JPS62176936A - 光フアイバプリフオ−ムの製造方法および製造装置 - Google Patents
光フアイバプリフオ−ムの製造方法および製造装置Info
- Publication number
- JPS62176936A JPS62176936A JP61016956A JP1695686A JPS62176936A JP S62176936 A JPS62176936 A JP S62176936A JP 61016956 A JP61016956 A JP 61016956A JP 1695686 A JP1695686 A JP 1695686A JP S62176936 A JPS62176936 A JP S62176936A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- reaction vessel
- gas
- optical fiber
- preform
- pressure
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 title claims abstract description 42
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 21
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 72
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims abstract description 26
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 22
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 19
- 238000004017 vitrification Methods 0.000 claims abstract description 13
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 28
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- 239000010453 quartz Substances 0.000 claims description 15
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 10
- 239000007789 gas Substances 0.000 abstract description 57
- 239000012535 impurity Substances 0.000 abstract description 4
- 238000005805 hydroxylation reaction Methods 0.000 abstract 3
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 abstract 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 8
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 6
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 description 5
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 4
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 3
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 150000004678 hydrides Chemical class 0.000 description 2
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910017827 Cu—Fe Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000567 combustion gas Substances 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010348 incorporation Methods 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 239000011343 solid material Substances 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/018—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD] by glass deposition on a glass substrate, e.g. by inside-, modified-, plasma-, or plasma modified- chemical vapour deposition [ICVD, MCVD, PCVD, PMCVD], i.e. by thin layer coating on the inside or outside of a glass tube or on a glass rod
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/01446—Thermal after-treatment of preforms, e.g. dehydrating, consolidating, sintering
