JPS59174538A - 光フアイバ母材の製造方法 - Google Patents
光フアイバ母材の製造方法Info
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- JPS59174538A JPS59174538A JP4955283A JP4955283A JPS59174538A JP S59174538 A JPS59174538 A JP S59174538A JP 4955283 A JP4955283 A JP 4955283A JP 4955283 A JP4955283 A JP 4955283A JP S59174538 A JPS59174538 A JP S59174538A
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- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/01446—Thermal after-treatment of preforms, e.g. dehydrating, consolidating, sintering
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- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
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- C03B2201/31—Doped silica-based glasses doped with metals, e.g. Ga, Sn, Sb, Pb or Bi doped with germanium
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- C03B2207/06—Concentric circular ports
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2207/00—Glass deposition burners
- C03B2207/20—Specific substances in specified ports, e.g. all gas flows specified
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2207/00—Glass deposition burners
- C03B2207/20—Specific substances in specified ports, e.g. all gas flows specified
- C03B2207/22—Inert gas details
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は光ファイ・々母材の製造方法に係り、特に気相
軸付法(Vapar−Phase axia7 dep
osition;VAD法)による光ファイ・々母材の
製造方法の改良に関するものである。
軸付法(Vapar−Phase axia7 dep
osition;VAD法)による光ファイ・々母材の
製造方法の改良に関するものである。
光ファイノ々母材の製造方法としてVAD法があるが、
この方法では加熱加水分解反応を用いているので、多孔
質母材中にOH基が残る。したがって、この多孔質母材
をそのままの状態で焼結ガラス化して光ファイノス母材
とすると、加熱延伸して光ファイノ々化したときに、そ
の光ファイバのOH基による吸収損失が著しく増大する
。OH基を除外する方法としては、CJbや8oc12
などのハロゲン化剤を多孔質母材成長中あるいは多孔質
母材の焼結ガラス化時に流す方法が知られているが、こ
のような方法では、ハロゲン化剤にょるOH基の除去効
果が、多孔質母材のかさ密度、処理温度、ハロゲン止剤
流量、ハロゲン止剤純度等によって左右され、最適範囲
がせまく、制御が容易でない。ま次、OH基の除去効果
があったにもがかわらず、光7アイ・々としたときの伝
送損失が増大する場合もある。
この方法では加熱加水分解反応を用いているので、多孔
質母材中にOH基が残る。したがって、この多孔質母材
をそのままの状態で焼結ガラス化して光ファイノス母材
とすると、加熱延伸して光ファイノ々化したときに、そ
の光ファイバのOH基による吸収損失が著しく増大する
。OH基を除外する方法としては、CJbや8oc12
などのハロゲン化剤を多孔質母材成長中あるいは多孔質
母材の焼結ガラス化時に流す方法が知られているが、こ
のような方法では、ハロゲン化剤にょるOH基の除去効
果が、多孔質母材のかさ密度、処理温度、ハロゲン止剤
流量、ハロゲン止剤純度等によって左右され、最適範囲
がせまく、制御が容易でない。ま次、OH基の除去効果
があったにもがかわらず、光7アイ・々としたときの伝
送損失が増大する場合もある。
本発明は上記に鑑みてなされたもので、その目的とする
ところは、0■I基濃度が低く、低損失の光ファイノこ
とすることができる光ファイノζ母材を製造することが
できる光ファイ・ζ母材の製造方法を提供することにあ
る。
ところは、0■I基濃度が低く、低損失の光ファイノこ
