JPS62190856A - 半導体パツケ−ジ - Google Patents
半導体パツケ−ジInfo
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は半導体パッケージ特に樹脂封止型高信頼性半導
体パッケージの構造に関する。
体パッケージの構造に関する。
従来の技術
多機能を一つの半導体チップに取り入れるために、パタ
ーンの微細化と並行して半導体チップが大面積化してき
ている。
ーンの微細化と並行して半導体チップが大面積化してき
ている。
現在、このような大面積半導体チップを樹脂封止型パッ
ケージに搭載する場合、Fe−Ni(42wt%)やC
u系合金から成るリードフレームのダイパッドにAu−
3i共晶や、エポキシ樹脂またはポリイミド樹脂中にA
q粉末を混合したペーストで大面積半導体チップを固着
する。。
ケージに搭載する場合、Fe−Ni(42wt%)やC
u系合金から成るリードフレームのダイパッドにAu−
3i共晶や、エポキシ樹脂またはポリイミド樹脂中にA
q粉末を混合したペーストで大面積半導体チップを固着
する。。
そして、半導体チップ表面に設けられた八2やAl1−
3L合金等で構成された端子と、リードフレームのイン
ナーリード部をAu 、 Ag 、 Cu 、 Aj!
系の細線で接続する。この時、インナーリードの先端
はAqやAu等の薄いメッキ層が施されており、この部
分と半導体チップ表面の端子の間を、超音波振動法や熱
圧着法により前記金属細線を用いて接続する。つぎに、
金属細線で半導体チップと接続されたリードフレームを
、樹脂型パッケージ成形用の金型に装着する。金型表面
温度は160〜190℃に維持されている。この金型の
キャビティー内に溶融状のノボラック系エポキシ樹脂を
注入して、半導体チップと金属細線とリードフレームの
一部を樹脂中に封じ込め、パッケージ形状に成形する。
3L合金等で構成された端子と、リードフレームのイン
ナーリード部をAu 、 Ag 、 Cu 、 Aj!
系の細線で接続する。この時、インナーリードの先端
はAqやAu等の薄いメッキ層が施されており、この部
分と半導体チップ表面の端子の間を、超音波振動法や熱
圧着法により前記金属細線を用いて接続する。つぎに、
金属細線で半導体チップと接続されたリードフレームを
、樹脂型パッケージ成形用の金型に装着する。金型表面
温度は160〜190℃に維持されている。この金型の
キャビティー内に溶融状のノボラック系エポキシ樹脂を
注入して、半導体チップと金属細線とリードフレームの
一部を樹脂中に封じ込め、パッケージ形状に成形する。
そして、樹脂の外部のリードフレームに表面処理を行い
、さらに不要部の切断2曲げ等の加工を施し、樹脂表面
のマーキングを経て、樹脂封止型パッケージが完成する
。
、さらに不要部の切断2曲げ等の加工を施し、樹脂表面
のマーキングを経て、樹脂封止型パッケージが完成する
。
発明が解決しようとする問題点
従来の樹脂封止型パッケージは、高温金型中に溶融樹脂
を注入して成形する際に、樹脂の硬化収縮と室温に戻る
時の熱収縮が生じる。そのために樹脂内部のStから成
る半導体チップに圧縮、剪断等の応力を与えて、その結
果、S1単結晶にピエゾ効果が作用する。そして半導体
チップの表面に作製された各素子の特性に変動を生じさ
せる。
を注入して成形する際に、樹脂の硬化収縮と室温に戻る
時の熱収縮が生じる。そのために樹脂内部のStから成
る半導体チップに圧縮、剪断等の応力を与えて、その結
果、S1単結晶にピエゾ効果が作用する。そして半導体
チップの表面に作製された各素子の特性に変動を生じさ
せる。
この変動量は、半導体チップの大きさや位置。
パッケージング用樹脂の種類、パッケージの形状、等で
異なるために、これらの要因を正確に把握して、樹脂封
止型パッケージを設計することは不可能である。
異なるために、これらの要因を正確に把握して、樹脂封
止型パッケージを設計することは不可能である。
さらに、半導体チップ表面と樹脂との界面で生じる剪断
応力は、半導体チップ表面上の金属配線微細パターンに
移動を生じさせ、同時に表面保護膜も破壊する。
応力は、半導体チップ表面上の金属配線微細パターンに
移動を生じさせ、同時に表面保護膜も破壊する。
これは、パターンくずれや、耐湿性の劣化等の問題につ
ながる。
ながる。
問題点を解決するだめの手段
前記問題点を解決するため本発明は、半導体チップとダ
イパッドとダイパッド受皿とよりなり、前記半導体チッ
プが前記ダイパッド上にダイスボンドされ、前記ダイパ
ッドが前記グイパッド受け皿に嵌合され、前記グイパッ
ド受け皿の周囲に前記ダイパッドの半導体チップ固着面
より高い仕切シ壁を有し、前記仕切り壁と前記半導体チ
ップ側面間に充填された弾性材料を有する事を特徴とす
る樹脂封止型半導体パッケージを提供する。
イパッドとダイパッド受皿とよりなり、前記半導体チッ
プが前記ダイパッド上にダイスボンドされ、前記ダイパ
ッドが前記グイパッド受け皿に嵌合され、前記グイパッ
ド受け皿の周囲に前記ダイパッドの半導体チップ固着面
より高い仕切シ壁を有し、前記仕切り壁と前記半導体チ
ップ側面間に充填された弾性材料を有する事を特徴とす