- C03B37/0146—Furnaces therefor, e.g. muffle tubes, furnace linings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B20/00—Processes specially adapted for the production of quartz or fused silica articles, not otherwise provided for
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/01446—Thermal after-treatment of preforms, e.g. dehydrating, consolidating, sintering
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2201/00—Type of glass produced
- C03B2201/06—Doped silica-based glasses
- C03B2201/08—Doped silica-based glasses doped with boron or fluorine or other refractive index decreasing dopant
- C03B2201/10—Doped silica-based glasses doped with boron or fluorine or other refractive index decreasing dopant doped with boron
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
- Glass Melting And Manufacturing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
この発明は、ガラス原料物質ガスを加熱反応させてガラ
ス微粒子を合成し、回転する出発部材に堆積して多孔質
プリフォームを形成させ、さらに当該多孔質プリフォー
ムを加熱#融して多孔質プリフォーム中の水酸基除去お
よび多孔質プリフォームを透明ガラス化すに関する。
ス微粒子を合成し、回転する出発部材に堆積して多孔質
プリフォームを形成させ、さらに当該多孔質プリフォー
ムを加熱#融して多孔質プリフォーム中の水酸基除去お
よび多孔質プリフォームを透明ガラス化すに関する。
〈従来の技術〉
光ファイバプリフォームを製造する方法として、従来か
ら内付けCVD法、外付けCVD法、軸付は法が知られ
ている。
ら内付けCVD法、外付けCVD法、軸付は法が知られ
ている。
内付けCVD法は、特公昭51−23185号公報明細
書に示されるように石英管内(又はガラス管内)にガラ
ス原料物質t″導くと共に、石英管を外部から加熱して
石英管内壁にガラス微粒子を堆積させて多孔質プリフォ
ームを形成させた後、石英管を回転させながら加熱溶融
して中実化(コラ−ゲス)し、透明なガラス化された光
ファイバプリフォームを製造するものであった。
書に示されるように石英管内(又はガラス管内)にガラ
ス原料物質t″導くと共に、石英管を外部から加熱して
石英管内壁にガラス微粒子を堆積させて多孔質プリフォ
ームを形成させた後、石英管を回転させながら加熱溶融
して中実化(コラ−ゲス)し、透明なガラス化された光
ファイバプリフォームを製造するものであった。
外付けCVD@は、ガラス原料物質ガスを酸水素燃焼バ
ーナ中で火炎加水分解し、回転する出発部材上にガラス
微粒子を堆積させて多孔質プリフォームを形成させた後
、この多孔質プリフォームを加熱処理して、透明な光フ
ァイバプリフォームに生成させるものであった。
ーナ中で火炎加水分解し、回転する出発部材上にガラス
微粒子を堆積させて多孔質プリフォームを形成させた後
、この多孔質プリフォームを加熱処理して、透明な光フ
ァイバプリフォームに生成させるものであった。
また、軸付は法はガラス原料物質ガスを酸水素燃焼バー
ナ中に供給して火炎分解させてガラス微粒子を合成し、
回転する出発部材上に多孔質プリフォームを形成させた
後、さらに加熱ヒータで加熱処理(溶融)し透明ガラス
化した光ファイバプリフォームを生成させるものであっ
た。
ナ中に供給して火炎分解させてガラス微粒子を合成し、
回転する出発部材上に多孔質プリフォームを形成させた
後、さらに加熱ヒータで加熱処理(溶融)し透明ガラス
化した光ファイバプリフォームを生成させるものであっ
た。
上述した光ファイ・ぐプリフォームの製造方法中、内付
けCVD法は化学反応が閉管内で行うから、生成する光
ファイバプリフォームに不純物が混入することが避けら
れる。また、多孔質プリフォームの形成に水素が直接関
与しないので水酸基が含有する機会が著しく低減できる
。この結果、得られる光ファイバの光吸収損失は著しく
低減できる。しかし、上述した内付けCVD法でも、使
用するガラス原料物質ガス中に含まれる水分や、水素化
物(たとえば5iC1!、H,5iC4H,,5icl
!Hs)、あるいは石英管(又はガラス管)の内面に付
着している水分に起因して、堆積する多孔質プリフォー
ムに水酸基を含有する場合があった。
けCVD法は化学反応が閉管内で行うから、生成する光
ファイバプリフォームに不純物が混入することが避けら
れる。また、多孔質プリフォームの形成に水素が直接関
与しないので水酸基が含有する機会が著しく低減できる
。この結果、得られる光ファイバの光吸収損失は著しく
低減できる。しかし、上述した内付けCVD法でも、使
用するガラス原料物質ガス中に含まれる水分や、水素化
物(たとえば5iC1!、H,5iC4H,,5icl
!Hs)、あるいは石英管(又はガラス管)の内面に付
着している水分に起因して、堆積する多孔質プリフォー
ムに水酸基を含有する場合があった。
内付けCVD法において多孔質プリフォームに含まれる
