわちクロロフルオロカーボン（例え
ばＲ１１やＲ１２等）は、溶媒和効果により効率よく塩
素が 1個水素置換したハイドロクロロフルオロカーボン
（例えばＲ１１の場合にはＲ２１、Ｒ１２の場合にはＲ
２２）に100%分解する（第１の工程）。この第１の工程
はアルカリがほとんど存在しない状況下で実施される。

【００２９】この際、紫外線照射前に溶媒、すなわちＩ
ＰＡ６を予め低濃度酸素系としていると共に、ＵＶ照射
槽１内を窒素パージして低濃度酸素系としているため、
紫外線照射によるエネルギーが酸素ラジカルの生成反応
に消費されることなく、紫外線の照射当初からそのエネ
ルギーをフロンの分解反応に有効に利用することができ
る。従って、フロンの分解処理効率を高めることがで
き、紫外線の照射時間を短縮することが可能となる。な
お、紫外線の照射は、ＩＰＡ６中のフロン濃度が循環バ
ブリングにより所定濃度に到達した後、あらためて窒素
パージを実施し、その後に行うようにしてもよい。こう
することによって、フロンのバブリングにより増加した
酸素が除去され、より一層フロンの分解処理効率を高め
ることができる。

【００３０】所定時間経過した後、バブリングおよび紫
外線照射を終了する。紫外線照射後（反応後）のＩＰＡ
を、弁２２を開放すると共に移送ポンプ２３を作動させ
ることによって、アルカリ処理槽２１に移送する。

【００３１】アルカリ処理槽２１では、まず紫外線照射
後のＩＰＡ、すなわち塩素が 1個水素置換したハイドロ
クロロフルオロカーボンを含むＩＰＡに、アルカリ槽２
６からナトリウムアルコラート２８等の粉末アルカリを
添加する。ナトリウムアルコラート２８を添加すると、
第１の工程での分解生成物であるＲ２１（Ｒ１２を分解
対象とした場合はＲ２２）がさらに脱塩素し、Ｒ３１
（Ｒ３２）、さらにはＲ４１（Ｒ４２）を経て、最終的
にはCH₄ 等に分解して、100%脱塩素する（第２の工
程）。この第２の工程ではじめてアルカリ処理すること
によって、分解の中間生成物（例えばＲ２１やＲ３１、
あるいはＲ２２やＲ３２）が残留することなく、100%脱
塩素することができる。

【００３２】アルカリ処理が終了した後、NaCl水溶液３
３等の洗浄液を洗浄液噴射口２９からシャワーする。こ
のシャワー洗浄を実施すると、フロンから離脱した塩素
やフッ素とアルカリとによる生成塩（NaCl,NaF）や過剰
なアルカリは洗浄液側に移行し、最終的に再生されたＩ
ＰＡ６′と廃液３３′との 2相に分離する。分離したＩ
ＰＡ６′は副反応生成物としてアセトンを微量含んでい
るが、アセトンは無アルカリ系では紫外線の光増感剤と
して有効に用いられるため、ＩＰＡの再使用が可能とな
る。すなわち、洗浄後のＩＰＡ６′はＩＰＡタンク５に
戻され、再使用される（第３の工程）。なお、廃液３
３′は廃液タンク３７に排出して貯蔵され、通常の焼却
処理で処理される。ＩＰＡタンク５に返送されたＩＰＡ
６は再び窒素パージすることによって、ＩＰＡ６中の溶
存酸素を除去し、次の紫外線照射工程に備える。

【００３３】以上の工程を連続して行う場合について、
図２のタイムチャートを参照して説明する。図３は連続
してバッチ処理を行う場合のタイムチャートである。

【００３４】まず、前回のアルカリ処理後の洗浄処理で
再生されたＩＰＡ６′には、アルカリ処理や再生時に再
び空気中の酸素が溶解しているため、再生ＩＰＡ６′を
ＩＰＡタンク５に返送する度に窒素パージを行う必要が
ある。

【００３５】そこで、ＵＶ照射槽１でＵＶ照射(1) を行
っている間に、ＩＰＡタンク２１を窒素パージ(2) し、
次回の使用溶媒に備える。そして、ＵＶ照射(1) が終
り、アルカリ処理槽２１にＵＶ照射後の溶媒を移送した
後、ＵＶ処理槽１の窒素パージ(3) を行い、次いで (2)
で窒素パージしたＩＰＡをＵＶ処理槽１に投入し、次回
の処理に備える。

【００３６】上述したように、溶媒の窒素パージすなわ
ち低濃度酸素系処理を、ＵＶ照射すなわち第１の工程と
並行して行うことによって、連続処理中における窒素パ
ージにかかる処理時間は初期の 1回が余分にかかるのみ
となり、トータル処理時間はほぼ従来の処理時間と同等
で行うことが可能となる。

【００３７】

【実施例】次に、本発明の具体的な実施例について説明
する。なお、以下の実施例は上記実施形態のハロゲン化
有機化合物の分解装置を用いた具体的なフロンの分解例
である。

【００３８】実施例 まず、ＵＶ照射槽１に投入したＩＰＡ６に、フロンとし
てＲ１１を0.2mol/Lの割合で溶解させた。この際、予め
窒素パージにより低濃度酸素系（溶存酸素量=0.1ppm）
としたＩＰＡ６を用いた例（実施例）と、窒素パージを
行うことなく溶存酸素量が10ppm のＩＰＡを用いた例
（比較例）とを、それぞれ実施した。なお、実施例につ
いてはＵＶ照射槽１内の窒素パージも実施した。これら
実施例および比較例において、それぞれ約 200Ｗの高出
力ＵＶランプを用いて、Ｒ１１の分解を行った。