とすることができる光ファイノζ母材を製造することが
できる光ファイ・ζ母材の製造方法を提供することにあ
る。
本発明の特徴は、多孔質母材はかさ密度が0.22/
CCになるように成長させ、この多孔質母材を焼結ガラ
ス化するときに、まず、上記多孔質母材を不活性ガス中
で透明ガラス化しない1000 〜1250℃の範囲の
温度で少なくとも1回予備焼結し、その後、不活性ガス
中で透明ガラス化するさらに高い温度で仕上焼結して透
明ガラス化して光ファイノ々母材を製造するようにした
点にある。
CCになるように成長させ、この多孔質母材を焼結ガラ
ス化するときに、まず、上記多孔質母材を不活性ガス中
で透明ガラス化しない1000 〜1250℃の範囲の
温度で少なくとも1回予備焼結し、その後、不活性ガス
中で透明ガラス化するさらに高い温度で仕上焼結して透
明ガラス化して光ファイノ々母材を製造するようにした
点にある。
以下本発明の方法の一実施例を第1図〜第4図を用いて
詳細に説明する。
詳細に説明する。
第1図は本発明の製造方法の一実施例を説明するだめの
装置の一例を示す全体縦断面図である。
装置の一例を示す全体縦断面図である。
第1図において、1は上方に向けて垂直に立てた・ζ−
す、2はガス導入ノ!ラス管、3はチャン・9合4は差
圧計、5はガラス管、6は排気孔付ガラスチャンノ々、
7は多孔質母材、8は仕切ガラス板、9はフラン、ジ、
10は差圧計である。また、11は7ランジ、12はカ
ーiンヒータ、13は炉体カッζ−114はガスカーテ
ン、15は差圧計、16はガラス管、17はカーゼンシ
ートシーリング板、18は焼結ガラス、19は石英棒タ
ーゲット、20はノ々−ナー支持台、21は火炎、22
はカーヂン炉芯管である。
す、2はガス導入ノ!ラス管、3はチャン・9合4は差
圧計、5はガラス管、6は排気孔付ガラスチャンノ々、
7は多孔質母材、8は仕切ガラス板、9はフラン、ジ、
10は差圧計である。また、11は7ランジ、12はカ
ーiンヒータ、13は炉体カッζ−114はガスカーテ
ン、15は差圧計、16はガラス管、17はカーゼンシ
ートシーリング板、18は焼結ガラス、19は石英棒タ
ーゲット、20はノ々−ナー支持台、21は火炎、22
はカーヂン炉芯管である。
光ファイ・ぐ、母材を製造する場合は、4重管となって
いる・ζ−す1に原料および燃料を送シ込む。
いる・ζ−す1に原料および燃料を送シ込む。
すなわち、5ic4を1200ray/馴10ec14
を1001+9/mtn 、 Poc4を1〜smy/
=+ 、 Arを1200 ((7m 、 N2を4.
37/馴1 o2をs、2s//rの流量で送り込む。
を1001+9/mtn 、 Poc4を1〜smy/
=+ 、 Arを1200 ((7m 、 N2を4.
37/馴1 o2をs、2s//rの流量で送り込む。
このとき、加水分解反応によって酸化物微粒子が生成さ
れ、この酸化物微粒子がバーナ1の上方の石英棒ターゲ
ット19の先端に堆積し、多孔質母材7が成長する。こ
の場合、〕ζ−す1上方の火炎21周辺に配置されたガ
ラス管5から不活性ガス・(Nωを吹き出させ、これを
火炎21および多孔質母材7に当てて多孔質母材7の低
面形状が所定の形状す不活性N2ガスは、火炎25の流
れ及び多孔質母料lOの温度を整えてその形状と組成が
所定のものとなるようにしている。また、多孔質母材1
0の堆積中の状態はその先端外周の直径DI+D2及び
D3の3個所を同時にテレビジョンカメラ26、テレビ
ジョンディスプレイ27によって表示測定でできるよう
にして調節可能にしている。
れ、この酸化物微粒子がバーナ1の上方の石英棒ターゲ
ット19の先端に堆積し、多孔質母材7が成長する。こ
の場合、〕ζ−す1上方の火炎21周辺に配置されたガ
ラス管5から不活性ガス・(Nωを吹き出させ、これを
火炎21および多孔質母材7に当てて多孔質母材7の低
面形状が所定の形状す不活性N2ガスは、火炎25の流
れ及び多孔質母料lOの温度を整えてその形状と組成が
所定のものとなるようにしている。また、多孔質母材1
0の堆積中の状態はその先端外周の直径DI+D2及び
D3の3個所を同時にテレビジョンカメラ26、テレビ
ジョンディスプレイ27によって表示測定でできるよう
にして調節可能にしている。
上記3重管構造の)ζ−す1の中心管より5icR4を
2oowq1分、Gecl14をtaoq/分、Arキ
ャリア800CC/分、N2を25L/分の混合ガスを
噴出し、その外側の管からはArを1.2β/分、最外
管よシは02を5I1.7分供給する。また、ノクーナ
lの周辺に配設したガラス管からN2を供給しているが
、内側から101!、7分、20わ毎、30f1.7分
、302!分の順に流して火炎25を安定化し、多孔質
母材10の形状を制御している。このようなガス流量を
設定し 、S−す1の中心と石英棒ターゲット20の中
心とのずれ質母材10を焼結ガラス化することによって
次に示すような光ファイノ々母材19が得られた。
2oowq1分、Gecl14をtaoq/分、Arキ
ャリア800CC/分、N2を25L/分の混合ガスを
噴出し、その外側の管からはArを1.2β/分、最外
管よシは02を5I1.7分供給する。また、ノクーナ
lの周辺に配設したガラス管からN2を供給しているが
、内側から101!、7分、20わ毎、30f1.7分