水酸基を低減させる方法として、たとえば特開昭52−
143842号において提案されているようにCVD反
応がおこる石英管部の手前に、前段反応部を設け、当該
前段反応部において、化学反応 81 C14+ 2 Ht O→Sx O! +4 H
CI 5SiHCノs + C% → 5i02
+ HCI’ + C1lをおこさせて水分や水
素化物類を除き、光ファイバプリフォーム中に水酸基が
生成するのを阻止しようとする提案がなされておった。
水酸基を低減させる方法として、たとえば特開昭52−
143842号において提案されているようにCVD反
応がおこる石英管部の手前に、前段反応部を設け、当該
前段反応部において、化学反応 81 C14+ 2 Ht O→Sx O! +4 H
CI 5SiHCノs + C% → 5i02
+ HCI’ + C1lをおこさせて水分や水
素化物類を除き、光ファイバプリフォーム中に水酸基が
生成するのを阻止しようとする提案がなされておった。
また外付けCVD法は、多孔質プリフォーム生成の化学
反応を閉管内で行わず、かつ酸水素燃焼バーナを使用す
るため、合成される多孔質プリフォーム中に水酸基が含
まれることを阻止できなかった。さらに、多孔質プリフ
ォームを透明ガラス化する加熱処理工程において、プリ
フォームに含まれ九ガスが完全に抜は切れずプリフォー
ム中に残留し、生成する光ファイバプリフォームの光伝
送特性に好ましからざる影響を与えておった。このよう
な外付けCVD法の製法上の欠陥を解消するため、たと
えば特開昭49−9514号は、酸水素燃焼バーナに使
用する水素ガスの代シにCOガスを用いることを提案し
、特開昭49−18909号では出発部材上に多孔質プ
リフォームを沈積させた後、これを真空中で加熱するこ
とを提案しているし、特開昭50−149356号では
乾燥したハロゲン雰囲気中で加熱すべきことを提案して
いる。また、多孔質プリフォーム中の残留ガスを除く方
法として、特開昭49−9523号は多孔質プリフォー
ム中の残留ガスが未ガラス化部から逃げるに充分な速度
で、当該多孔質プリフォームを不活性ガス雰囲気炉中へ
徐々に挿入すべきことを提案している。
反応を閉管内で行わず、かつ酸水素燃焼バーナを使用す
るため、合成される多孔質プリフォーム中に水酸基が含
まれることを阻止できなかった。さらに、多孔質プリフ
ォームを透明ガラス化する加熱処理工程において、プリ
フォームに含まれ九ガスが完全に抜は切れずプリフォー
ム中に残留し、生成する光ファイバプリフォームの光伝
送特性に好ましからざる影響を与えておった。このよう
な外付けCVD法の製法上の欠陥を解消するため、たと
えば特開昭49−9514号は、酸水素燃焼バーナに使
用する水素ガスの代シにCOガスを用いることを提案し
、特開昭49−18909号では出発部材上に多孔質プ
リフォームを沈積させた後、これを真空中で加熱するこ
とを提案しているし、特開昭50−149356号では
乾燥したハロゲン雰囲気中で加熱すべきことを提案して
いる。また、多孔質プリフォーム中の残留ガスを除く方
法として、特開昭49−9523号は多孔質プリフォー
ム中の残留ガスが未ガラス化部から逃げるに充分な速度
で、当該多孔質プリフォームを不活性ガス雰囲気炉中へ
徐々に挿入すべきことを提案している。
さらに軸付は法はガラス微粒子の合成に使用する酸水素
燃焼バーナに燃焼ガスとして水素ガスを使用しておるし
、大気中に含まれる水蒸気などのため形成される多孔質
プリフォーム中に水酸基が多量に含まれ、生成した光フ
ァイバプリフォームから光ファイバを作ると、その光フ
ァイバの光伝送特性に悪影4#ヲ及ぼす欠点があった。
燃焼バーナに燃焼ガスとして水素ガスを使用しておるし
、大気中に含まれる水蒸気などのため形成される多孔質
プリフォーム中に水酸基が多量に含まれ、生成した光フ
ァイバプリフォームから光ファイバを作ると、その光フ
ァイバの光伝送特性に悪影4#ヲ及ぼす欠点があった。
このような軸付は法の欠点を除くべく、特開昭54−1
27194号はガラス原料物質ガスにハロガフ元素を含
む5ick、、Ge C14,B C1sガスを使用す
べきことを提案している。また特開昭54−94050
号は第4図に示すようにガス導入管3およびガス排出管
4を介して反応容器2内に乾燥ガスを流しながら、反応
容器2外の加熱炉5によって容器内多孔質プリフォーム
1を加熱すべきことを提案している。
27194号はガラス原料物質ガスにハロガフ元素を含
む5ick、、Ge C14,B C1sガスを使用す
べきことを提案している。また特開昭54−94050
号は第4図に示すようにガス導入管3およびガス排出管
4を介して反応容器2内に乾燥ガスを流しながら、反応
容器2外の加熱炉5によって容器内多孔質プリフォーム
1を加熱すべきことを提案している。
〈発明が解決しようとする問題点〉
しかし上述した従来方法に従って透明ガラス化された光
ファイバプリフォームは、いずれも水酸基や不純物の混
入を完全に阻止することは困難であった。
ファイバプリフォームは、いずれも水酸基や不純物の混
入を完全に阻止することは困難であった。
たとえば上述した特開昭54−94050号に示される
ように多孔質プリフォーム6を乾燥ガスを流した反応容
器2内で加熱したとしても、反応容器2を構成する材質
から不純物、特にCu−Feなどの金属が排出され、プ
リフォームに混入したり、反応容器2の気密性が充分で
ないため、容器2内ガス圧と大気圧間に圧力差を生じ、
大気中の水分が容器2内に入りプリフォーム6中に入る
可能性を阻止できない。
ように多孔質プリフォーム6を乾燥ガスを流した反応容
器2内で加熱したとしても、反応容器2を構成する材質
から不純物、特にCu−Feなどの金属が排出され、プ
リフォームに混入したり、反応容器2の気密性が充分で
ないため、容器2内ガス圧と大気圧間に圧力差を生じ、
大気中の水分が容器2内に入りプリフォーム6中に入る
可能性を阻止できない。
また、プリフォームを加熱処理する際の高温のため、反
