JPS62187680U - - Google Patents

Description

【図面の簡単な説明】

第１図は本考案の実施例によるスプレー装置を
示す一部断面正面図、第２図は同実施例による噴
出手段と配管とを示す図であり、同図ａは正面図
、同図ｂは斜視図、同図ｃは第３図中のＸ_１―Ｘ
_１線断面を示す断面図、第３図は噴出手段の底面
図、第４図は基板に吹き付けられた処理液の状態
と加工残留物の除去される状態とを示す平面図、
第５図は従来のスプレー装置を示す一部断面正面
図、第６図ａ及びｂは遠心力に逆らつて処理液が
吹き付けられる状態を示す図であり、同図ａは平
面図、同図ｂは同図ａ中のＸ_２―Ｘ_２線断面を示
す断面図である。 ８……チヤンバー、９……基板、９ａ……基板
の回転中心、９ｂ……基板の外周、１０……載置
台、１１……駆動装置、１２……噴出手段、１３
……配管、１４……排出口、１５……噴出手段本
体上部、１６……噴出手段本体下部、１７，１８
，１９，２０，２１，２２，２３……噴射ノズル
、１７ａ，１８ａ，１９ａ，２０ａ，２１ａ，２
２ａ，２３ａ……噴出孔、２４……処理液。

Claims (1)

1. 【実用新案登録請求の範囲】 (1) 基板を載置・保持する載置台と、前記載置
   台を回転させる駆動装置と、前記基板の一主表面
   上方に配置した、前記一主表面に処理液を噴出す
   る複数の噴出孔を有する噴出手段とを具備し、か
   つ前記噴出孔を、前記処理液の噴出方向が、前記
   基板の一主表面の上方から前記基板の外周方向及
   び回転中心のみに向かうように配設したことを特
   徴とするスプレー装置。 (2) 基板の一主表面上方が、前記基板の回転中
   心上方であることを特徴とする実用新案登録請求
   の範囲第(1)項記載のスプレー装置。 (3) 複数の噴出孔が、噴出手段に平面視略Ｓ字
   状に配置されていることを特徴とする実用新案登
   録請求の範囲第(1)項又は第(2)項記載のスプレー
   装置。