JPS62176886A - 光記録方法 - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、光記録媒体を用いた光記録方法に関し、特に
1枚の光ディスクで変色記録とビット記録との併用、す
なわち3値記録を可能とし、かつ低出力の半導体レーザ
ーを用いた場合でも、高密度、高感度な光記録が可能で
あり、省エネルギーの面で有利な光記録方法に関する。
1枚の光ディスクで変色記録とビット記録との併用、す
なわち3値記録を可能とし、かつ低出力の半導体レーザ
ーを用いた場合でも、高密度、高感度な光記録が可能で
あり、省エネルギーの面で有利な光記録方法に関する。
最近、オフィスオートメーションの中心的な存在として
光ディスク、光テープ、光カード(以下光ディスクと総
称する)等の光記録媒体が注目を集めている0例えば光
ディスクは、一枚のディスク中に大量の文書、文献等を
記録保存できるため、オフィスにおける文書等の整理、
管理が効率よ〈実施できるという利点を有している。
光ディスク、光テープ、光カード(以下光ディスクと総
称する)等の光記録媒体が注目を集めている0例えば光
ディスクは、一枚のディスク中に大量の文書、文献等を
記録保存できるため、オフィスにおける文書等の整理、
管理が効率よ〈実施できるという利点を有している。
このような光デイスク技術で用いる記録層は。
光学的に検出可能な小さな(例えばlμs)ドツトをら
せん状または円形のトラック形態にして、高密度情報を
記憶することができる。
せん状または円形のトラック形態にして、高密度情報を
記憶することができる。
□ この光デイスク技術に用いるディスクとしては、例
えばレーザーに対して感応する材料からなる記録層を基
板上に設けた構成のものが代表的である。このディスク
に情報を書き込むには、レーザー感応層(記録層)に集
束したレーザーを走査し、このレーザー光線が照射され
た表面のみにドツトを形成させ、記録情報に応じてこの
ドツトをらせん状または円形トラックの形態で形成する
。すなわちレーザー感応層は、レーザー・エネルギーを
吸収して光学的に検出可能なドツトを形成できる0例え
ばヒートモード記録方式では、レーザー感応層は熱エネ
ルギーを吸収し、その個所に蒸発または融解により小さ
な凹部(ピット)からなるドツトを形成できる。また、
別のヒートモード記録方式では、照射されたレーザー・
エネルギーの吸収により、その個所に光学的に検出可能
な変色部からなるドツトを形成できる。
えばレーザーに対して感応する材料からなる記録層を基
板上に設けた構成のものが代表的である。このディスク
に情報を書き込むには、レーザー感応層(記録層)に集
束したレーザーを走査し、このレーザー光線が照射され
た表面のみにドツトを形成させ、記録情報に応じてこの
ドツトをらせん状または円形トラックの形態で形成する
。すなわちレーザー感応層は、レーザー・エネルギーを
吸収して光学的に検出可能なドツトを形成できる0例え
ばヒートモード記録方式では、レーザー感応層は熱エネ
ルギーを吸収し、その個所に蒸発または融解により小さ
な凹部(ピット)からなるドツトを形成できる。また、
別のヒートモード記録方式では、照射されたレーザー・
エネルギーの吸収により、その個所に光学的に検出可能
な変色部からなるドツトを形成できる。
この光ディスクに記録された情報は、レーザーをトラッ
クに沿って走査し、ドツトが形成された部分とドツトが
形成されていない部分の光学的変化を読み取ることによ
って検出される0例えば、基板の反射面上に記録層を設
けた構成のディスクを用いた場合には、レーザーがトラ
ックに沿って走査され、ディスクによって反射されたエ
ネルギーがフォトディテクターによってモニターされる
。その際、ピット記録の場合には、ピットが形成されて
いないところでは、フォトディテクターの出力は低下し
、一方ビットが形成されているところでは、レーザー光
線は下層の反射面によって十分に反射されフォトディテ
クターの出力は大きくなる。
クに沿って走査し、ドツトが形成された部分とドツトが
形成されていない部分の光学的変化を読み取ることによ
って検出される0例えば、基板の反射面上に記録層を設
けた構成のディスクを用いた場合には、レーザーがトラ
ックに沿って走査され、ディスクによって反射されたエ
ネルギーがフォトディテクターによってモニターされる
。その際、ピット記録の場合には、ピットが形成されて
いないところでは、フォトディテクターの出力は低下し
、一方ビットが形成されているところでは、レーザー光
線は下層の反射面によって十分に反射されフォトディテ
クターの出力は大きくなる。
このような光ディスクの記Q層としては、従来よりアル
ミニウム蒸着膜などの金属薄膜、ビスマス薄膜、酸化テ
ルル薄膜やカルコゲナイド系非晶質ガラス膜などの無機
物質を主に用いたものなど各種のものが検討されてきた
が1価格、製造の容易さから最近になって有機材料を用
いたものが注目されている。
ミニウム蒸着膜などの金属薄膜、ビスマス薄膜、酸化テ
ルル薄膜やカルコゲナイド系非晶質ガラス膜などの無機
物質を主に用いたものなど各種のものが検討されてきた
が1価格、製造の容易さから最近になって有機材料を用
いたものが注目されている。
一方、従来のヒートモード方式は、ドツトを形成するか
しないかの2値記録であるため、より高密度な記録を実
施する上で限界があった。
しないかの2値記録であるため、より高密度な記録を実
施する上で限界があった。
本発明はかかる従来技術の問題点を解決するためになさ
れたものであり、特開昭59−134248号および同
84249号に開示された熱安定性のよい特定構造のジ
エン化合物とジアセチレン誘導体化合物とを組合せて光
記録媒体の記録層を構成することによって、1枚の光デ
ィスクで変色記録とピット記録とが可能であり、すなわ
ち2種のドツトによる3イ1記録が可能であり、しかも
低出力の半導体レーザーを用いた場合でも変色記録とピ
ット記録とを同程度の高速で行なうことができることを
みいだし完成されたものである。
れたものであり、特開昭59−134248号および同
84249号に開示された熱安定性のよい特定構造のジ
エン化合物とジアセチレン誘導体化合物とを組合せて光
記録媒体の記録層を構成することによって、1枚の光デ
ィスクで変色記録とピット記録とが可能であり、すなわ
ち2種のドツトによる3イ1記録が可能であり、しかも
低出力の半導体レーザーを用いた場合でも変色記録とピ
ット記録とを同程度の高速で行なうことができることを
みいだし完成されたものである。
本発明の目的は、1枚のディスクでの2種のドツトによ
る3値記録を可能とする光記録方法を提供することにあ
る。
る3値記録を可能とする光記録方法を提供することにあ
る。
本発明の他の目的は小型軽量で低出力の半導体レーザー
により光書き込みが可能であり、かつ高速記録が可能な
光記録方法を提供することにある。
により光書き込みが可能であり、かつ高速記録が可能な
光記録方法を提供することにある。