応容器を変形させ耐用寿命を短命にする欠点があった。
応容器を変形させ耐用寿命を短命にする欠点があった。
さらに作業環境、安全衛生の面からも、反応容器内ガス
を容器外にもれないように注意する必要があった。
を容器外にもれないように注意する必要があった。
この発明はガラス原料物質ガスを加熱反応によりガラス
微粒子を合成し、回転する出発部材上に堆積させ多孔質
プリフォームを形成させ、得られた多孔質プリフォーム
を加熱処理し水酸基除去および透明ガラス化し、光ファ
イバプリフォームを生成する従来の光ファイバプリフォ
ームの欠点を除去するためになされたものであって、一
旦、形成された多孔質プリフォームを透明ガラス化する
際に、反応容器内において一定ガス圧の下で多孔質プリ
フォームを水酸基除去および透明ガラス化温度に加熱処
理することにより、再現性が高を提供しようとするもの
である。
微粒子を合成し、回転する出発部材上に堆積させ多孔質
プリフォームを形成させ、得られた多孔質プリフォーム
を加熱処理し水酸基除去および透明ガラス化し、光ファ
イバプリフォームを生成する従来の光ファイバプリフォ
ームの欠点を除去するためになされたものであって、一
旦、形成された多孔質プリフォームを透明ガラス化する
際に、反応容器内において一定ガス圧の下で多孔質プリ
フォームを水酸基除去および透明ガラス化温度に加熱処
理することにより、再現性が高を提供しようとするもの
である。
く問題点を解決するための手段〉
以上の目的を達成するため、この発明の光ファイ・々プ
リフォームの製造方法は、ガラス原料物質ガスを加熱反
応させてガラス微粒子を合成し、回転する出発部材上に
堆積・成長させて多孔質プリフォームと形成後さらに当
該多孔質プリフォームを反応容器内において加熱処理し
多孔質プリフォームを透明ガラス化する光ファイバプリ
フォームの製造方法において、反応容器内多孔質プリフ
ォームの加熱処理を反応容器内の内圧を一定範囲のガス
圧に維持コントロールすると共に、水酸基除去および透
明ガラス化温度に加熱することにより行うことを特徴と
するものである。
リフォームの製造方法は、ガラス原料物質ガスを加熱反
応させてガラス微粒子を合成し、回転する出発部材上に
堆積・成長させて多孔質プリフォームと形成後さらに当
該多孔質プリフォームを反応容器内において加熱処理し
多孔質プリフォームを透明ガラス化する光ファイバプリ
フォームの製造方法において、反応容器内多孔質プリフ
ォームの加熱処理を反応容器内の内圧を一定範囲のガス
圧に維持コントロールすると共に、水酸基除去および透
明ガラス化温度に加熱することにより行うことを特徴と
するものである。
また、この発明の光ファイバプリフォームの製造装置は
、多孔質プリフォームを内挿する反応容器と、反応容器
に設は次ガス尋入管および排出管と、反応容器を内挿で
きる開口部分を有しかつ反応容器内多孔質プリフォーム
を水酸基除去温度および透明ガラス化温度に加熱する加
熱ヒータと、反応容器内内圧を検知する圧力センサニと
、当該圧力センサーに検知した反応容器内内圧と設定値
のガス圧とを比較すると共にそれらの差信号により、前
記反応容器のガス導入管側ガス流入量調節バルブ又はガ
ス排出管側のガス流出量調節バルブを制御し反応容器内
内圧を一定範囲内に維持コントロールする制御器とから
成ることを特徴とするものである。
、多孔質プリフォームを内挿する反応容器と、反応容器
に設は次ガス尋入管および排出管と、反応容器を内挿で
きる開口部分を有しかつ反応容器内多孔質プリフォーム
を水酸基除去温度および透明ガラス化温度に加熱する加
熱ヒータと、反応容器内内圧を検知する圧力センサニと
、当該圧力センサーに検知した反応容器内内圧と設定値
のガス圧とを比較すると共にそれらの差信号により、前
記反応容器のガス導入管側ガス流入量調節バルブ又はガ
ス排出管側のガス流出量調節バルブを制御し反応容器内
内圧を一定範囲内に維持コントロールする制御器とから
成ることを特徴とするものである。
〈作 用〉
この発明の光ファイバプリフォームの製造方法は、以上
のように多孔質プリフォームを加熱処理する反応容器の
内圧をコントロールし、反応容器の変形の変形を阻止し
ながら、反応容器内で大気の影響を受けることなく水酸
基除去処理および透明ガラス化が行われるので、再現性
がよく安定して光ファイバプリフォームを製造すること
ができる。
のように多孔質プリフォームを加熱処理する反応容器の
内圧をコントロールし、反応容器の変形の変形を阻止し
ながら、反応容器内で大気の影響を受けることなく水酸
基除去処理および透明ガラス化が行われるので、再現性
がよく安定して光ファイバプリフォームを製造すること
ができる。
また、この発明の光ファイバプリフォームの製造装置は
、反応容器を加熱炉に挿入可能の構造にし、反応容器内
圧を検知する圧力センサーを設け、圧力センサーに検知
されたガス圧と予め般定されたガス圧値とを絞量しその
差信号を反応容器のガス導入雪又はガス排出管側の流量
調節バルブに送って、反応容器内を流れるガス圧を一定
範囲に制御する構造になっているから、前述した光ファ
イバプリフォームの製造方法を忠実に実施することがで
きる。
、反応容器を加熱炉に挿入可能の構造にし、反応容器内
圧を検知する圧力センサーを設け、圧力センサーに検知
されたガス圧と予め般定されたガス圧値とを絞量しその
差信号を反応容器のガス導入雪又はガス排出管側の流量
調節バルブに送って、反応容器内を流れるガス圧を一定
範囲に制御する構造になっているから、前述した光ファ
イバプリフォームの製造方法を忠実に実施することがで
きる。
く実 施 例〉
次に、この発明の光ファイバプリフォームの製造方法を
、下記の装置を代表例として具体的に説明する。
、下記の装置を代表例として具体的に説明する。
実施例1
第1図は、この発明の光ファイバプリフォームの製造方
法を実施するために用いる装置の概略構成図である。図
中、7は反応容器内圧を検知する圧力センサーとしての
圧力計、1は多孔質プリフォーム、2aは純石英製の反
