JPS6217193A - 電極・隔膜組立体 - Google Patents

電極・隔膜組立体

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JPS6217193A
JPS6217193A JP60154882A JP15488285A JPS6217193A JP S6217193 A JPS6217193 A JP S6217193A JP 60154882 A JP60154882 A JP 60154882A JP 15488285 A JP15488285 A JP 15488285A JP S6217193 A JPS6217193 A JP S6217193A
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gas permeable
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membrane
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白川 喜彦
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本尾 哲
Choichi Furuya
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  • Cell Electrode Carriers And Collectors (AREA)
  • Inert Electrodes (AREA)
  • Electrodes For Compound Or Non-Metal Manufacture (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 「産業上の利用分野」 本発明は、水溶液の電気分解装置の電極等に好適に用い
られるガス透過性を有する膜に関するものである。
「従来の技術およびその問題点」 水溶液の電気分解等に用いられる電解装置は、従来、溶
液が貯えられろ容器と、この容器内に設けられた陰極お
よび陽極と、これら陽極、陰極に生じた電解生成物の混
合を防止するために両極間に設けられた隔膜とからなる
ものであった。
そして、この種の電解装置の隔膜には、一般にアスベス
ト等か圧縮成形されてなるものが用いられている。
ところが、アスベストは発ガン性を有する等の問題が指
摘されており、このような隔膜を備えた電解装置の設置
には、様々な制限が伴う不満があった。
また、このような隔膜を備えた電解装置にあっては、高
圧のガスを生産しようとして高圧下で水電解を行うと、
陽極から発生するガスの量と陰極から発生するガスの量
の差により生じる圧力差の制御が困難となり、陽極、陰
極に発生したガスが隔膜を通して混合する問題があった
。このため、従来の隔膜を備えた電解装置を用いて高圧
のガスを得るには、生成ガスを改めて圧縮しなければな
らなかった。
「発明の目的」 本発明は上記事情に鑑みてなされたもので、隔膜が不要
な電解装置等を構成できるガス浸透膜を提供することを
目的とする。
「問題点を解決するための手段」 本発明のガス浸透膜は、導電性を有す微粒子が結合され
てなる多孔性のガス浸透層の表面に、触媒が担持せしめ
られた反応層が設けられてなるものである。
「作用 」 このような構成のガス浸透膜にあっては、導電性を有す
るので電極として利用できると共に、良好なガス透過機
能を有するので、電極として用いられた場合その表面に
生成したガスを透過して円滑に系外に放出できる。
「実施例」 以下、図面を参照して本発明のガス浸透膜を詳しく説明
する。
第1図は、本発明のガス浸透膜の第一実施例を示す乙の
で、図中符号1はガス浸透層、符号2は反応層である。
上記ガス浸透層1は、導電性を有す微粒子(以下、導電
性微粒子と略称する)が結合されてなる多孔性の層であ
る。
このガス浸透層Iに形成される孔は、口径0.5μm以
下、好ましく800Å以下の連続した孔であることが望
ましい。孔の口径が0.5μmを越えるとガス浸透層1
は、気体状態の分子だけでなく液体状態の分子をも透過
し得るものとなり、気液分離機能が低下する不都合を生
じる。
また、ガス浸透層■の空孔率は40%〜80%程度であ
ることが望ましい。ガス浸透層1の空孔率か80%を越
えると得られるガス浸透膜の耐圧強度が不十分となり、
空孔率が40%未満になるとガス浸透層1のガス透過速
度が低下し分解生成ガスを効率良く放出できなくなるの
で、いずれの場合ら好ましくない。
このガス浸透層lをなす導電性微粒子の材料には、鉄、
アルミニウム、銀、銅等の金属、無定形炭素、黒鉛等の
炭素、ジルコニアセラミックス、β−アルミナセラミッ
クス、ホウ素化合物[ランタンポライド(LaBll)
、チタンポライド(TiB2)]等の導電性セラミック
スなど種々のものを用いることができる。そe中でも、
炭素は、優れた撥水性と耐食性を有し、得られるガス浸
透膜が長寿命でかつ良好な耐薬品性を有するものとなる
ので好ましく用いられる。
この導電性微粒子としては、粒径0.1μ次以下ものが
好適に用いられる。粒径が061μmを越えると、ガス
浸透層lに口径の大きな孔が形成される不都合を生じる