【００３９】図３に、上記実施例および比較例における
Ｒ１１の分解挙動（第１の工程による分解挙動）を比較
して示す。図３から明らかなように、窒素パージを行っ
ていない比較例の場合には、フロン（Ｒ１１）の分解反
応は紫外線の照射開始から10分経過した後に始まり、25
分後にようやく100%分解する。これに対して、窒素パー
ジを行った実施例では、紫外線の照射開始直後から反応
が始まり、照射開始から 3分でフロン（Ｒ１１）が100%
分解している。このように、溶媒を予め低濃度酸素系と
することによって、フロンの紫外線照射による分解処理
効率、すなわち紫外線の照射時間を大幅に短縮すること
ができる。窒素置換を行わない場合の立上がりが遅れる
原因としては、紫外線のエネルギーがＩＰＡ中の溶存酸
素のラジカル化に消費するために起こると考えられる。

【００４０】また、高出力ＵＶランプを用いた場合、溶
媒の吸収による発熱が問題となる。窒素置換を行ってい
ない場合、図３中の溶媒温度曲線から明らかなように、
30分のＵＶ照射中に溶媒温度が55℃程度まで達するた
め、次の第２の工程のアルカリ処理による反応熱により
溶媒が沸騰したり、重合物を作る等して、反応系に悪影
響を及ぼすおそれがある。これに対して、窒素置換を行
えばＵＶ照射時間は 3分程度で済み、溶媒温度は30℃以
下であるため、上記の問題点を克服することができる。
すなわち、アルカリ処理工程（第２の工程）を安定して
実施することが可能となる。

【００４１】このように、低濃度酸素系溶媒によるフロ
ンの紫外線分解反応は、処理効率の大幅な向上をもたら
し、バブリングによるフロンの溶解・撹拌が容易に実施
可能となるだけでなく、ＵＶランプの高出力化にも対応
可能となる。さらに、前述したように窒素パージ工程の
並列処理を行うことで、処理時間の増大を防止すること
ができる。

【００４２】なお、上述した実施形態および実施例にお
いては、本発明をＲ１１やＲ１２等の特定フロンの分解
処理に適用した例について説明したが、本発明はこれに
限定されるものではなく、トリクロロエチレンやポリ塩
化ビフェニル（ＰＣＢ）、あるいはＨＣＦＣ２２やＨＦ
Ｃ１３４ａのような代替フロン等、難分解性物質である
各種のハロゲン化有機化合物の分解処理に適用すること
が可能である。また、本発明の方法は例えば 1槽式の装
置等に応用することも可能である。

【００４３】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば予
め溶媒を低濃度酸素系とすることによって、紫外線照射
工程における分解処理効率を高めることができる。従っ
て、紫外線の照射時間を短縮することが可能となり、ハ
ロゲン化有機化合物の処理効率の向上や処理コストの低
減を図ることができる。さらに、高出力型の紫外線ラン
プの使用が可能となることから、一度に大量のハロゲン
化有機化合物を処理することが可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明のハロゲン化有機化合物の分解装置の
一実施形態を示す図である。

【図２】 本発明のハロゲン化有機化合物の分解処理に
おける処理タイムチャートの一例を示す図である。

【図３】 図１に示すハロゲン化有機化合物の分解装置
を用いたフロンの分解挙動を従来法による分解挙動と比
較して示す図である。

【符号の説明】

１……紫外線照射槽 ６……溶媒 ７……バブラー １４…紫外線ランプ ２１…アルカリ処理槽 ４１…溶媒脱酸素化手段としての窒素ガス導入系 ４２…窒素ボンベ ４４…窒素ガス導入口

フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭49−109351（ＪＰ，Ａ) 特開 昭49−41344（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−63177（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−293517（ＪＰ，Ａ) 特開 平８−759（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) A62D 3/00 C07B 35/06

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ハロゲン化有機化合物を溶媒中に溶解
   し、この状態で前記ハロゲン化有機化合物に紫外線を照
   射する第１の工程と、 前記紫外線照射後の前記ハロゲン化有機化合物を含む溶
   媒をアルカリ処理する第２の工程と、 前記第２の工程を経た前記溶媒から前記ハロゲン化有機
   化合物の分解生成物を除去し、前記溶媒を再生する第３
   の工程とを具備し、 前記溶媒を予め低濃度酸素系とする処理を行うことを特
   徴とするハロゲン化有機化合物の分解方法。
2. 【請求項２】 請求項１記載のハロゲン化有機化合物の
   分解方法において、 前記溶媒の低濃度酸素系処理を前記第１の工程ないし第
   ３の工程と並行して行うことを特徴とするハロゲン化有
   機化合物の分解方法。
3. 【請求項３】 下部にハロゲン化有機化合物を溶媒中に
   撹拌しながら溶解させるガス導入口を有し、前記溶媒中
   に溶解された前記ハロゲン化有機化合物に紫外線を照射
   する紫外線照射槽と、 前記紫外線照射槽に供給前の溶媒を、低濃度酸素ガスの
   導入処理および減圧処理から選ばれる少なくとも 1つの
   処理により低濃度酸素系とする溶媒脱酸素化手段と、 前記紫外線照射後の前記ハロゲン化有機化合物を含む溶
   媒にアルカリ処理を施すアルカリ処理槽とを具備するこ
   とを特徴とするハロゲン化有機化合物の分解装置。