本発明の更に他の目的は、より高密度、高感度での記録
が可能な光記録方法を提供することにある。
が可能な光記録方法を提供することにある。
本発明の更に他の目的は、安定性に優れ、高品質な光記
録画像を得ることのできる光記録方法を提供することに
ある。
録画像を得ることのできる光記録方法を提供することに
ある。
すなわち、本発明の光記録方法は、ポリジアセチレン誘
導体化合物と、下記一般式(1)または(2)で表わさ
れる化合物の一種以上とを含有してなる記録層を有する
光記録媒体に、記録情報に応じて露光量を制御した光を
照射し、露光+%Q+の露光部を変色させ、′AAl1
hの露光部には凹部からなるビットを形成する工程(た
だし、 Ql<02)を有することを特徴とする。
導体化合物と、下記一般式(1)または(2)で表わさ
れる化合物の一種以上とを含有してなる記録層を有する
光記録媒体に、記録情報に応じて露光量を制御した光を
照射し、露光+%Q+の露光部を変色させ、′AAl1
hの露光部には凹部からなるビットを形成する工程(た
だし、 Ql<02)を有することを特徴とする。
一般式(1)
一般式(2)
(式中、R1はアルキル基、置換基を有してもよいフェ
ニル基またはスチリル基を表わし、R2およびR6は、
隣接した二つの一〇〇=CH−基と共役二重結合系を形
成する置換基を有してもよいアリーレン基を表わし R
3およびR7は、置換基を有してもよいフェニル基また
はナフチル基を表わし、R″はアルコキシ基を表わし、
R5はアルキル基を表わし、Aはアニオン残基を表わす
、)本発明の方法に用いる光記録媒体に含有されるジア
セチレン誘導体化合物(以下、OA化合物と略称する)
とは、下記一般式 %式% (式中、Rおよびaqは、極性基;極性基で置換されて
もよい、アルキル基、シクロヘキシル基のような飽和脂
肪族化水素基;極性基で置換されてもよい、ビニル基、
プロペニル基のようなオレフィン系炭化水素基;または
極性基で置換されてもよい、フェニル基、ナフチル基、
アルキルフェニル基のような芳香族炭化水素基であり、
ここでいう極性基としては、例えばカルボキシル基また
はその金属若しくはアミン塩、スルホン酸基またはその
金属若しくはアミン塩、スルホアミド基、アミド基、ア
ミノ基、イミノ基、ヒドロキシ基、オキシアミノ基、ジ
アゾニウム基、グアニジン基、ヒドラジン基、リン酸基
、ケイM基、アルミン酸基、ニトリル基、チオアルコー
ル基、ニトロ基およびハロゲン原子が挙げられる。) で表わされる化合物及びこれらの重合体である。
ニル基またはスチリル基を表わし、R2およびR6は、
隣接した二つの一〇〇=CH−基と共役二重結合系を形
成する置換基を有してもよいアリーレン基を表わし R
3およびR7は、置換基を有してもよいフェニル基また
はナフチル基を表わし、R″はアルコキシ基を表わし、
R5はアルキル基を表わし、Aはアニオン残基を表わす
、)本発明の方法に用いる光記録媒体に含有されるジア
セチレン誘導体化合物(以下、OA化合物と略称する)
とは、下記一般式 %式% (式中、Rおよびaqは、極性基;極性基で置換されて
もよい、アルキル基、シクロヘキシル基のような飽和脂
肪族化水素基;極性基で置換されてもよい、ビニル基、
プロペニル基のようなオレフィン系炭化水素基;または
極性基で置換されてもよい、フェニル基、ナフチル基、
アルキルフェニル基のような芳香族炭化水素基であり、
ここでいう極性基としては、例えばカルボキシル基また
はその金属若しくはアミン塩、スルホン酸基またはその
金属若しくはアミン塩、スルホアミド基、アミド基、ア
ミノ基、イミノ基、ヒドロキシ基、オキシアミノ基、ジ
アゾニウム基、グアニジン基、ヒドラジン基、リン酸基
、ケイM基、アルミン酸基、ニトリル基、チオアルコー
ル基、ニトロ基およびハロゲン原子が挙げられる。) で表わされる化合物及びこれらの重合体である。
一方1本発明で用いる前記一般式(1)または(2)で
表わされる化合物(以下、ジエン化合物塩と略称する)
は、750nm以上の波長域に吸収ピークを有し、この
波長の赤外光により発熱する化合物である。
表わされる化合物(以下、ジエン化合物塩と略称する)
は、750nm以上の波長域に吸収ピークを有し、この
波長の赤外光により発熱する化合物である。
このジエン化合物塩につきより具体的に説明すると、一
般式(1)および(2)中、R1はメチル、エチル、プ
ロピル、イソプロピル、ブチル、ヘキシル等のアルキル
基、21換基を有してもよいフェニル基またはスチリル
基を表わす、ここで置換基としてはメトキシ、ニドキシ
、ブトキシ等のアルコキシ基、塩素、臭素、ヨウ素等の
ハロゲン原子、メチル、エチル、プロピル、イソプロピ
ル等のアルキル基、ニトロ基があげられる R2および
R6は。
般式(1)および(2)中、R1はメチル、エチル、プ
ロピル、イソプロピル、ブチル、ヘキシル等のアルキル
基、21換基を有してもよいフェニル基またはスチリル
基を表わす、ここで置換基としてはメトキシ、ニドキシ
、ブトキシ等のアルコキシ基、塩素、臭素、ヨウ素等の
ハロゲン原子、メチル、エチル、プロピル、イソプロピ
ル等のアルキル基、ニトロ基があげられる R2および
R6は。
p−フェニレン、1.4−ナフチレン等のlli 11
L タ二つの−CH=CH−基と共役二重結合系を形
成する置換基を有してもよいアリーレン基を表わす、こ
こで置換基としては用よ、W組ヨウ*等のハロゲン原子
、メチル、エチル等のアルキル基、メトキシ、エトキシ
等のアルコキシ基があげられる。
L タ二つの−CH=CH−基と共役二重結合系を形
成する置換基を有してもよいアリーレン基を表わす、こ
こで置換基としては用よ、W組ヨウ*等のハロゲン原子
、メチル、エチル等のアルキル基、メトキシ、エトキシ
等のアルコキシ基があげられる。
R3およびR7は置換基を有してもよいフェニル基また
はナフチル基を表わす、21を換基としてはジメチルア
ミノ、ジエチルアミノ、ジプロピルアミノ。
はナフチル基を表わす、21を換基としてはジメチルア
ミノ、ジエチルアミノ、ジプロピルアミノ。
ジブチルアミノ、ジフェニルアミノ、フェニルアミノ、
フェニルベンジルアミノ、フェニルエチルアミノ等の置
換アミ7基1モルホリノ、ピペリジニル、ピロリジノ等
の環状アミ7基、メトキシ。
フェニルベンジルアミノ、フェニルエチルアミノ等の置
換アミ7基1モルホリノ、ピペリジニル、ピロリジノ等
の環状アミ7基、メトキシ。
エトキシ、ブトキシ等のアルコキシ基があげられる。R
4はメトキシ、エトキシ、ブトキシ等のアルコキシ基を
表わす R5はメチル、エチル、プロピル、イソプロピ
ル、ブチル、ヘキシル等のアル。■を表わす、費はアニ
オン残基71例えばBF? 、 C1one cF3c
ab、 PF9、C’RB’R色Cl5Op、θ
e θ θ θCH:l5
o3. C2H5503,C,H,SO3,C4H9
5o3、C5H、□S03、θ (′
3 eC6H13SO3、CM3CH
ClSO3、CICH,()12SO3。
4はメトキシ、エトキシ、ブトキシ等のアルコキシ基を