ガス浸透層lをなすこれら導電性微粒子は、バインダー
を介して、あるいは焼結等により結合されている。この
実施例のガス浸透膜のガス浸透層lにあっては、バイン
ダーとしての有機高分子化合物によって導電性微粒子が
結合されている。
このガス浸透層lの導電性微粒子を結合する有機高分子
化合物には、フッ素樹脂、ケイ樹脂、ポリエチレン、ポ
リプロピレン、ポリアクリロニトリル、ポリ塩化ビニル
、ポリカーボネート、ポリエヂレンテレフタレート等種
々の合成樹脂材料を利用することができる。中でもポリ
テトラフルオロエチレン(PTFE)、ポリクロロトリ
フルオロエチレン、ポリビニリデンフルオライド、四フ
ッ化エヂレンー六フッ化プロピレン共重合体等のフッ素
樹脂、その中でら特にPTF’Eは、酸にもアルカリに
も侵されない優れた耐食性を有すると共に優れた撥水性
を有し、得られるガス浸透膜が長寿命でかつ耐薬品性を
有するものとなるので、好ましく用いられる。このよう
に有機高分子化合物を用いて導電性微粒子を結合する場
合、有機高分子化合物の添加量は、有機高分子化合物に
PTFE、導電性微粒子にカーボンブラックを用いた場
合を例にとると、通常、それらの合計量に対する重量比
でPTFEが10%〜60%程度とされる。有機高分子
化合物の添加量が60%を越えると、形成されるガス浸
透層lの電気抵抗が大きくなるうえ、ガス浸透層lのガ
ス透過性が悪化する。また、添加量が10%未満になる
と導電性微粒子の結合が不十分になり、ガス浸透層lの
強度が低下する。
このガス浸透層lは、厚さ0.3rxm〜2■程度に形
成されることが望ましい。このガス浸透層lの厚さが2
Iを越えると、ガス浸透層1のガス透過速度が低下する
不都合が生じ、0.3mm未満になると、ガス浸透層l
の強度が低下する不都合が生じる。
このガス浸透層1の表面には反応層2が形成されている
。この反応層2は、触媒が担持せしめられてなるもので
ある。
反応層2に用いる触媒としては、電気分解等の化学反応
を促進するニッケル(N i)、コバルト(Co1鉄(
Fe)等の鉄族元素あるいは、白金(P t)、ルテニ
ウム(Ru)、金(Au)、銀(A g)、銅(Cu)
、クロム(Cr)、マンガン(Mn)、パラジウム(P
d)等の貴金属元素あるいはそれらの酸化物またはそれ
らの合金等からなる触媒など各種のものを利用できる。
中でも、水溶液等の電気分解には、Ni、P ts R
uなどからなる触媒が、電解効率を大幅に向上し得ろへ
で、好ましく用いられる。
反応層2において、これら触媒は、担体に担持せしめら
れて固定されている。担体には様々のものを利用できる
。この反応層2を形成する担体には、より多くの触媒を
担持し得る点て、多孔質のものが好ましく用いられる。
その場合、孔の口径は、0.5μm〜0.01μm程度
とされ、反応層2の空孔率は40%〜80%程度とされ
る。
反応層2の口径が0.5μmを越えると、反応層2の強
度が低下する。また、口径が0.01μm未満になると
反応層2に溶液が浸透し難たくなり、反応層2の表面の
みしか電気分解等の反応に寄与せず、反応効率が低下す
る不都合が生じる。
また、反応層2をなず担体の空孔率が80%を越えると
、得られる反応層2は耐圧強度が不十分な乙なとなり好
ましくない。空孔率が40%未Il:aになると十分な
量の触媒を担持せしめることができず好ましくない。
この反応層2をなす担体には、アルミナ(A 122o
 3)、シリカ(SiO2)等のセラミックス、あるい
は導電性微粒子などをバインダーや焼結処理により結合
したものを各種利用できる。中てら、導電性微粒子が結
合されてなるものは、反応層2の電気抵抗を小さくでき
る点で好ましい。
電気伝導性材料としては、銀、銅、金等の金属や無定形
炭素、黒鉛等の炭素など、ガス浸透層1をなす導電性微
粒子と同様のものを用いることができる。
この導電性微粒子としては、粒径0.5μm以下ものが
好適に用いられる。粒径が085μmを越えると、ガス
浸透層lに口径の大きな孔が形成される不都合を生じる
そして、この実施例の膜の反応層2は、上記ガス浸透層
lと同様、バインダとしての有機高分子化合物によって
導電性微粒子が結合されている。
この有機高分子化合物としては、上記ガス浸透層1に用
いた有機高分子化合物と同様のものを利用できる。
また、この反応層は、水溶液と適度に接触し得るように
、親水性の部分と撥水性の部分が網目状に微細に分布し
た構造であることが望ましい。このような構造の反応層
2は、担体を親水性の微粒子と撥水性の微粒子との混合
物で作成することにより形成される。このような微粒子
としては、例えば撥水性のものとして一般のカーボンブ
ラック、親水性のものとしてYulcanX C−72
R(親水性カーボン、商品名・バルカンキャボット社製
)などが挙げられる。
この反応層2は、厚さが約1.0mm以下に形成される
ことが望ましい。この反応層2の厚さが1、Ommを越
えると、反応層2で生成されたガスがガス浸透層lへ透
過し難くなる不都合が生じる。
次に、本発明のガス浸透膜の製造方法の一例を説明する
説明は、バインダとしての有機高分子化合物にPTFE
を用い、導電性微粒子にカーボンブランクを用いたガス
浸透膜にを例にして行なう。
このガス浸透膜を製造するには、まず、平均粒径004
2μmのカーボンブラフ2フ0重虫部と、平均粒径0.