応容器、3は反応容器2a内K CI!t ガスお反応
容器2aのガス排出管、4aはガス排出管のガス流量調
節バルブ、5は反応容器2a外から容器内多孔質プリフ
ォームlを加熱する加熱ヒータ、8は圧力計7に検知し
た反応容器2a内ガス圧と設定器9に予め設定された圧
力値とを比較し、その差信号をバルブ4aに送り、ガス
排出管4から流出するガス流量を制御する制御器、10
は回転する出発棒である。
法を実施するために用いる装置の概略構成図である。図
中、7は反応容器内圧を検知する圧力センサーとしての
圧力計、1は多孔質プリフォーム、2aは純石英製の反
応容器、3は反応容器2a内K CI!t ガスお反応
容器2aのガス排出管、4aはガス排出管のガス流量調
節バルブ、5は反応容器2a外から容器内多孔質プリフ
ォームlを加熱する加熱ヒータ、8は圧力計7に検知し
た反応容器2a内ガス圧と設定器9に予め設定された圧
力値とを比較し、その差信号をバルブ4aに送り、ガス
排出管4から流出するガス流量を制御する制御器、10
は回転する出発棒である。
この光ファイバプリフォーム製造装置の反応容器2aの
材質は純石英で構成したものである。そして、この容器
2aをたとえば容器内圧を大気圧に対して、−0,5m
maq 〜Ommaqにし、多孔質プリフォーム1を9
00℃〜1650℃で加熱処理したところ、第3図(a
)に示すごとく雀かに0へこみ”2bを生じたが、3個
月間継続使用しても何等の支障も生じなかった。
材質は純石英で構成したものである。そして、この容器
2aをたとえば容器内圧を大気圧に対して、−0,5m
maq 〜Ommaqにし、多孔質プリフォーム1を9
00℃〜1650℃で加熱処理したところ、第3図(a
)に示すごとく雀かに0へこみ”2bを生じたが、3個
月間継続使用しても何等の支障も生じなかった。
そして、得られた光ファイバプリフォームから1シング
ルモード光フアイバ”を作ったところ、1.39μmに
おける水酸基吸収ピークはl dBA以下であり、容器
2aから大気中にC12のガスもれや、容器内への大気
の侵入がなかったことを示すものである。
ルモード光フアイバ”を作ったところ、1.39μmに
おける水酸基吸収ピークはl dBA以下であり、容器
2aから大気中にC12のガスもれや、容器内への大気
の侵入がなかったことを示すものである。
実施例2
第2図はこの発明の光ファイバプリフォームの製造に使
用する他の製造装置の概略構成を示し、反応容器2aに
流すC/2およびHeガスのガス圧コントロールを、ガ
ス導入管4側のガス流量調節パルグ4aで行う以外は第
1図に示す実施例1の製造装置と全く同じ構成になって
いる。
用する他の製造装置の概略構成を示し、反応容器2aに
流すC/2およびHeガスのガス圧コントロールを、ガ
ス導入管4側のガス流量調節パルグ4aで行う以外は第
1図に示す実施例1の製造装置と全く同じ構成になって
いる。
そして、本実施例(実施例2)において、反応容器2a
内ガス圧を大気圧に対しOmmaq〜Immaqに制御
し、反応ヒータ5の加熱温度を900℃〜1650℃で
加熱処理したところ、反応容器2aに第3図(b)に示
すごとく0ふくらみ”2cを生じたが、使用に何等の障
害も現われず、2.5個月もの間、安定して継続使用で
きた。
内ガス圧を大気圧に対しOmmaq〜Immaqに制御
し、反応ヒータ5の加熱温度を900℃〜1650℃で
加熱処理したところ、反応容器2aに第3図(b)に示
すごとく0ふくらみ”2cを生じたが、使用に何等の障
害も現われず、2.5個月もの間、安定して継続使用で
きた。
実施例1,2で使用した反応容器の材質は純石英で作っ
たものについて例示したが、一般には、純石英に限らず
他の材質で作ったものでもよい。ただ、純石英製のもの
は気室性が高く、他の材質のものに比べて得られる光フ
ァイバプリフォームの水酸基除去効果および透明ガラス
化が極めてよい。しかし、反応容器内ガス圧と容器外大
気圧との圧力差が余り大きくなると、容器は第3図(a
) 、 (b)に示すように変形するので、その圧力差
を一定範囲内に抑える必要がある。
たものについて例示したが、一般には、純石英に限らず
他の材質で作ったものでもよい。ただ、純石英製のもの
は気室性が高く、他の材質のものに比べて得られる光フ
ァイバプリフォームの水酸基除去効果および透明ガラス
化が極めてよい。しかし、反応容器内ガス圧と容器外大
気圧との圧力差が余り大きくなると、容器は第3図(a
) 、 (b)に示すように変形するので、その圧力差
を一定範囲内に抑える必要がある。
さらに、この反応容器内に挿入した多孔質プリフォーム
は、他の場所(たとえば反応容器)で生成した多孔質プ
リフォームを、実施例のように、純石英製反応容器内で
加熱し、水酸基除去および透明ガラス化する場合につい
て例示したが、既製の多孔質プリフォームを水酸基除去
および透明ガラス化する場合に限らず、同一の反応容器
内において酸水素燃焼バーナ内にガラス原料物質ガスを
投入して火炎加水分解させてガラス微粒子を合成し、反
応容器内に挿入されかつ回転する出発部材上に当該ガラ
ス微粒子を沈積して多孔質プリフォームを形成させた後
、上記工程にしたがって多孔質プリフォームの水酸基除
去および透明ガラス化のための加熱処理を行ってもよい
O 〈発明の効果〉 以上の説明から明らかなように、この発明の光ファイバ
プリフォームの製造方法によると、反応容器の変形を防
ぎ、容器の耐用寿命を延長することができる。
は、他の場所(たとえば反応容器)で生成した多孔質プ
リフォームを、実施例のように、純石英製反応容器内で
加熱し、水酸基除去および透明ガラス化する場合につい
て例示したが、既製の多孔質プリフォームを水酸基除去
および透明ガラス化する場合に限らず、同一の反応容器
内において酸水素燃焼バーナ内にガラス原料物質ガスを
投入して火炎加水分解させてガラス微粒子を合成し、反
応容器内に挿入されかつ回転する出発部材上に当該ガラ
ス微粒子を沈積して多孔質プリフォームを形成させた後