表わす R5はメチル、エチル、プロピル、イソプロピ
ル、ブチル、ヘキシル等のアル。■を表わす、費はアニ
オン残基71例えばBF? 、 C1one cF3c
ab、 PF9、C’RB’R色Cl5Op、θ
e θ θ θCH:l5
o3. C2H5503,C,H,SO3,C4H9
5o3、C5H、□S03、θ (′
3 eC6H13SO3、CM3CH
ClSO3、CICH,()12SO3。
られる。
このジエン化合物の具体例を以下に例示する。
本発明に用いる光記録媒体は前記OA化合物と前記ジエ
ン化合物塩とを含有してなり、一層混合系、二層分離系
または多層積層系のいずれの構成でも良い。
ン化合物塩とを含有してなり、一層混合系、二層分離系
または多層積層系のいずれの構成でも良い。
ここで、一層混合系とは、OA化合物とジエン化合物塩
との混合層からなるものを、二層分離系とは、DA化合
物を含む層とジエン化合物塩を含む層とが分層積層され
ているものを、更に多層積層系とは、例えばDA化合物
を含む層の1以上と、ジエン化合物塩を含む層の1以上
が所定の層数及び順序で積層された上記の二層分離系を
含まない構成のものをそれぞれいう。
との混合層からなるものを、二層分離系とは、DA化合
物を含む層とジエン化合物塩を含む層とが分層積層され
ているものを、更に多層積層系とは、例えばDA化合物
を含む層の1以上と、ジエン化合物塩を含む層の1以上
が所定の層数及び順序で積層された上記の二層分離系を
含まない構成のものをそれぞれいう。
本発明に用いる光記録媒体の代表的な構成を第1図(A
)及び第1図(B)に示す。第1図(A)は、一層混合
系の記録層2が基板!上に設けられているものであり、
第1図([1)は、二層分離系の、すなわちDA化合物
を含む第1の層2aとジエン化合物塩を含む層2bとか
らなる記録層2が基板1上に設けられているものである
。
)及び第1図(B)に示す。第1図(A)は、一層混合
系の記録層2が基板!上に設けられているものであり、
第1図([1)は、二層分離系の、すなわちDA化合物
を含む第1の層2aとジエン化合物塩を含む層2bとか
らなる記録層2が基板1上に設けられているものである
。
記録層2を形成するには、代表的には、一層混合系の場
合には、OA化合物の結晶微粉末およびジエン化合物塩
を適当な揮発性溶媒に混合して、塗布液を作成し、この
塗布液を基板1上に塗布して、また二層分離系若しくは
多層積層系の場合には、OA化合物の結晶微粉末を含む
塗布液と、ジエン化合物塩を含む塗布液とを別々に調製
し、これらを基板1に所定の順序で塗布すれば良い。
合には、OA化合物の結晶微粉末およびジエン化合物塩
を適当な揮発性溶媒に混合して、塗布液を作成し、この
塗布液を基板1上に塗布して、また二層分離系若しくは
多層積層系の場合には、OA化合物の結晶微粉末を含む
塗布液と、ジエン化合物塩を含む塗布液とを別々に調製
し、これらを基板1に所定の順序で塗布すれば良い。
本発明に用いる光記録媒体の基板1としては、ガラス、
アクリル樹脂等のプラスチック板、ポリエステル等のプ
ラスチックフィルム、紙、金属等の各種の支持材料が使
用できるが、基板側から輻射線を照射して記録を実施す
る場合には、特定波長の記録用輻射線を透過するものを
用いる。
アクリル樹脂等のプラスチック板、ポリエステル等のプ
ラスチックフィルム、紙、金属等の各種の支持材料が使
用できるが、基板側から輻射線を照射して記録を実施す
る場合には、特定波長の記録用輻射線を透過するものを
用いる。
一層混合系の記録層の形成に用いる塗布液の溶媒は、使
用するバインダーの種類や、DA化合物およびジエン化
合物塩の種類によって適宜選択されるが、一般に、メタ
ノール、エタノール、イソプロパツール等のアルコール
類;アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン
等のケトン類;に、N−ジメチルホルムアミド、N、N
−ジメチルアセトアミド等のケトン類ニジメチルスルホ
キシド等のスルホキシド類;テトラヒドロフラン、ジオ
キサン、エチレングリコールモノメチルエーテル等のエ
ーテル類;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエ
ステル類;クロロホルム、塩化メチレン、ジクロルエチ
レン、四塩化炭素、トリクロルエチレン等の脂肪族ハロ
ゲン化炭化水素類:ベンゼン、トルエン、キシレン、モ
ノクロルベンゼン、ジクロルベンゼン等の芳香族炭化水
素類等が挙げられる。
用するバインダーの種類や、DA化合物およびジエン化
合物塩の種類によって適宜選択されるが、一般に、メタ
ノール、エタノール、イソプロパツール等のアルコール
類;アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン
等のケトン類;に、N−ジメチルホルムアミド、N、N
−ジメチルアセトアミド等のケトン類ニジメチルスルホ
キシド等のスルホキシド類;テトラヒドロフラン、ジオ
キサン、エチレングリコールモノメチルエーテル等のエ
ーテル類;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエ
ステル類;クロロホルム、塩化メチレン、ジクロルエチ
レン、四塩化炭素、トリクロルエチレン等の脂肪族ハロ
ゲン化炭化水素類:ベンゼン、トルエン、キシレン、モ
ノクロルベンゼン、ジクロルベンゼン等の芳香族炭化水
素類等が挙げられる。
また、二層分lIl系若しくは多層積層系の形成に用い
る塗布溶液の溶媒として、ジエン化合物塩の好適な溶媒
としては、メタノール、エタノール、イソプロパツール
等のアルコール類:アセトン、メチルエチルケトン、シ
クロヘキサノン等のケトン類、 N、N−ジメチルホル
ムアミド、N、N−ジメチルアセトアミドなどのアミド
類;ジメチルスルホキシドなどのスルホキシド類;テト
ラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコールモノ
メチルエーテルなどのエーテル類;酢酸メチル、酢酸エ
チル、酢酸ブチルなどのエステル類:クロロホルム、塩
化メチレン、ジクロルエチレン、四塩化炭素、トリクロ
ルエチレン等の脂肪族ハロゲン化炭化水素類;あるいは
ベンゼン、トルエン、キシレン、リグロイン、モノクロ
ルベンゼンなどの芳香族類等が挙げられる。
る塗布溶液の溶媒として、ジエン化合物塩の好適な溶媒
としては、メタノール、エタノール、イソプロパツール
等のアルコール類:アセトン、メチルエチルケトン、シ
クロヘキサノン等のケトン類、 N、N−ジメチルホル
ムアミド、N、N−ジメチルアセトアミドなどのアミド
類;ジメチルスルホキシドなどのスルホキシド類;テト
ラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコールモノ
メチルエーテルなどのエーテル類;酢酸メチル、酢酸エ
チル、酢酸ブチルなどのエステル類:クロロホルム、塩
化メチレン、ジクロルエチレン、四塩化炭素、トリクロ