25μmのPTFE30重量部とを十分混合して混合物
Aを作成した。また、親水性を有するVulcanX 
C−72R,70重−i部と平均粒径0025μmのP
TPEとを十分混合して混合物Bを作成した。ついでこ
れら混合物A、BをA:B=4+6の比で混合し、有機
溶媒(ナフサ)を加えて、均一に混練した。これを加圧
して厚さ0.4mmのシートAを成形した。
これとは別に、平均粒径0.042μ屑のカーボンブラ
ック70重量部と平均粒径0.25μmのP1’ F 
E 30重量部を十分混合した混合物Cを作成し、これ
に有機溶媒(ナフサ)加えペースト状にし、均一になる
ように十分混練した。このものを加圧して、厚さ2.5
mMのシートBを成形した。
このように成形された2種類のシートA、Bを重ね合わ
せてローラで圧接して一体に接合しつつ厚さ0.9xi
のシートとした。このものを乾燥して用いた溶媒を揮散
させ、ついで280℃の加熱炉中で熱処理した。次に、
このものを380℃で所定時間ホットプレスして、厚さ
0.8Hのシート状に成形した。ついで、上記シートA
により形成された部分に触媒を担持せしめた。
触媒を担持せしめる方法としては、触媒が溶かされた溶
液(触媒溶液)を、シート表面に塗布あるいはスプレー
してシート内に浸透せしめ、この後これを乾燥する方法
が簡便である。このようにすると、反応層2の内部にま
で触媒が担持せしめられる。
なお、本発明のガス浸透膜は、上記実施例に限られるも
のではない。例えば、このガス浸透膜には必要により金
属網を貼着できる。金属網を貼着する場合、その位置は
、ガス浸透層lの表面、反応層2の表面、ガス浸透層l
と反応層2との間のいずれであってもよい。この金属網
としては、銅等の電気伝導性の良い金属からなるものが
好適に用いられる。また、金属網のメツシュは30〜1
00程度であることが望ましく、金属網をなす金属繊維
には径100μR〜500μm程度のものが好適に用い
られる。
このような金属網の貼着は、例えば上記シートA、Bを
重ね合わせる際に適宜な位置に金属網をセットし、これ
をホットプレスすることにより行なわれる。
「実験例1 」 本発明のガス浸透膜の性質を調べた。
まず、本発明のガス浸透膜をなすガス浸透層lのガス透
過速度と、ガス浸透層lの組成との関係を縛べた。
まず、ガス浸透層lに相当する膜をPTFEとカーボン
ブラックを用いて作成した。この膜をPTF’Eの割合
を変えて各種作成した。PTFEには平均粒径0.25
μ次のものを用い、カーボンブラックには平均粒径0.