る樹脂封止型半導体パッケージを提供する。
作 用
本発明は、半導体チップの表面や側面をシリコーン樹脂
のような弾性材料で覆うことで、半導体チップの各部で
の集中応力を避けることができ、その結果、応力分散が
図れる。さらに、半導体チップ表面の剪断応力を著しく
低減できる等の作用を生ずる。
のような弾性材料で覆うことで、半導体チップの各部で
の集中応力を避けることができ、その結果、応力分散が
図れる。さらに、半導体チップ表面の剪断応力を著しく
低減できる等の作用を生ずる。
実施例
以下に本発明の実施例として樹脂封止型デュアルインラ
インパッケージの構造を用いて、第1図と第2図を参照
しながら説明していく。
インパッケージの構造を用いて、第1図と第2図を参照
しながら説明していく。
第1図は、本発明を達成するだめの工程断面図を示す。
先ず、第1図Aに示すようにF@−Ni (42wt%
)合金からなるリードフレーム1のダイパッド2と、そ
の周辺にリードの先端が位置するインナーリード3とが
存在する。ダイパッド2と半導体チップダイスボッ14
フフ面4とインナーリード3の先端上面には、1〜3μ
mのAqやAu のメッキ層6が設けられている。
)合金からなるリードフレーム1のダイパッド2と、そ
の周辺にリードの先端が位置するインナーリード3とが
存在する。ダイパッド2と半導体チップダイスボッ14
フフ面4とインナーリード3の先端上面には、1〜3μ
mのAqやAu のメッキ層6が設けられている。
次に、第1図Bに示すように81やその他の化合物から
なる半導体チップ6を、Au−9i共晶法やAqペース
トで半導体チップダイスボンディング面4に固着する。
なる半導体チップ6を、Au−9i共晶法やAqペース
トで半導体チップダイスボンディング面4に固着する。
Au−8t共晶法は、380〜560’Cの低酸素濃度
雰囲気で半導体チップ6を半導体チップダイスボンディ
ング面4に固着する。
雰囲気で半導体チップ6を半導体チップダイスボンディ
ング面4に固着する。
次に第1図Cに示すように半導体チップ6の表面の端子
7とインナ−リード3先端部のメッキ層6の間を、Au
やAqやCuやA2系の合金からなる金属細線8で接続
する。接続は室温から460℃の間の温度範囲で、超音
波振動法や熱圧着法により行う。
7とインナ−リード3先端部のメッキ層6の間を、Au
やAqやCuやA2系の合金からなる金属細線8で接続
する。接続は室温から460℃の間の温度範囲で、超音
波振動法や熱圧着法により行う。
次に第1図りに示すように金属や樹脂、セラミック等で
成形された、グイパッド受け皿9をダイパッド2とイン
ナーリード3の先端との間に、はめ込む。グイパッド受
け皿9は底面を支持台10で支持しておく。グイパッド
受け皿9の周囲は0.4〜0.7m+の高さの仕切シ壁
11が設けである。
成形された、グイパッド受け皿9をダイパッド2とイン
ナーリード3の先端との間に、はめ込む。グイパッド受
け皿9は底面を支持台10で支持しておく。グイパッド
受け皿9の周囲は0.4〜0.7m+の高さの仕切シ壁
11が設けである。
第1図Eに示すようにダイパッド2にはめ込まれた、グ
イパッド受け皿9の内側にシリコーン樹脂等のような硬
化後に弾性を有する液状の弾性材料12を滴下し、硬化
させる。滴下量は仕切り壁11を越えず、しかも半導体
装置6全体が埋没する程度にする。そして弾性材料12
を150〜200℃の温度と空気中で硬化する。その後
に支持台1oを取シ除く。硬化後の弾性材料12はゼリ
ー状である。
イパッド受け皿9の内側にシリコーン樹脂等のような硬
化後に弾性を有する液状の弾性材料12を滴下し、硬化
させる。滴下量は仕切り壁11を越えず、しかも半導体
装置6全体が埋没する程度にする。そして弾性材料12
を150〜200℃の温度と空気中で硬化する。その後
に支持台1oを取シ除く。硬化後の弾性材料12はゼリ
ー状である。
次に第1図Fに示すようにこのような半導体チップ6と
インナーリード3、そして金属細線8をノボラック系の
エポキシ等のような封止樹脂13でパッケージ14の形
状に成形する。
インナーリード3、そして金属細線8をノボラック系の
エポキシ等のような封止樹脂13でパッケージ14の形
状に成形する。
以上の工程を適用することで本発明が達成できる。
第2図は、本発明で得られる樹脂封止型デュアルインラ
インパッケージ14の内部構造を表わした上方斜視図で
ある。
インパッケージ14の内部構造を表わした上方斜視図で
ある。
発明の効果
本発明は、半導体チップの表面と側面とを弾性樹脂等の
ような材料で覆うことで、 (1)封止樹脂から生じる硬化、熱収縮による半導体チ
ップの局部集中応力の発生が防止出来、応力分散が図れ
るために、半導体チップ表面の特性変動の分布が防げる
。
ような材料で覆うことで、 (1)封止樹脂から生じる硬化、熱収縮による半導体チ
ップの局部集中応力の発生が防止出来、応力分散が図れ
るために、半導体チップ表面の特性変動の分布が防げる
。
(2)半導体チップ表面と封止樹脂の接触面が生じない
ために剪断応力による半導体チップ表面での金属配線パ
ターンの移動と、それに伴う表面保護膜の破壊が防止で