ルエチレン等の脂肪族ハロゲン化炭化水素類;あるいは
ベンゼン、トルエン、キシレン、リグロイン、モノクロ
ルベンゼンなどの芳香族類等が挙げられる。
また0^化合物の好適な分散媒としては1.n−ヘキサ
ン、n−ヘプタン、n−オクタン、シクロヘキサン等の
脂肪族炭化水素類等が挙げられる。しかし、OA化合物
は、結晶性が強い化合物なので、一旦溶媒に溶解し、こ
の溶液を基板上に塗布しても乾燥過程で再結晶化が進行
し。ダレインが得られる。したがって、分散液だけでな
く、DA化合物の溶液を使用しても良い。この場合の溶
媒としては、ジエン化合物塩の溶媒として先に挙げたも
のと同様なものが使用できる。
ン、n−ヘプタン、n−オクタン、シクロヘキサン等の
脂肪族炭化水素類等が挙げられる。しかし、OA化合物
は、結晶性が強い化合物なので、一旦溶媒に溶解し、こ
の溶液を基板上に塗布しても乾燥過程で再結晶化が進行
し。ダレインが得られる。したがって、分散液だけでな
く、DA化合物の溶液を使用しても良い。この場合の溶
媒としては、ジエン化合物塩の溶媒として先に挙げたも
のと同様なものが使用できる。
なお、各塗布液には、基板1との、あるいは他の層との
密着性を向上させるために、適宜天然若しくは合成高分
子からなるバインダーを添加してもよい。また、記録層
2の安定性、品質向上を計るだめに各種の添加剤を加え
てもよい。
密着性を向上させるために、適宜天然若しくは合成高分
子からなるバインダーを添加してもよい。また、記録層
2の安定性、品質向上を計るだめに各種の添加剤を加え
てもよい。
このような塗布液の基板1への塗工は、スピナー回転塗
布法、浸漬コーティング法、スプレーコーティング法、
ピードコーティング法、ワイヤーバーコーティング法、
ブレードコーティング法、ローラーコーティング法、カ
ーテンコーティング法等の手法が用いられる。
布法、浸漬コーティング法、スプレーコーティング法、
ピードコーティング法、ワイヤーバーコーティング法、
ブレードコーティング法、ローラーコーティング法、カ
ーテンコーティング法等の手法が用いられる。
記録層2が一層混合系の場合は、その膜厚は、400人
〜2−程度が通しており、特にtooo〜5000人の
範囲が好ましい。また二層分離系の場合の各層の膜厚は
、 200人〜1鱗程度が通しており、特に200〜5
000人の範囲が好ましい。更に、多層積層系の場合に
は、個々のOA化合物を含む層の膜厚の総和及び個々の
ジエン化合物塩を含む層の膜厚の総和がともに、 10
0人〜Igm程度が適しており、特に200〜5000
Aの範囲が好ましい。
〜2−程度が通しており、特にtooo〜5000人の
範囲が好ましい。また二層分離系の場合の各層の膜厚は
、 200人〜1鱗程度が通しており、特に200〜5
000人の範囲が好ましい。更に、多層積層系の場合に
は、個々のOA化合物を含む層の膜厚の総和及び個々の
ジエン化合物塩を含む層の膜厚の総和がともに、 10
0人〜Igm程度が適しており、特に200〜5000
Aの範囲が好ましい。
記録層2内でのOA化合物とジエン化合物塩との配合割
合は、l/15〜1571程度が好ましく、最適には1
710〜to/lである。
合は、l/15〜1571程度が好ましく、最適には1
710〜to/lである。
なお、必要に応じてこのように構成される記録層2の上
に各種の保護層を設けてもよい。また、二層分離系や多
層積層系の場合の各層の積層順序には関係なく本発明は
実施可能である。
に各種の保護層を設けてもよい。また、二層分離系や多
層積層系の場合の各層の積層順序には関係なく本発明は
実施可能である。
このようにして構成される光記録媒体を用いて本発明の
光記録方法を実施することができる。
光記録方法を実施することができる。
この光記録媒体においては、D^化合物(重合体を除く
)に光を加えることにより、記録層の吸収波長が変化し
て見掛けの色が変化する。すなわち、D^化合物(重合
体を除く)は、初期にはほぼ無色透明であるが、紫外線
を照射すると重合し、ポリジアセチレン誘導体化合物へ
と変化する。この重合は紫外線の照射によってのみ起り
、熱等の他の物理的エネルギーの印加によっては生じな
い。この重合の結果、620〜660nmに最大吸収波
長を有するようになり、青色ないし暗色へと変化する。
)に光を加えることにより、記録層の吸収波長が変化し
て見掛けの色が変化する。すなわち、D^化合物(重合
体を除く)は、初期にはほぼ無色透明であるが、紫外線
を照射すると重合し、ポリジアセチレン誘導体化合物へ
と変化する。この重合は紫外線の照射によってのみ起り
、熱等の他の物理的エネルギーの印加によっては生じな
い。この重合の結果、620〜660nmに最大吸収波
長を有するようになり、青色ないし暗色へと変化する。
この重合に基づく色相の変化は不可逆変化であり、一度
青色ないし暗色へ変化した記録層は無色透明膜へとは戻
らない。
青色ないし暗色へ変化した記録層は無色透明膜へとは戻
らない。
更に、この青色ないし暗色ないし暗色へ変化したポリジ
アセチレン誘導体化合物とジエン化合物塩とを含有した
記録層は、照射された光の露光量に応じた温度で発熱す
る。その際、記録層2が溶融せずに、かつポリジアセチ
レン誘導体化合物が約50℃以上に加熱された場合には
、記録層の露光部は約540nmに最大吸収波長を有す
るようになり、赤色膜へと変化する。なお、この赤色膜
への変化も不可逆変化である。
アセチレン誘導体化合物とジエン化合物塩とを含有した
記録層は、照射された光の露光量に応じた温度で発熱す
る。その際、記録層2が溶融せずに、かつポリジアセチ
レン誘導体化合物が約50℃以上に加熱された場合には
、記録層の露光部は約540nmに最大吸収波長を有す
るようになり、赤色膜へと変化する。なお、この赤色膜
への変化も不可逆変化である。
更に、露光量を上昇させ、露光量がある限度を越えると
記録層の露光部は溶融する。
記録層の露光部は溶融する。
本発明の光記録方法は、このようなり^化合物とジエン
化合物塩との組合せによって得られる特性を利用して記
録を実施するものである。以下この記録方法につき詳述
する。
化合物塩との組合せによって得られる特性を利用して記
録を実施するものである。以下この記録方法につき詳述
する。
本発明の方法に用いる半導体レーザーとしては、出力波
長800〜850止のGaAs接合レーザーを使用する
のが特に好適である。
長800〜850止のGaAs接合レーザーを使用する
のが特に好適である。
本発明の光記録方法を実施するに際して、光記録媒体と
してDA化合物(重合体を除く)とジエン化合物塩とを
用いて構成した光記録層を有するものを用いる場合には
、先ず、記録層全体に紫外線を照射する。この紫外線の
照射により、記録層中のOA化合物(重合体を除く)が
重合し、ポリジアセチレン誘導体化合物へ変化し、記録
層は青色ないし暗色のIIQへと変色する。(もちろん
、I)A化合物としてポリジアセチレン誘導体化合物を
用いた記録層を有するものについては、この操作は必要
とされない。) 一方、記録情報は、制御回路を経て半導体レーザーによ