042μmのものを用い、これらPTFEとカーボンを
合わせて100wt%とじた。
この実験に供した膜の製造は以下のようにして行った。
まず、カーボンブラックとPTPEとを十分混合して混
合物Aを作成した。これを常温下でロール法にて成形し
、厚さ1.0mmのシートAとした。
このように成形されたソートAを乾燥して、用いた溶媒
を揮散させ、ついで、280℃の加熱炉中で熱処理した
。ついで、このものを19ずつホットプレスして、面積
12.56cz2、厚さ1 rttmのシート状に成形
しつつ焼成した。ホットプレスの条件は、温度380℃
、圧力600 kg/ax2、時間3秒であった。
また、このように作成された膜に形成された孔の口径は
、水銀ポロシメーターで調べたところ、いずれら800
〜200人であった。
このガス透過実験は、密閉容器の中央に膜をセットして
、容器を二車に気密に仕切り、一方の室にゲージ圧力1
 kg7cm”で水素ガスを導入して、大気圧に保持さ
れた他方の室に透過してくる水素ガスの量を測定するこ
とによって行った。
結果を第2図に示す。
第2図かられかるように、本発明のガス浸透膜をなすガ
ス浸透層lは、PTFEの割合が少ないほどガス透過速
度が大きなものとなる。
「実験例2 」 本発明のガス浸透層lのガス透過速度が差圧によりどの
ように変化するか調べた。
この実験に供した膜は、平均粒径0.25μmのPTP
E30wt%と平均粒径0.042μmのカーボン70
wt%とからなる、膜厚さ1mm、および0.5■のも
ので、形成された孔の口径は、700〜200人であっ
た。膜の作成は、実験例1と同様の方法によって行った
実験は、密閉容器の中央に膜をセットして、容器を2室
に気密に仕切り、一方の室を大気圧に保持して、他方の
室に前記一方の室との圧力差が0 、5 atmSl 
、 0 atm、−となるように水素ガスあるいは酸素
ガスを導入しつつ、それぞれの条件下で一方の室に透過
してくる水素ガスあるいは酸素ガスの量を測定すること
によって行った。
結果を第3図に示す。
第3図から、本発明のガス浸透膜のガス浸透層■のガス
透過速度は、差圧に比例することが確認された。また、
透過速度は酸素よりも水素の方が速いこと、さらに本発
明のガス浸透膜はガス浸透層Iが薄い方が透過速度の大
きいものとなることが確認された。
「実験例3 」 本発明のガス浸透膜のガス浸透層Iの空孔率が、ガス浸
透層1を形成する際のプレス圧、およびPTFEに施す
前処理でどのように変化するかを調べた。
ガス浸透層Iに相当する膜を実験例!と同等の方法作成
することとした。その際、ホットプレスの圧力をlθ〜
600 kg/am″の間で変化させた。
用いたPTFEは平均粒径0.25μ肩のもので、この
PTFE30重量部に、平均粒径0.042μ肩のカー
ボン70重量部を混合した。この混合物にはっぎの3種
類の処理を施すこととした。■フリーズドライ処理、■
凍結処理、■アルコール浸漬処理。これらの処理が施さ
れた混合物を1、Ogずつを成型した。ホットプレス時
の成型温度は材料温度で380℃であった。形成された
膜の孔の口径はいずれも平均500オングストロ一ム程
度であった。
成型された膜に水銀を圧入して膜の空孔量を測定した。
結果を第4図に示す。
第4図から、高いプレス圧で成型されたもの程空孔率が
低いことが確認された。また、PTFEとカーボンの混
合物をアルコール浸漬処理すると、空孔率の高いものを
作成できることが確認された。
「−実験例4 」 本発明のガス浸透膜のガス浸透層lの空孔率がガス浸透
層1を形成するPTFEの割合でどのように変化するか
を調べた。
ガス浸透層1に相当する膜を実験例4と同様の方法で作
成した。PTFEには(凍結処理)を施したものを用い
、PTFE:カーボンブラック=30重量部=70重量
部および40重量部二60重爪部の場合について調べた
。形成された膜の孔の口径はいずれも平均500人程度
であった。
成型された膜に水銀を圧入して膜の空孔量を測定した。
結果を第5図に示す。
第5図から、PTFEの割合が多いものの方が空孔率が
低いことが確認された。さらにPTF’Eの割合が多い
ものはプレス圧が上昇すると急激に空孔率が低下するこ
とが確認された。
「実験例5 」 本発明のガス浸透膜をなすガス浸透層lの空孔率と耐水
圧の関係を調べた。
実験例3で作成した膜を容器の側壁に液密に取り付け、
容器に水を注入した。容器の水に圧力を加え、膜を通し
て水が透過した時の水圧を調べ耐水圧とした。
結果を第6図に示した。
第6図から、本発明のガス浸透膜のガス浸透層lは、空
孔率が低いほど耐水圧が高いことが確認された。