、上記工程にしたがって多孔質プリフォームの水酸基除
去および透明ガラス化のための加熱処理を行ってもよい
O 〈発明の効果〉 以上の説明から明らかなように、この発明の光ファイバ
プリフォームの製造方法によると、反応容器の変形を防
ぎ、容器の耐用寿命を延長することができる。
また、反応容器内圧をコントロールすることにより反応
容器内に導入したCI!、ガスおよび不活性ガスにより
多孔質プリフォーム中の水酸基除去および透明ガラス化
を再現性よく安定して実施することができる。
容器内に導入したCI!、ガスおよび不活性ガスにより
多孔質プリフォーム中の水酸基除去および透明ガラス化
を再現性よく安定して実施することができる。
さらに、この発明の光ファイバプリフォームの製造方法
によれば、製造コストの低下および製品のバラツキを減
少させることもできる。
によれば、製造コストの低下および製品のバラツキを減
少させることもできる。
第1図および第2図は、いずれもこの発明の光ファイバ
プリフォームの製造方法の実施に使用する製造i置の代
表的な実施例の概略構成図、第3図(a) (b)は第
1図および第2図に示す製造装置における反応容器内内
圧と大気圧差による反応容器の変形状態を示す説明図、
第4図は従来の光ファイバプリフォームの製造装置の概
略構成図である。 図 面 中、 l・・・多孔質プリフォーム、 2・・・反応容器、 2a・・・純石英製反応容器、 3・・・ガス導入管、 3a・・・ガス導入管側ガス流量調節バルブ、4・・・
ガス排出管、 4a・・・ガス排出管側ガス流量調節バルグ、5・・・
加熱ヒータ、 7・・・圧力計、 8・・・制御器、 9・・・設定器、 10・・・出発棒。 第1図 第2図 第3図 (a) (b)
第4図
プリフォームの製造方法の実施に使用する製造i置の代
表的な実施例の概略構成図、第3図(a) (b)は第
1図および第2図に示す製造装置における反応容器内内
圧と大気圧差による反応容器の変形状態を示す説明図、
第4図は従来の光ファイバプリフォームの製造装置の概
略構成図である。 図 面 中、 l・・・多孔質プリフォーム、 2・・・反応容器、 2a・・・純石英製反応容器、 3・・・ガス導入管、 3a・・・ガス導入管側ガス流量調節バルブ、4・・・
ガス排出管、 4a・・・ガス排出管側ガス流量調節バルグ、5・・・
加熱ヒータ、 7・・・圧力計、 8・・・制御器、 9・・・設定器、 10・・・出発棒。 第1図 第2図 第3図 (a) (b)
第4図
Claims (7)
- (1)ガラス原料物質ガスを加熱反応させてガラス微粒
子を合成し、回転する出発部材上に堆積・成長させて多
孔質プリフォームを形成後さらに当該多孔質プリフォー
ムを反応容器内において加熱処理し多孔質プリフォーム
を透明ガラス化する光ファイバプリフォームの製造方法
において、反応容器内多孔質プリフォームの加熱処理を
反応容器内の内圧を一定範囲のガス圧に維持コントロー
ルすると共に、水酸基除去および透明ガラス化温度に加
熱することにより行うことを特徴とする光ファイバプリ
フォームの製造方法。 - (2)反応容器内に導入するガスの導入量を調節するこ
とにより反応容器内ガス圧を一定範囲にコントロールす
ることを特徴とする特許請求の範囲第(1)項記載の光
ファイバプリフォームの製造方法。 - (3)反応容器から排出するガスの流出量を調節するこ
とにより反応容器内ガス圧を一定範囲にコントロールす
ることを特徴とする特許請求の範囲第(1)項記載の光
ファイバプリフォームの製造方法。 - (4)反応容器に材質が純石英製のものを使用すること
を特徴とする特許請求の範囲第(1)項記載の光ファイ
バプリフォームの製造方法。 - (5)反応容器内ガス圧を大気圧に対して−2mmaq
から5mmaqの範囲に維持コントロールしながら多孔
質プリフォームを加熱処理することを特徴とする特許請
求の範囲第(4)項記載の光ファイバプリフォームの製
造方法。 - (6)多孔質プリフォームを内挿する反応容器と、反応
容器に設けたガス導入管および排出管と、反応容器を内
挿できる開口部分を有しかつ反応容器内多孔質プリフォ
ームを水酸基除去温度および透明ガラス化温度に加熱す
る加熱ヒータと、反応容器内内圧を検知する圧力センサ
ーと、当該圧力センサーに検知した反応容器内内圧と設
定値のガス圧とを比較すると共にそれらの差信号により
前記反応容器のガス導入管側ガス流入量調節バルブ又は
ガス排出管側のガス流出量調節バルブを制御し反応容器
内内圧を一定範囲に維持コントロールする制御器とから
なることを特徴とする光ファイバプリフォームの製造装
置。 - (7)反応容器の材質を純石英で構成したことを特徴と
する特許請求の範囲第(6)項記載の光ファイバプリフ
ォームの製造装置。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61016956A JPS62176936A (ja) | 1986-01-30 | 1986-01-30 | 光フアイバプリフオ−ムの製造方法および製造装置 |
DK041287A DK41287A (da) | 1986-01-30 | 1987-01-26 | Fremgangsmaade og apparat til fremstilling af glasraaemne til optiske fibre |
AU68121/87A AU584779B2 (en) | 1986-01-30 | 1987-01-29 | Method and apparatus for producing glass preform for optical fiber |
EP87101307A EP0232815A1 (en) | 1986-01-30 | 1987-01-30 | Method and apparatus for producing glass preform for optical fiber |