り光信号に変換される。この光信号は光学系を経て、例
えば光記録媒体載置手段上に載置され、同期回転してい
る一層混合系の記録層を有する円盤状の光記録媒体の所
定の位置に第2図(A)に示すように結像される。結像
位置は光記録媒体の記録層2である。
してDA化合物(重合体を除く)とジエン化合物塩とを
用いて構成した光記録層を有するものを用いる場合には
、先ず、記録層全体に紫外線を照射する。この紫外線の
照射により、記録層中のOA化合物(重合体を除く)が
重合し、ポリジアセチレン誘導体化合物へ変化し、記録
層は青色ないし暗色のIIQへと変色する。(もちろん
、I)A化合物としてポリジアセチレン誘導体化合物を
用いた記録層を有するものについては、この操作は必要
とされない。) 一方、記録情報は、制御回路を経て半導体レーザーによ
り光信号に変換される。この光信号は光学系を経て、例
えば光記録媒体載置手段上に載置され、同期回転してい
る一層混合系の記録層を有する円盤状の光記録媒体の所
定の位置に第2図(A)に示すように結像される。結像
位置は光記録媒体の記録層2である。
結像点(部位) 3a、3bにおける露光量は、変色記
録のための、ポリジアセチレン誘導体化合物が約50℃
以上に加熱され、しかも記録層2を溶融しない温度とす
るのに十分な量(qt )と、ビット記録のための記録
層2を溶融するのに十分な量(q2)とに制御される(
ただし、QI < Q2)。
録のための、ポリジアセチレン誘導体化合物が約50℃
以上に加熱され、しかも記録層2を溶融しない温度とす
るのに十分な量(qt )と、ビット記録のための記録
層2を溶融するのに十分な量(q2)とに制御される(
ただし、QI < Q2)。
このように結像点の露光量を変化させるには、半導体レ
ーザーの強度を変化させる、またはレーザーの照射時間
を変化させる、あるいはこれらを併用するなどの方法を
用いればよい。なお、2種の露光量の照射を実施するに
際しては、1台の半導体レーザーを用いて上記のような
制御を行なりても良いし、異なる露光量の得られる複数
の半導体レーザーを用いても良い。
ーザーの強度を変化させる、またはレーザーの照射時間
を変化させる、あるいはこれらを併用するなどの方法を
用いればよい。なお、2種の露光量の照射を実施するに
際しては、1台の半導体レーザーを用いて上記のような
制御を行なりても良いし、異なる露光量の得られる複数
の半導体レーザーを用いても良い。
結像点(部位) 3a、3bに存在するジエン化合物塩
はこのレーザービーム4を吸収し発熱する。
はこのレーザービーム4を吸収し発熱する。
ここで、前述したQIの露光量を受けた結像点3aは、
ジエン化合物塩の発熱によりポリジアセチレン誘導体化
合物が加熱されるので赤色に変化して、第2図CB)に
示すような未露光部の青色ないし暗色と識別可能な変色
部からなるドツト5aとなる。なお、D晶化合物のみか
らなる記録層を有する光記録媒体では、ポリジアセチレ
ン誘導体化合物がこの800〜850nmの波長のレー
ザーに対する感応性を有していないので、この波長の半
導体レーザーを用いた場合には、変色による光記録は不
可能であった。
ジエン化合物塩の発熱によりポリジアセチレン誘導体化
合物が加熱されるので赤色に変化して、第2図CB)に
示すような未露光部の青色ないし暗色と識別可能な変色
部からなるドツト5aとなる。なお、D晶化合物のみか
らなる記録層を有する光記録媒体では、ポリジアセチレ
ン誘導体化合物がこの800〜850nmの波長のレー
ザーに対する感応性を有していないので、この波長の半
導体レーザーを用いた場合には、変色による光記録は不
可能であった。
一方、前述したQ2の露光量を受けた結像点3bは、ジ
エン化合物塩の発熱によりその部分が溶融し、第2図(
B)に示すように凹部5bからなるビットが形成される
。
エン化合物塩の発熱によりその部分が溶融し、第2図(
B)に示すように凹部5bからなるビットが形成される
。
その際、本発明に用いる記録媒体の記録層2は、前述の
ようにジエン化合物塩にポリジアセチレン誘導体化合物
が組合わされて構成されているので、すなわちポリジア
セチレン誘導体化合物が存在することにより、記録層の
溶融に要するエネルギーを著しく減少させることができ
、ジエン化合物塩によるビット形成が大幅に促進される
。
ようにジエン化合物塩にポリジアセチレン誘導体化合物
が組合わされて構成されているので、すなわちポリジア
セチレン誘導体化合物が存在することにより、記録層の
溶融に要するエネルギーを著しく減少させることができ
、ジエン化合物塩によるビット形成が大幅に促進される
。
このようにして入力情報に応じて記録層2に変色部5a
とビット5bの2種の形態の異なるドツトによる光記録
、すなわち3値記録が実施される。しかも、本発明に用
いる光記録媒体は、変色記録及びビット記録双方に対し
、高感度を有しているので、このような3値記録を高速
で行なうことができる。
とビット5bの2種の形態の異なるドツトによる光記録
、すなわち3値記録が実施される。しかも、本発明に用
いる光記録媒体は、変色記録及びビット記録双方に対し
、高感度を有しているので、このような3値記録を高速
で行なうことができる。
以上一層混合系の記録層を有する光記録媒体を用いた場
合について説明したが、第1図(B)に示したような二
層分離系を用いた場合には、結像点3a、3bは、第3
図(A)に示すようにジエン化合物塩を含む層2bとさ
れる。このようにレーザー4が照射されると、記録情報
に応じた結像点3a、3bの露光量Q1.Q2に応じて
ジエン化合物塩が発熱し、第3図(B)に示すように変
色部からなるドツト5aまたは凹部からなるピット5b
が形成される。
合について説明したが、第1図(B)に示したような二
層分離系を用いた場合には、結像点3a、3bは、第3
図(A)に示すようにジエン化合物塩を含む層2bとさ
れる。このようにレーザー4が照射されると、記録情報
に応じた結像点3a、3bの露光量Q1.Q2に応じて
ジエン化合物塩が発熱し、第3図(B)に示すように変
色部からなるドツト5aまたは凹部からなるピット5b
が形成される。
以上のようにして記録された2種のドツトは、所望に応
じて、両者を一度に、あるいは一方のみを読み取ること
ができる。
じて、両者を一度に、あるいは一方のみを読み取ること
ができる。
なお、光記録媒体としては、上述の例では円盤状のディ
スク(光ディスク)が用いられたが、もちろん、DA化
合物およびジエン化合物塩を含有する記録層を支持する
基板の種類により、光テープ、光カード等も使用できる
。
スク(光ディスク)が用いられたが、もちろん、DA化
合物およびジエン化合物塩を含有する記録層を支持する
基板の種類により、光テープ、光カード等も使用できる
。
本発明の光記録方法の効果を以下に列挙する。
(1)記録層にジエン化合物塩とポリジアセチレン誘導
体化合物とが組合わされて用いられているので、小型軽
量の半導体レーザーを用いて1枚の記録媒体で変色記録