「実験例6 」 本発明のガス浸透膜をなすガス浸透層1の耐水圧か、P
TFEの割合でどのように変化するかを調べた。
実験は、実験例4で作成した膜を容器の側壁に液密に取
り付け、容器に水を注入して圧力を加えることによって
行った。
結果を第7図に示す。
第7図から、PTFEの量が30wt%のものと40w
t%のものとでは、ガス浸透層lの耐水圧には顕著な差
が生じな゛いことか確認された。
「実験例7 」 本発明のガス浸透膜をなすガス浸透層lの耐水圧と製造
時のプレス圧の関係を調べた。
実験例3で作成した膜を容器の側壁に液密に取り付け、
容器に水を注入して、膜の耐水圧を調べた。
結果を第8図に示す。
第8図から、本発明のガス浸透膜のガス浸透層lは、高
いプレス圧で製造されたものほど優れた耐水圧を有する
ものになることが確認された。
「実験例8 」 本発明のガス浸透膜をなすガス浸透層lの耐水圧が、P
TFEの割合でどのように変化するかを調べた。
実験は、実験例4で作成された膜を容器の側壁に液密に
取り付け、容器に水を注入した圧力を加えることによっ
て行った。
結果を第9図に示す。
第9図から、本発明のガス浸透膜のガス浸透層lは、P
TFEの割合が多いほど、また製造時のプレス圧が高い
ほど高い耐水圧を有するものとなるがことが確認された
「実験例9 」 本発明のガス浸透膜を利用したガス分離精製装置3を試
作し、空気から酸素の分離を行った。
第1O図は、試作したガス分離精製装置3の概略構成を
示すものである。この装置は、原料ガス室4と溶液流通
室5とガス回収室6とが並列に設けられてなるもので、
原料ガス室4と溶液流通室5との間はガス浸透膜Aで、
ガス回収室6と溶液流通室5との間はガス浸透膜Bでそ
れぞれ仕切られている。また、ガス浸透膜A、Bは、そ
れぞれ反応層2.2が溶液流通室5側に面するように取
り付けられている。膜A、B間の距離は1mmに設定さ
れている。
この実験に用いられたガス浸透膜A、Bの仕様は以下の
通りである。
■)ガス浸透膜A 構造:厚さ0.11111の反応層2と厚さ0 、5m
mのガス浸透層1と銅網とが順次積層されてなる3層構
造。
面積:900cm” a)反応層2 組成;カーボン70重量部、平均粒径0.038μmP
 T F E 30重量部、平均粒径0.25μm触媒
:白金系、平均粒径50人 b)ガス浸透層1 組成:カーボン70重量部、平均粒径0.042μmP
TFE7G重量部、平均粒径0.25μ肩空孔率二65
% 孔の口径・平均450人 ■)ガス浸透膜B 構造:厚さOAmmの反応層2と厚さ0.5mmのガス
浸透層lと銅網とが順次積層されてなる3層構造。
面積・900 ctx” a)反応層2 組成:カーボン30重量部、平均粒径0.048μmP
 T F E 30重量部、平均粒径025μ肩触媒:
ニッケル系、平均粒径300人 b)ガス浸透層1 組成:カーボン65重量部、平均粒径0.042μmP
TFE35重量部、平均粒径0.25μi空孔率:65
% 孔の口径:平均450人 このようなガス浸透膜A、Bが取り付けられたガス分離
精製装置3の溶液流通室5に、水酸化カリウム(KOH
)の20wt%溶液を0.1M/分、。
2 、2 kg7am” −G (ゲージ圧)で供給し
た。また、原料ガス室4に0 、01 kg7am2・
Gの空気を80Q/分で供給した。そして、ガス浸透膜
Aを陰極、ガス浸透膜Bを陽極とし、ガス浸透膜A、B
間に水の電解に必要な電圧(1,25V)よりも低い電
圧0.96Vと、電流450Aを印加した。
以上の条件で装置を運転したところ、ガス回収室6から
純度99.99%、圧力2 kg/am2− G (約
3 atm)の酸素が毎分1.51(標準状態)得られ
た。
ついで、上記水酸化カリウム溶液の代わりに、20wt
%水酸化ナトリウム溶液を用いて同様の実験を行ったと
ころ、空気から標準状態で1.55Q/分の酸素(純度
99.99%)を分離することができた。
本発明のガス浸透膜は強い耐圧強度(約20に9/cm
2以上)を有するので、本発明のガス浸透膜を備えたガ
ス分離精製装置3は、溶液流通室5の圧力を高く維持し
得るものとなる。この装置では溶液流通室5の圧力とほ
ぼ等しい圧力のガスを得られるので、溶液流通室5の圧
力を高めることにより、高圧の酸素を多量に生産するこ
とができる。
「実験例10j 実験例9と同様のガス分離精製装置3を用いて、水素ガ
スの精製を行った。
この実験に用いられたガス浸透膜A、Hの仕様は以下の
通りである。
I)ガス浸透膜A 構造:厚さ0.1mmの反応層2と厚さ0.5mmのガ
ス浸透層1と銅網とが順次積層されてなる3層構造。
面積:900cx” a)反応層2 組成:カーボン70重量部、平均粒径0.038μmP