き、更に特性変動も同時に防止できる。
ために剪断応力による半導体チップ表面での金属配線パ
ターンの移動と、それに伴う表面保護膜の破壊が防止で
き、更に特性変動も同時に防止できる。
(3)半導体チップのコーナーやエッヂが露出しないた
めに、熱サイクル等による封止樹脂のマイクロクラック
が軽減出来る。
めに、熱サイクル等による封止樹脂のマイクロクラック
が軽減出来る。
第1図は本発明による樹脂封止型半導体パッケージの製
造工程断面図、第2図はその上方斜視図である。 1・・・・・・リードフレーム、2・・・・・・タイバ
ット、3・・・・・・インナーリード、4・・・・・・
半導体チップダイスポンディング面、5・・・・・・メ
ッキ層、6・・・・・・半導体チップ、7・・・・・・
端子、8・・・・・・金属細線、9・・・・・・ダイパ
ッド受け皿、10・・・・・・支持台、11・・・・・
・仕切り壁、12・・・・・・弾性材料、13・・・・
・・封止樹脂、14・・・・・・パッケージ。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名I−
リーVフL−4 2−・−ダ′づIi”yP J−−−y−7〒4 1−手4俸九7゜ 第2図
造工程断面図、第2図はその上方斜視図である。 1・・・・・・リードフレーム、2・・・・・・タイバ
ット、3・・・・・・インナーリード、4・・・・・・
半導体チップダイスポンディング面、5・・・・・・メ
ッキ層、6・・・・・・半導体チップ、7・・・・・・
端子、8・・・・・・金属細線、9・・・・・・ダイパ
ッド受け皿、10・・・・・・支持台、11・・・・・
・仕切り壁、12・・・・・・弾性材料、13・・・・
・・封止樹脂、14・・・・・・パッケージ。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名I−
リーVフL−4 2−・−ダ′づIi”yP J−−−y−7〒4 1−手4俸九7゜ 第2図
Claims (1)
- 半導体チップとダイパッドとダイパッド受け皿とよりな
り、前記半導体チップが前記ダイパッド上にダイスボン
ドされ、前記ダイパッドが前記ダイパッド受け皿に嵌合
され、前記ダイパッド受け皿の周囲に前記ダイパッドの
半導体チップ固着面より高い仕切り壁を有し、前記仕切
り壁と前記半導体チップ側面間に充填された弾性材料を
有する事を特徴とする半導体パッケージ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61034685A JPS62190856A (ja) | 1986-02-18 | 1986-02-18 | 半導体パツケ−ジ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61034685A JPS62190856A (ja) | 1986-02-18 | 1986-02-18 | 半導体パツケ−ジ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62190856A true JPS62190856A (ja) | 1987-08-21 |
Family
ID=12421254
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61034685A Pending JPS62190856A (ja) | 1986-02-18 | 1986-02-18 | 半導体パツケ−ジ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62190856A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2692719A1 (fr) * | 1992-06-19 | 1993-12-24 | Thomson Composants Militaires | Senseur pyroélectrique et procédé de fabrication. |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62117369U (ja) * | 1986-01-18 | 1987-07-25 |
-
1986
- 1986-02-18 JP JP61034685A patent/JPS62190856A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62117369U (ja) * | 1986-01-18 | 1987-07-25 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2692719A1 (fr) * | 1992-06-19 | 1993-12-24 | Thomson Composants Militaires | Senseur pyroélectrique et procédé de fabrication. |
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