と、ピット記録とを所望に応じて行なうことができる。
体化合物とが組合わされて用いられているので、小型軽
量の半導体レーザーを用いて1枚の記録媒体で変色記録
と、ピット記録とを所望に応じて行なうことができる。
すなわち、1枚の記録媒体で3値記録による高密度記録
が可能である。しかも、記録層は、変色記録とピット記
録のどちらにおいても高感度であり、高速記録が可能で
ある。
が可能である。しかも、記録層は、変色記録とピット記
録のどちらにおいても高感度であり、高速記録が可能で
ある。
(2)記録層が均質かつ表面性良く形成されているので
、安定性に優れ高品質な光記録が実施できる。
、安定性に優れ高品質な光記録が実施できる。
(3)高度に均質な大面積の記録層を有する安価な記録
媒体を用いた光記録が可能となる。
媒体を用いた光記録が可能となる。
(実施例〕
以下、本発明を実施例に基づきより詳細に説明する。
実施例1
一般式Cx2Hzs−c=c−c=c−(4)1.6−
coonテ表ワサレるジアセチレン誘導体化合物結晶微
粉末1重量部と前記の化合物Aimで表わされるジエン
化合物塩15重量部とを塩化メチレン30重量部中に添
加し、十分撹拌したものを塗布液として準備した。
coonテ表ワサレるジアセチレン誘導体化合物結晶微
粉末1重量部と前記の化合物Aimで表わされるジエン
化合物塩15重量部とを塩化メチレン30重量部中に添
加し、十分撹拌したものを塗布液として準備した。
次にガラス製のディスク基板(厚さ1.5ms+、直径
200mm)をスピナー塗布機に装着し、前記塗布液を
ディスク基板の中央部に少量滴下した後、所定の回転数
で所定の時間スピナーを回転させ塗布し、常温で乾燥し
て、基板上の乾燥後の塗膜の厚みが500人、1000
人および2000人である光記録媒体をそれぞれ作成し
た。
200mm)をスピナー塗布機に装着し、前記塗布液を
ディスク基板の中央部に少量滴下した後、所定の回転数
で所定の時間スピナーを回転させ塗布し、常温で乾燥し
て、基板上の乾燥後の塗膜の厚みが500人、1000
人および2000人である光記録媒体をそれぞれ作成し
た。
このようにして得た光記録媒体のそれぞれに、まず25
4nlllの紫外線を均一かつ十分に照射し、記録層を
青色膜にした。
4nlllの紫外線を均一かつ十分に照射し、記録層を
青色膜にした。
次に、この青色膜化された記録層を有する各光記録媒体
に、そのレーザー出力を変化できる830nmの波長の
半導体レーザー(最大出力; IOmW、レーザービー
ム径:l鱗、照射時間; 200 ns/ 1ドツト)
を人力情報にしたがい照射し、本発明の光記録を実施し
た。なお、ピット記録指令の時は、レーザー出力を8m
Wとし、また変色記録指令の時は、レーザー出力を4m
Wとした。
に、そのレーザー出力を変化できる830nmの波長の
半導体レーザー(最大出力; IOmW、レーザービー
ム径:l鱗、照射時間; 200 ns/ 1ドツト)
を人力情報にしたがい照射し、本発明の光記録を実施し
た。なお、ピット記録指令の時は、レーザー出力を8m
Wとし、また変色記録指令の時は、レーザー出力を4m
Wとした。
この記録結果の評価を、第1表に示した。評価は1、ピ
ット及び変色の両方の記録における感度、解像力及び記
録部と非記録部とのコントラスト比の良否の総合評価に
より判定し、特に良好なものを◎、良好なものをO1記
録ができないまたは不良なものを×とした。
ット及び変色の両方の記録における感度、解像力及び記
録部と非記録部とのコントラスト比の良否の総合評価に
より判定し、特に良好なものを◎、良好なものをO1記
録ができないまたは不良なものを×とした。
実施例2
ジアセチレン誘導体化合物の量を1重量部、ジエン化合
物塩の量を10重量部、塩化メチレンの量を20重量部
とした混合溶液を塗布液として使用し、実施例1と同様
の方法により光記録媒体を作成した。
物塩の量を10重量部、塩化メチレンの量を20重量部
とした混合溶液を塗布液として使用し、実施例1と同様
の方法により光記録媒体を作成した。
このようにして得た光記録媒体のそれぞれに、まず25
4nmの紫外線を均一かつ十分に照射し、記録層を青色
膜にした後、実施例1と同様にして光記録を実施し、こ
れを評価した。その記録結果の評価を第1表に示す。
4nmの紫外線を均一かつ十分に照射し、記録層を青色
膜にした後、実施例1と同様にして光記録を実施し、こ
れを評価した。その記録結果の評価を第1表に示す。
実施例3
ジアセチレン誘導体化合物の量を1重量部、ジエン化合
物塩の量を5重量部、塩化メチレンの量を12重量部と
した混合溶液を塗布液として使用し、実施例1と同様の
方法により光記録媒体を作成した。
物塩の量を5重量部、塩化メチレンの量を12重量部と
した混合溶液を塗布液として使用し、実施例1と同様の
方法により光記録媒体を作成した。
このようにして得た光記録媒体のそれぞれに、まず25
4止の紫外線を均一かつ十分に照射し、記録層を青色膜
にした後、実施例1と同様にして光記録を実施し、これ
を評価した。その記録結果の評価を第1表に示す。
4止の紫外線を均一かつ十分に照射し、記録層を青色膜
にした後、実施例1と同様にして光記録を実施し、これ
を評価した。その記録結果の評価を第1表に示す。
実施例4
ジアセチレン誘導体化合物の量を1重量部、ジエン化合
物塩の量を1重量部、塩化メチレンの量を4重量部とし
た混合溶液を塗布液として使用し、実施例1と同様の方
法により光記録媒体を作成した。
物塩の量を1重量部、塩化メチレンの量を4重量部とし
た混合溶液を塗布液として使用し、実施例1と同様の方
法により光記録媒体を作成した。
このようにして得た光記録媒体のそれぞれに、まず25
4nmの紫外線を均一かつ十分に照射し、記録層を青色
膜にした後、実施例1と同様にして光記録を実施し、こ
れを評価した。その記録結果の評価を第1表に示す。
4nmの紫外線を均一かつ十分に照射し、記録層を青色
膜にした後、実施例1と同様にして光記録を実施し、こ
れを評価した。その記録結果の評価を第1表に示す。
実施例5
ジアセチレン誘導体化合物の量を5重量部、ジエン化合
物塩の量を1重量部、塩化メチレンの量を12重量部と
した混合溶液を塗布液として使用し、実施例1と同様の
方法により光記録媒体を作成した。
物塩の量を1重量部、塩化メチレンの量を12重量部と
した混合溶液を塗布液として使用し、実施例1と同様の
方法により光記録媒体を作成した。
このようにして得た光記録媒体のそれぞれに、まず25
4nmの紫外線を均一かつ十分に照射し、記録層を青色
膜にした後、実施例1と同様にして光記録を実施し、こ
れを評価した。その記録結果の評価を第1表に示す。
4nmの紫外線を均一かつ十分に照射し、記録層を青色
膜にした後、実施例1と同様にして光記録を実施し、こ
れを評価した。その記録結果の評価を第1表に示す。
実施例6
ジアセチレン誘導体化合物の量を10重量部、ジエン化
合物塩の量を1重量部、塩化メチレンの量を20重量部
とした混合溶液を塗布液として使用し、実施例1と同様