 T F E 30重量部、平均粒径0.25μ次触媒
:白金系、粒径5〇人 b)ガス浸透層1 組成:カーボン70重量部、平均粒径0.042μmP
TFE3G重量部、平均粒径0.25μ尻空孔率二64
% 孔の口径:平均440人 ■)ガス浸透膜B 構造:厚さQ、Lmiの反応層2と厚さ0.5mmのガ
ス浸透層lと銅網とが順次積層されてなる3層構造。
面積:900cm” a)反応層2 組成:カーボン70重量部、平均粒径0.038μmP
TFE30重量部、平均粒径0.25μm触媒・白金系
、粒径5〇人 b)ガス浸透層! 組成:カーボン70重量部、平均粒径0.042μmP
TFE30重量部、平均粒径0.25μvt空孔率:6
4% 孔の口径:平均440人 このようなガス浸透膜A、Bが取り付けられたガス分離
精製装置3の溶液流通室5に5重量%の希硫酸溶液を0
.2Q1分、2 、2 kg7am、−Gで供給した。
また、原料ガス室4に酸素と窒素を含む純度99%の水
素ガスを0.O1kg/cx”−G。
812/分で供給した。そして、ガス浸透膜Aを陽極、
ガス浸透@Bを陰極とし、ガス浸透膜A18間に電圧0
.2V(この値は水電解に最低必要な電圧1.25Vよ
りも低い)と、電流900Aを印加した。
以上の条件で装置を運転したところ、ガス回収室6から
純度99.999%、圧力2 kg/crlI” −G
の水素ガスが標準状態に換算して毎分6.26Q得られ
た。
この装置において、標準状態でIn3の水素ガスを精製
するのに要したエネルギーは0.48KW・hrであっ
た。これに対して、従来のパラジウム膜を利用した水素
精製の場合は1 、0 KW −hr/m3、深冷水素
精製の場合はl 、 2 KW−hr/v3であり、本
発明のガス浸透膜を備えたガス分離精製装置3によれば
水素ガスの精製を効率良く行えることが確認できた。
また、この装置3においては、膜A、B間の距離をさら
に狭めることにより、エネルギー効率をより向上できる
ものと考えられる。
「実験例11J 本発明のガス浸透膜を利用たガス発生装置7を試作して
、水素ガスと酸素ガスを生産した。
第11図は、試作したガス発生装置7の概略構成を示す
ものである。この装置は、溶液流通室8の両側に発生ガ
ス回収室9、lOが設けられてなるもので、溶液流通室
8と発生ガス回収室9、lOと間はそれぞれガス浸透@
A、Bで仕切られている。ガス浸透膜A、Bは、それぞ
れ反応層2.2が溶液流通室8側に面するように取り付
けられ、膜A、B間の距離は11Rxに設定されている
この実験に用いられたガス浸透膜ASBの仕様は以下の
通りである。
■)ガス浸透膜A 構造:厚さ0.1RRの反応層2と厚さ0 、5mmの
ガス浸透層lと銅網とが順次積層されてなる3層構造。
面積:900cm” a)反応層2 組成:カーボン65重量部、平均粒径0.042μ1P
TFE35重量部、平均粒径0.25μ屑触媒:Ru0
t系、粒径100人 b)ガス浸透層1 組成:カーボン70重量部、平均粒径0.042μmP
TFE3Q重量部、平均粒径0.25μl空孔率、65
% 孔の口径:平均460人 ■)ガス浸透膜B 構造:厚さ0.11!Jlの反応層2と厚さ0.5mm
のガス浸透層1と銅網とが順次積層されてなる3層構造
面積:900ci2 a)反応層2 組成:カーボン70重量部、平均粒径0.038μ麓P
TFE30重M部、平均粒径0.25μ肩触媒:白金系
、粒径5〇人 b)ガス浸透層1 組成:カーボン70重量部、平均粒径0.042μπP
TFE30重量部、平均粒径0.25μ夏空孔率:65
% 孔の口径:平均450人 このようなガス浸透膜A、Bが取り付けられたガス発生
装置7の溶液流通室8に20mo1%の希硫酸溶液を0
.12Q/分、2 、2 kg/crp” −Gで供給
しつつ、ガス浸透膜A、B間に電圧t、SV、電流90
0Aを印加した。この際、ガス浸透@Aを陽極、ガス浸
透膜Bを陽極とした。
以上の条件で装置を運転したところ、発生ガス回収室9
から酸素ガスを毎分3.13Q(標鵡状態下)、発生ガ
ス回収室10から水素ガスを毎分6.25Q(標準状態
下)ずつ得ることができた。
ついで、上記硫酸溶液の代わりに、アルカリ溶液(25
wt%水酸化カリウム溶液)、中性溶液(20wt%硫
酸ナトリウム溶液)等を用いて同様の実験を行ったとこ
ろ、同様に酸素ガス、水素ガスを効率良く生産すること
ができた。
なお、浸透膜A、Hのうち一方を従来の電解装置の電極
に取り替えて、ガス発生装置7を運転したところ、同様
に酸素ガス、水素ガスを得ることができた。このように
装置7を運転したところ膜の寿命を延ばすことができた