KR1019870000739A KR900004122B1 (ko) | 1986-01-30 | 1987-01-30 | 광파이버프리포옴의 제조방법 및 제조장치 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61016956A JPS62176936A (ja) | 1986-01-30 | 1986-01-30 | 光フアイバプリフオ−ムの製造方法および製造装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62176936A true JPS62176936A (ja) | 1987-08-03 |
Family
ID=11930560
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61016956A Pending JPS62176936A (ja) | 1986-01-30 | 1986-01-30 | 光フアイバプリフオ−ムの製造方法および製造装置 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0232815A1 (ja) |
JP (1) | JPS62176936A (ja) |
KR (1) | KR900004122B1 (ja) |
AU (1) | AU584779B2 (ja) |
DK (1) | DK41287A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6050108A (en) * | 1997-09-08 | 2000-04-18 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Method for producing glass preform |
CN113735422A (zh) * | 2021-08-31 | 2021-12-03 | 华中科技大学 | 一种石英玻璃拉制过程中在线监测温度的测温系统及方法 |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4741748A (en) * | 1986-01-30 | 1988-05-03 | Corning Glass Works | Heating oven for preparing optical waveguide fibers |
US4950319A (en) * | 1986-01-30 | 1990-08-21 | Corning Incorporated | Heating oven for preparing optical waveguide fibers |
JPH029727A (ja) * | 1988-06-28 | 1990-01-12 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 光フアイバ用母材の製造方法 |
WO1991011401A1 (fr) * | 1990-02-05 | 1991-08-08 | The Furukawa Electric Co., Ltd. | Verres quartzeux dopes avec un element de terre rare et production d'un tel verre |
JP3175247B2 (ja) * | 1991-12-16 | 2001-06-11 | 住友電気工業株式会社 | 光ファイバ用多孔質母材の加熱透明化方法 |
DE4236578A1 (de) * | 1992-10-29 | 1994-06-23 | Deutsche Bundespost Telekom | Verfahren und Vorrichtung zur Vorformherstellung für Quarzglas- Lichtwellenleiter |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5854097A (ja) * | 1981-09-22 | 1983-03-30 | 荒川化学工業株式会社 | 紙の抄造方法 |
JPS6046938A (ja) * | 1983-08-19 | 1985-03-14 | Hitachi Cable Ltd | 光ファイバ母材の製造方法 |
JPS6126531A (ja) * | 1984-07-12 | 1986-02-05 | Hitachi Cable Ltd | 光フアイバ母材の製造方法 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3203349A1 (de) * | 1981-11-28 | 1983-06-09 | Licentia Patent-Verwaltungs-Gmbh, 6000 Frankfurt | Verfahren und vorrichtung zur herstellung einer optischen glasfaser mit geringem oh -ionengehalt |
IT1155119B (it) * | 1982-03-05 | 1987-01-21 | Cselt Centro Studi Lab Telecom | Procedimento e dispositivo per la produzione di preforme per fibre ottiche |
GB2143519B (en) * | 1983-07-20 | 1986-12-17 | Standard Telephones Cables Ltd | Optical fibre preform manufacture |
JPS6136129A (ja) * | 1984-07-30 | 1986-02-20 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 光フアイバ用ガラス母材の製造方法 |