の方法により光記録媒体を作成した。
合物塩の量を1重量部、塩化メチレンの量を20重量部
とした混合溶液を塗布液として使用し、実施例1と同様
の方法により光記録媒体を作成した。
このようにして得た光記録媒体のそれぞれに、まず25
4nnの紫外線を均一かつ十分に照射し、記録層を青色
膜にした後、実施例1と同様にして光記録を実施し、こ
れを評価した。その記録結果の評価を第1表に示す。
4nnの紫外線を均一かつ十分に照射し、記録層を青色
膜にした後、実施例1と同様にして光記録を実施し、こ
れを評価した。その記録結果の評価を第1表に示す。
実施例7
ジアセチレン誘導体化合物の量を15重量部、ジエン化
合物塩の量を1重量部、塩化メチレンの量を30重量部
とした混合溶液を塗布液として使用し、実施例1と同様
の方法により光記録媒体を作成した。
合物塩の量を1重量部、塩化メチレンの量を30重量部
とした混合溶液を塗布液として使用し、実施例1と同様
の方法により光記録媒体を作成した。
このようにして得た光記録媒体のそれぞれに、まず25
4nmの紫外線を均一かつ十分に照射し、記録層を青色
膜にした後、実施例1と同様にして光記録を実施し、こ
れを評価した。その記録結果の評価を第1表に示す。
4nmの紫外線を均一かつ十分に照射し、記録層を青色
膜にした後、実施例1と同様にして光記録を実施し、こ
れを評価した。その記録結果の評価を第1表に示す。
実施例8
一般式C1□)125−GE(ニーC=C−CBHlb
−(:OOHで表わされるジアセチレン誘導体化合物に
代え、一般式〇〇)1.7−CEC−CEC−C,H,
−(:00+1で表わされた化合物を用いたことを除い
ては実施例4と同様の方法により光記録媒体を作成した
。
−(:OOHで表わされるジアセチレン誘導体化合物に
代え、一般式〇〇)1.7−CEC−CEC−C,H,
−(:00+1で表わされた化合物を用いたことを除い
ては実施例4と同様の方法により光記録媒体を作成した
。
このようにして得た光記録媒体のそれぞれに、まず25
4nmの紫外線を均一かつ十分に照射し、記録層を青色
膜にした後、実施例1と同様にして光記録を実施し、こ
れを評価した。その記録結果の評価を第2表に示す。
4nmの紫外線を均一かつ十分に照射し、記録層を青色
膜にした後、実施例1と同様にして光記録を実施し、こ
れを評価した。その記録結果の評価を第2表に示す。
実施例9〜13
化合物/Llで表わされるジエン化合物塩に代え、化合
物誠3、8.12.15及び20で表わされるジエン化
合物塩をそれぞれ用いたことを除いては実施例8と同様
の方法により光記録媒体を作成した。この光記録媒体の
それぞれに、まず254nmの紫外線を均一かつ十分に
照射し、記録層を青色膜にした後、実施例1と同様にし
て光記録を実施し、これを評価した。その記録結果の評
価を第2表に示す。
物誠3、8.12.15及び20で表わされるジエン化
合物塩をそれぞれ用いたことを除いては実施例8と同様
の方法により光記録媒体を作成した。この光記録媒体の
それぞれに、まず254nmの紫外線を均一かつ十分に
照射し、記録層を青色膜にした後、実施例1と同様にし
て光記録を実施し、これを評価した。その記録結果の評
価を第2表に示す。
実施例14
化合物Alで表わされるジエン化合物塩1重量部をジク
ロルエチレンlO重量部に溶解し、塗布液Aとした。
ロルエチレンlO重量部に溶解し、塗布液Aとした。
これとは別にC,2H25−CiC−CiC−C8H1
6−11:00)1で表わされるジアセチレン誘導体化
合物結晶微粉末1重量部をベンゼン10Ii量部に添加
し十分攪拌して塗布液Bとした。
6−11:00)1で表わされるジアセチレン誘導体化
合物結晶微粉末1重量部をベンゼン10Ii量部に添加
し十分攪拌して塗布液Bとした。
次にガラス製のディスク基板(厚さ1.5mm、直径2
00mm)をスピナー塗布機に装着し、最初に前記塗布
液Aをディスク基板の中央部に少量滴下した後、所定の
回転数で所定の時間スピナーを回転させて塗布し、常温
で乾燥し、基板上にジエン化合物塩を含む層を形成した
。次に、ジエン化合物塩を含む層を形成した基板を再び
スピナー塗布機に装着し、先に形成したディスク基板上
のジエン化合物塩を含む層の表面の中央部に前記塗布液
Bを少量滴下した後、所定の回転数で所定の時間スピナ
ーを回転させて塗布し、常温で乾燥し、ジエン化合物塩
を含む層上にD^化合物を含む層を積層し記録層とした
。
00mm)をスピナー塗布機に装着し、最初に前記塗布
液Aをディスク基板の中央部に少量滴下した後、所定の
回転数で所定の時間スピナーを回転させて塗布し、常温
で乾燥し、基板上にジエン化合物塩を含む層を形成した
。次に、ジエン化合物塩を含む層を形成した基板を再び
スピナー塗布機に装着し、先に形成したディスク基板上
のジエン化合物塩を含む層の表面の中央部に前記塗布液
Bを少量滴下した後、所定の回転数で所定の時間スピナ
ーを回転させて塗布し、常温で乾燥し、ジエン化合物塩
を含む層上にD^化合物を含む層を積層し記録層とした
。
なお、ジエン化合物塩を含む層と、OA化合物を含む層
との膜厚を、第3表に示すように種々変化させ、試料遂
14−1〜14−25の25種の光記録媒体を得た。
との膜厚を、第3表に示すように種々変化させ、試料遂
14−1〜14−25の25種の光記録媒体を得た。
このようにして得た光記録媒体のそれぞれに、まず25
4nmの紫外線を均一かつ十分に照射し、記録層を青色
膜にした。
4nmの紫外線を均一かつ十分に照射し、記録層を青色
膜にした。
次に、この青色膜化された記録層を有する各光記録媒体
に、実施例1と同様にして光記録を実施し、これを評価
した。その記録結果の評価を、第4表に示す。
に、実施例1と同様にして光記録を実施し、これを評価
した。その記録結果の評価を、第4表に示す。
第 4 表
実施例15
塗布液Bに一般式C(2H2S−CミC−CミC−C3
H16−(:008で表わされるジアセチレン誘導体化
合物に代えて、一般式C3HlフーC=C−CミC−(
4H,−COOHで表されるジアセチレン誘導体化合物
を用いたことを除いては実施例14と同様の方法により
第5表に示すような試料AIIL 15−1−15−2
5の25種の光記録媒体を作成した。
H16−(:008で表わされるジアセチレン誘導体化
合物に代えて、一般式C3HlフーC=C−CミC−(
4H,−COOHで表されるジアセチレン誘導体化合物
を用いたことを除いては実施例14と同様の方法により
第5表に示すような試料AIIL 15−1−15−2
5の25種の光記録媒体を作成した。
このようにして得た光記録媒体のそれぞれに、まず25
4na+の紫外線を均一かつ十分に照射し、記録層を青
色膜にした。
4na+の紫外線を均一かつ十分に照射し、記録層を青
色膜にした。
次に、この青色膜化された記録層を有する各光記録媒体
に、実施例1と同様にして光記録を実施し、これを評価
した。その記録結果の評価を、第6表に示す。
に、実施例1と同様にして光記録を実施し、これを評価
した。その記録結果の評価を、第6表に示す。