[実験例12J 実験例11のガス発生装置7を用いて、炭酸ガスと水素
ガスを生産した。
この実験に用いられたガス浸透膜ASBの仕様は以下の
通りである。
I)ガス浸透膜A □ 構造:厚さ0.1■の反応層2と厚さ0.5ttt
mのガス浸透層lと銅網とが順次積層されてなる3層構
造。
面積:900CJI2 a)反応層2 組成:カーボン70重量部、平均粒径0.042μ肩P
TFE30重量部、平均粒径0.25μ肩触媒二粒径5
0人の白金系触媒および粒径100へのR110を系触
媒 h)ガス浸透層1 組成;カーボン70重量部、平均粒径0.042μ肩P
TFE30重量部、平均粒径0,25μ窺空孔率二65
% 孔の1コ径:平均450人 ■)ガス浸透膜B 構造:厚さ0.1mmの反応層2と厚さ0.5mmのガ
ス浸透層lと銅網とが順次積層されてなる3層構造。
面積:900c+++’ a)反応層2 組成コカーボン70M爪部、平均粒径0.038μ次P
TI”E30重量部、平均粒径0.25μm触媒:白金
系、粒径50人 b)ガス浸透層1 組成:カーボン70重量部、平均粒径0.042μ肩P
 T F E 30重量部、平均粒径0.25μ次空孔
率=65% 孔の口径:平均450人 まず、0 、5 mol/(2希硫酸溶液にメタノール
をlOνo1%混合した原料溶液を作成した。そして、
ガス発生装置7の溶液流通室8にこの原料溶液を0 、
 I Q1分、2 、0 kg/crs”・Gで供給し
つつ、ガス浸透膜A、B間に電圧0,6〜0,7■、電
流450Aを印加した。この際、ガス浸透膜Aを陽極、
ガス浸透@Bを陰極とした。また、原料溶液の温度は6
5℃であった。
以上の条件で装置を運転したところ、発生ガス回収室9
から純度99.9%、圧力1 、5 kg/cm″・G
の炭酸ガスを標準状態に換算して毎分1.0312゜発
生ガス回収室lOから純度99.9%、圧力1 、5 
kg7OR” −Gの水素ガスを標準状態に換算して毎
分6.24Q得ることができた。
この装置にあっては、メタノールが減極作用を果たすの
で、電力使用量を大幅に低減できた。
ここで、本発明のガス透過膜を備えた上記ガス分離精製
装置3、ガス発生装置7の特徴を列記する。
■本発明のガス浸透膜は気液分離機能を有するので、こ
の膜を備えた装置3.7は純度の高い(99,999%
以上)水素ガス、酸素ガスを得ることができるものとな
る。
■本発明のガス浸透膜を用いたので、生成されたガスは
円滑に系外に放出される。よって、6極に発生したガス
が混合するようなことは無く、装置に隔膜を設ける必要
がない。
■生成されたガスの気泡で電極の表面が覆われてしまう
ようなことがないので、減極が防止され、高い電流効率
を実現できる。(995%以上の電流効率を実現できる
。) ■これら装置3.7にあっては、電流密度を100〜5
00 A/da”と大幅に向上できる。(従来、一般の
水電解装置に有っては10〜20A /dm’程度) ■隔膜を設ける必要がないので、陰極、陽極間距離を小
さくでき、これによっても電流効率を向上できる。また
、極間電圧を小さくできる(100 A/da’の場合
t、gv程度)。
■h極、陽極に生成されたガスを分離するために隔膜を
設ける必要がないので、電解槽を縮小でき、装置の小型
化を図ることができる。
■本発明のガス浸透膜は強い耐圧強度を有するので、溶
液流通室5.8の圧力を高めることができる。しかも、
6極に発生するガスはそれぞれ速やかに系外に放出され
るので混合する恐れがない。そして、このように溶液流
通室5.8の圧力を高めるとにより、圧力の高いガスを
得ることができる。このためこの装置はガスの昇圧装置
としても利用可能である。
■本発明のガス浸透膜には触媒を薄く分散して担持せし
めることができるので、高価な白金等の触媒の使用債を
低減でき、装置の製造コストを下げることができろ。
「発明の効果」 以上説明したように、本発明のガス浸透膜は、導電性を
有す微粒子が結合されてなる多孔性のガス浸透層と、こ
のガス浸透層の表面に設けられた触媒が担持せしめらて
なる反応層とからなるものであるので、導電性を有する
しのとなり、電極として利用できる。そしてこのガス浸
透膜は良好なガス透過機能を有するので、電極として用
いられた場合その表面に生成したガスを透過して系外に
放出できる。よって、本発明のガス浸透膜を利用するこ
とにより、陽極、陰極に生じた電解生成物の混合を防止
するための隔膜の不要な電解装置を構成することができ
る。
また、本発明のガス浸透膜は、各種試験の結果、強い耐
圧強度を有するものであることが確認された(20 k
g/cm2以上)。このように本発明のガス浸透膜は強