、302!分の順に流して火炎25を安定化し、多孔質
母材10の形状を制御している。このようなガス流量を
設定し 、S−す1の中心と石英棒ターゲット20の中
心とのずれ質母材10を焼結ガラス化することによって
次に示すような光ファイノ々母材19が得られた。
分を1呻次ゼ過させる。このとき、カーゼンヒータ12
の部分を通過した予備焼結体23は透明な焼結ガラス1
8となり、目的とする光ファイ・ζ母材が得られる。
の部分を通過した予備焼結体23は透明な焼結ガラス1
8となり、目的とする光ファイ・ζ母材が得られる。
上記のようにして製造した光ファイ・ζ母材の分光特性
は、第4図の曲線aに示すようになシ、従来の1回の焼
結で焼結ガラス化した光ファイノ々母材の分光特性を示
す曲線すと比較すると良好となり、波長1.3μmでの
伝送損失は0.6dB/kmと小さくなる。これはOH
基除去効果があったことによるもので、本発明の方法に
よって製造した光ファイノ々母材の残存OH基濃度は2
0 p p bであった。
は、第4図の曲線aに示すようになシ、従来の1回の焼
結で焼結ガラス化した光ファイノ々母材の分光特性を示
す曲線すと比較すると良好となり、波長1.3μmでの
伝送損失は0.6dB/kmと小さくなる。これはOH
基除去効果があったことによるもので、本発明の方法に
よって製造した光ファイノ々母材の残存OH基濃度は2
0 p p bであった。
第3図は本発明の方法の他の実施例を説明するための第
2図に相当する説明図で、第2図と同一部分は同じ符号
で示しである。第3図においては、炉体カッζ−13内
のカーIン炉芯管22の部分に図示のようK 1250
℃に加熱するカーインヒータ12と1450℃に加熱す
るカーゼンヒータ12′とを設け、第2図の場合と同様
、ガラス管16内にはHeガスヲ2ol/=の流量で上
から下へ流し、ガス管16内の内圧が外部よりも0.2
〜1 mml−120高くなる状態にし、多孔質母材7
を下から上へ1 mm /―の速度で引き上げ、カーボ
ンヒータ12の部分で多孔質母材7を予備焼結体23と
し、この予備焼結体23をカーボンヒータ12′の部分
で焼結ガラス18として光ファイノζ母材を得るように
しである。この場合も、第4図の曲線a、l!:同様の
分光特性のものが製造できる。
2図に相当する説明図で、第2図と同一部分は同じ符号
で示しである。第3図においては、炉体カッζ−13内
のカーIン炉芯管22の部分に図示のようK 1250
℃に加熱するカーインヒータ12と1450℃に加熱す
るカーゼンヒータ12′とを設け、第2図の場合と同様
、ガラス管16内にはHeガスヲ2ol/=の流量で上
から下へ流し、ガス管16内の内圧が外部よりも0.2
〜1 mml−120高くなる状態にし、多孔質母材7
を下から上へ1 mm /―の速度で引き上げ、カーボ
ンヒータ12の部分で多孔質母材7を予備焼結体23と
し、この予備焼結体23をカーボンヒータ12′の部分
で焼結ガラス18として光ファイノζ母材を得るように
しである。この場合も、第4図の曲線a、l!:同様の
分光特性のものが製造できる。
以上説明したように、本発明によれば、OH基濃度が低
く、低損失の光ファイ・ことすることができる光ファイ
ノ々母材を製造することができるという効果がある。
く、低損失の光ファイ・ことすることができる光ファイ
ノ々母材を製造することができるという効果がある。
第1図は本発明の光ファイ・ζ母材の製造方法の一実施
例を説明するだめの装置の一例を示す全体縦断面図、第
2図は本発明の方法の要点の一実施例を説明するための
説明図、第3図は本発明の方法の要点の他の実施例を説
明するだめの第2図に相当する説明図、第4図は光ファ
イノこの分光特性線図である。 1・・′す々−す、7・・・多孔質母材、12.12’
・・・カーボンヒータ、16・・・ガラス管、18・・
・焼結ガラス、19・・・石英棒ターゲット、21・・
・火炎、22・・・カーヂン炬芯管、23・・・予備焼
結体。 第 1 目 算21 (a) lbl曝3図
例を説明するだめの装置の一例を示す全体縦断面図、第
2図は本発明の方法の要点の一実施例を説明するための
説明図、第3図は本発明の方法の要点の他の実施例を説
明するだめの第2図に相当する説明図、第4図は光ファ
イノこの分光特性線図である。 1・・′す々−す、7・・・多孔質母材、12.12’
・・・カーボンヒータ、16・・・ガラス管、18・・
・焼結ガラス、19・・・石英棒ターゲット、21・・
・火炎、22・・・カーヂン炬芯管、23・・・予備焼
結体。 第 1 目 算21 (a) lbl曝3図
Claims (1)
- 1、 垂直に立てた・々−すの火炎中に原料を送り込ん
で酸化物微粉子を生成し、該酸化物微粒子を前記・々−
す上方の棒状体の先端をターゲットとして吹き付けて堆
積させて多孔質母材を成長させ、その後、該多孔質母材
を焼結ガラス化して光フアイバ母材を製造するときに、
前記多孔質部材はかさ密度が0.2ft/ccになるよ
うに成長させ、該多孔質部材を焼結ガラス化するときに
、まず、前記多孔質母材を不活性ガス中で透明ガラス化
しない1000〜1250℃の範囲の温度で少なくとも
1回予備焼結し、その後、不活性ガス中で透明ガラス化
するさらに高い温度で仕上焼結して透明ガラス化するこ