第 6 表
実施例16
塗布液Aに化合物正1で表わされるジエン化合物塩に代
え、化合物J/L5で表わされるジエン化合物塩を用い
たことを除いては実施例15と同様の方法により第7表
に示すような試料ML16−1−1[1−25の25種
の光記録媒体を作成した。
え、化合物J/L5で表わされるジエン化合物塩を用い
たことを除いては実施例15と同様の方法により第7表
に示すような試料ML16−1−1[1−25の25種
の光記録媒体を作成した。
このようにして得た光記録媒体のそれぞれに、まず25
4nmの紫外線を均一かつ十分に照射し、記録層を青色
膜にした。
4nmの紫外線を均一かつ十分に照射し、記録層を青色
膜にした。
次に、この青色膜化された記録層を有する各光記録媒体
に、実施例1と同様にして光記録を実施し、これを評価
した。その記録結果の評価を、第8表に示す。
に、実施例1と同様にして光記録を実施し、これを評価
した。その記録結果の評価を、第8表に示す。
第 8 表
実施例17
塗布液Aに化合物、/L!で表わされるジエン化合物塩
に代え、化合物AIILIOで表わされるを用いたこと
を除いては実施例15と同様の方法により第9表に示す
ような試料A11L17−IN17−25の25種の光
記録媒体を作成した。
に代え、化合物AIILIOで表わされるを用いたこと
を除いては実施例15と同様の方法により第9表に示す
ような試料A11L17−IN17−25の25種の光
記録媒体を作成した。
このようにして得た光記録媒体のそれぞれに、まず25
4nmの紫外線を均一かつ十分に照射し、記録層を青色
膜にした。
4nmの紫外線を均一かつ十分に照射し、記録層を青色
膜にした。
次に、この青色膜化された記録層を有する各光記録媒体
に、実施例1と同様にして光記録を実施し、これを評価
した。その記録結果の評価を第1θ表に示す。
に、実施例1と同様にして光記録を実施し、これを評価
した。その記録結果の評価を第1θ表に示す。
第 lO表
第1図(A) Rび第1図(B)は本発明の方法に用い
る光記録媒体の構成の一態様を7例示する模式断面図、
第2図(A)及び第2図(B)並びに第3図(A)及び
第3図(B)はそれぞれ本発明の光記録の過程゛を示す
光記録媒体の模式断面図である。 に基板 2:記録層 2a:DA化合物を含む層 2bニジエン化合物塩を含む層 3a、3b:露光部 4:レーザービーム 5a:変色部 5b二ピツト
る光記録媒体の構成の一態様を7例示する模式断面図、
第2図(A)及び第2図(B)並びに第3図(A)及び
第3図(B)はそれぞれ本発明の光記録の過程゛を示す
光記録媒体の模式断面図である。 に基板 2:記録層 2a:DA化合物を含む層 2bニジエン化合物塩を含む層 3a、3b:露光部 4:レーザービーム 5a:変色部 5b二ピツト
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)ポリジアセチレン誘導体化合物と、下記一般式(1
)または(2)で表わされる化合物の一種以上とを含有
してなる記録層を有する光記録媒体に、記録情報に応じ
て露光量を制御した光を照射し、露光量Q_1の露光部
を変色させ、露光量Q_2の露光部には凹部からなるピ
ットを形成する工程(ただし、Q_1<Q_2)を有す
ることを特徴とする光記録方法。 一般式(1) ▲数式、化学式、表等があります▼(1) 一般式(2) ▲数式、化学式、表等があります▼(2) (式中、R^1はアルキル基、置換基を有してもよいフ
ェニル基またはスチリル基を表わし、R^2およびR^
6は、隣接した二つの−CH=CH−基と共役二重結合
系を形成する置換基を有してもよいアリーレン基を表わ
し、R^3およびR^7は、置換基を有してもよいフェ
ニル基またはナフチル基を表わし、R^4はアルコキシ
基を表わし、R^5はアルキル基を表わし、Aはアニオ
ン残基を表わす。)
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61016875A JPS62176886A (ja) | 1986-01-30 | 1986-01-30 | 光記録方法 |
US06/941,366 US4863832A (en) | 1985-12-16 | 1986-12-15 | Optical recording employing diacetylene compound and dye to change color and form pits |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61016875A JPS62176886A (ja) | 1986-01-30 | 1986-01-30 | 光記録方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62176886A true JPS62176886A (ja) | 1987-08-03 |
Family
ID=11928361
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61016875A Pending JPS62176886A (ja) | 1985-12-16 | 1986-01-30 | 光記録方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62176886A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01116929A (ja) * | 1987-10-29 | 1989-05-09 | Ricoh Co Ltd | 情報記録方法 |
JPH02278520A (ja) * | 1989-04-19 | 1990-11-14 | Canon Inc | 光学的情報記録方法及び光学的情報記録再生装置 |
JP2001195019A (ja) * | 2000-01-14 | 2001-07-19 | Kyushu Hitachi Maxell Ltd | 発光表示装置 |
-
1986
- 1986-01-30 JP JP61016875A patent/JPS62176886A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01116929A (ja) * | 1987-10-29 | 1989-05-09 | Ricoh Co Ltd | 情報記録方法 |
JPH02278520A (ja) * | 1989-04-19 | 1990-11-14 | Canon Inc | 光学的情報記録方法及び光学的情報記録再生装置 |
JP2001195019A (ja) * | 2000-01-14 | 2001-07-19 | Kyushu Hitachi Maxell Ltd | 発光表示装置 |
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