い耐圧強度を有するので、これを備えたガス分離精製装
置あるいはガス発生装置は、溶液流通室の圧力を高く維
持し得るものとなり、小型の装置で、高圧のガスを多量
に精製または生産することができるものとなる。また、
このような装置にあっては、電解液に圧力を加えること
により、6極から高圧のガスを混合することなく得るこ
とができるから、ガスの昇圧装置として利用することら
可能である。
さらに、本発明のガス浸透膜は気液分離機能を有するの
で、この膜を備えたガス分離精製装置、ガス発生装置は
純度の高い(99,999%以上)ガスを得ることがで
きるものとなる。
またさらに、本発明のガス浸透膜を電極に用いた装置に
あっては、生成されたガスの気泡で電極の表面が覆われ
ることがないので、減極が防止され、高い電流効率を実
現できる。
さらにまた、本発明のガス浸透膜を電極に利用した装置
は、隔膜を設ける必要がないので、極間距離を小さくす
ることにより、電流効率を向上できる。また、極間電圧
を小さくできる。
また、本発明のガス浸透膜を利用すれば、隔膜を設ける
必要がないので、電解槽を縮小でき、電解装置の小型化
を図ることができる。
加えて、本発明のガス透過膜を利用すると、イオン化で
きる気体であれば、酸素ガスや水素ガスだけでなく、塩
素ガスなと各種のガスを生産、精製できる。
また、本発明のガス透過膜は、上記ガス発生装置だけで
なく、燃料電池等にも利用できる利用範囲の広いもので
ある。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明のガス浸透膜の一実施例を示す断面図、
第2図ないし第9図はそれぞれ実験の結果を示すもので
あって、第2図はガス透過速度とガス浸透層の組成との
関係を示すグラフ、第3図はガス浸透層のガス透過速度
および差圧との関係を示すグラフ、第4図はガス浸透層
の空孔率と製造時のプレス圧およびPTFEに施す前処
理との関係を示すグラフ、第5図はガス浸透層の空孔率
と製造時のプレス圧およびPTFEの割合との関係を示
すグラフ、第6図はガス浸透層の空孔率と耐水圧の関係
を示すグラフ、第7図はガス浸透層の耐水圧とPTFE
の割合の関係を示すグラフ、第8図はガス浸透層の耐水
圧と製造時のプレス圧の関係を示すグラフ、第9図はガ
ス浸透層の耐水圧とPTFEの割合の関係を示すグラフ
、第10図および第11図はそれぞれ本発明のガス透過
膜を利用したガス発生装置を示す概略構成図である。 l・・・ガス浸透層、2・・・反応層。

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)導電性を有す微粒子が結合されてなる多孔性のガ
    ス浸透層と、このガス浸透層の表面に設けられかつ触媒
    が担持せしめられた反応層とからなるガス浸透膜。
  2. (2)上記反応層が、電気伝導性の微粒子が結合されて
    なる担体に触媒が担持せしめられてなるものであること
    を特徴とする特許請求の範囲第1項記載のガス浸透膜。
  3. (3)上記反応層が、親水部および撥水部が網目状に微
    細に分布してなるものであることを特徴とする特許請求
    の範囲第1項または第2項記載のガス浸透膜。
  4. (4)上記ガス浸透層に形成された孔が、口径800オ
    ングストローム以下の連続した孔であることを特徴とす
    る特許請求の範囲第1項ないし第3項のいずれかに記載
    のガス浸透膜。
  5. (5)上記電気伝導性材料が炭素であることを特徴とす
    る特許請求の範囲第1項ないし第4項のいずれかに記載
    のガス浸透膜。
  6. (6)上記反応層に担持せしめられた触媒が、コバルト
    、鉄、ニッケル等の鉄族元素あるいは、銅、マンガン、
    パラジウム、白金、ルテニウム、金、銀等の貴金属元素
    あるいはそれらの酸化物またはそれらの合金からなるも
    のであることを特徴とする特許請求範囲第1項ないし第
    5項のいずれかに記載のガス浸透膜。
  7. (7)上記導電性を有す微粒子が有機高分子化合物をバ
    インダとして結合されていることを特徴とする特許請求
    の範囲第1項ないし第6項のいずれかに記載のガス浸透
    膜。
  8. (8)上記有機高分子化合物がフッ素樹脂であることを
    特徴とする特許請求の範囲第7項記載のガス浸透膜。
  9. (9)上記フッ素樹脂がポリテトラフルオロエチレンで
    あることを特徴とする特許請求の範囲第8項記載のガス
    浸透膜。
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