US4600442A (en) * | 1984-08-14 | 1986-07-15 | Hughes Aircraft Company | Process for the removal of impurities from optical component materials |
-
1986
- 1986-01-30 JP JP61016956A patent/JPS62176936A/ja active Pending
-
1987
- 1987-01-26 DK DK041287A patent/DK41287A/da not_active Application Discontinuation
- 1987-01-29 AU AU68121/87A patent/AU584779B2/en not_active Ceased
- 1987-01-30 EP EP87101307A patent/EP0232815A1/en not_active Withdrawn
- 1987-01-30 KR KR1019870000739A patent/KR900004122B1/ko not_active IP Right Cessation
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5854097A (ja) * | 1981-09-22 | 1983-03-30 | 荒川化学工業株式会社 | 紙の抄造方法 |
JPS6046938A (ja) * | 1983-08-19 | 1985-03-14 | Hitachi Cable Ltd | 光ファイバ母材の製造方法 |
JPS6126531A (ja) * | 1984-07-12 | 1986-02-05 | Hitachi Cable Ltd | 光フアイバ母材の製造方法 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6050108A (en) * | 1997-09-08 | 2000-04-18 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Method for producing glass preform |
CN113735422A (zh) * | 2021-08-31 | 2021-12-03 | 华中科技大学 | 一种石英玻璃拉制过程中在线监测温度的测温系统及方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR870007444A (ko) | 1987-08-19 |
DK41287A (da) | 1987-07-31 |
AU6812187A (en) | 1987-08-06 |
EP0232815A1 (en) | 1987-08-19 |
DK41287D0 (da) | 1987-01-26 |
KR900004122B1 (ko) | 1990-06-16 |
AU584779B2 (en) | 1989-06-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6319550B1 (en) | Method and apparatus for treating silica granules using porous graphite crucible | |
US7452518B2 (en) | Process for treating synthetic silica powder and synthetic silica powder treated thereof | |
US3806570A (en) | Method for producing high quality fused silica | |
JP2004203736A (ja) | 高純度溶融シリカの製造方法 | |
JPS5844619B2 (ja) | 光フアイバ母材の製造法 | |
JPS62176936A (ja) | 光フアイバプリフオ−ムの製造方法および製造装置 | |
JPH07300324A (ja) | 耐熱性合成石英ガラスの製造方法 | |
JPS60122741A (ja) | 光ファイバ母材の製造法 | |
JPH0952722A (ja) | 光学用合成石英ガラス材及びその製造方法、並びに該光学用合成石英ガラス材を用いた合成石英ガラス製品 | |
JPS59174538A (ja) | 光フアイバ母材の製造方法 | |
JPH0226848A (ja) | 高純度石英ガラスの製造方法 | |
JP3188517B2 (ja) | 石英ガラスの製造方法 | |
JPH05279049A (ja) | 合成石英ガラスの製造方法 | |
AU650761B2 (en) | Process for production of glass article | |
JPH02208230A (ja) | 高純度・高粘性シリカガラスの製造方法 | |
JPS62162646A (ja) | ガラス微粒子堆積体の製造方法 | |
JP2002249342A (ja) | ガラス体およびその製造方法 | |
JPS6227341A (ja) | 溶融ガラス体の製造方法 | |
KR20240137890A (ko) | 실리콘 단결정 잉곳의 산소 농도 제어 방법 및 실리콘 단결정 잉곳의 성장 장치 | |
JPH04325433A (ja) | 光ファイバ用母材の製造方法 | |
JPS58213838A (ja) | ゲルマニウムの回収方法 | |
JPS5845132A (ja) | Vad法における光フアイバ−母材の製造方法および装置 | |
JPS62143834A (ja) | 光フアイバ用母材の製造方法 | |
JPH0269328A (ja) | 光ファイバ用母材の製造方法 | |
JPH02180729A (ja) | 光ファイバ用母材の製造方法 |