とを特徴とする光ファイ・9母材の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4955283A JPS59174538A (ja) | 1983-03-24 | 1983-03-24 | 光フアイバ母材の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4955283A JPS59174538A (ja) | 1983-03-24 | 1983-03-24 | 光フアイバ母材の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59174538A true JPS59174538A (ja) | 1984-10-03 |
Family
ID=12834353
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4955283A Pending JPS59174538A (ja) | 1983-03-24 | 1983-03-24 | 光フアイバ母材の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS59174538A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6272536A (ja) * | 1985-09-25 | 1987-04-03 | Asahi Glass Co Ltd | 高純度石英ガラスの製造方法 |
JPS6283325A (ja) * | 1985-10-08 | 1987-04-16 | Asahi Glass Co Ltd | 高純度石英ガラスの製造方法 |
JPS62187130A (ja) * | 1986-01-30 | 1987-08-15 | コーニング インコーポレイテッド | ガラス材料処理用加熱炉 |
EP0547560A2 (en) † | 1991-12-16 | 1993-06-23 | Sumitomo Electric Industries, Ltd | Process for vitrification of a porous preform for glass optical fibers by heating under reduce |
EP0626351A1 (en) * | 1993-05-24 | 1994-11-30 | Litespec, Inc. | Process for sintering porous optical fibre preforms |
US5656057A (en) * | 1995-05-19 | 1997-08-12 | Corning Incorporated | Method for drying and sintering an optical fiber preform |
-
1983
- 1983-03-24 JP JP4955283A patent/JPS59174538A/ja active Pending
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6272536A (ja) * | 1985-09-25 | 1987-04-03 | Asahi Glass Co Ltd | 高純度石英ガラスの製造方法 |
JPH0416416B2 (ja) * | 1985-09-25 | 1992-03-24 | Asahi Glass Co Ltd | |
JPS6283325A (ja) * | 1985-10-08 | 1987-04-16 | Asahi Glass Co Ltd | 高純度石英ガラスの製造方法 |
JPS62187130A (ja) * | 1986-01-30 | 1987-08-15 | コーニング インコーポレイテッド | ガラス材料処理用加熱炉 |
EP0547560A2 (en) † | 1991-12-16 | 1993-06-23 | Sumitomo Electric Industries, Ltd | Process for vitrification of a porous preform for glass optical fibers by heating under reduce |
EP0547560B2 (en) † | 1991-12-16 | 2001-03-28 | Sumitomo Electric Industries, Ltd | Process for vitrification of a porous preform for glass optical fibers by heating under reduced pressure |
EP0626351A1 (en) * | 1993-05-24 | 1994-11-30 | Litespec, Inc. | Process for sintering porous optical fibre preforms |
US5656057A (en) * | 1995-05-19 | 1997-08-12 | Corning Incorporated | Method for drying and sintering an optical fiber preform |
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