JPS62143902A - 水溶性光重合開始剤 - Google Patents
水溶性光重合開始剤Info
- Publication number
- JPS62143902A JPS62143902A JP61241200A JP24120086A JPS62143902A JP S62143902 A JPS62143902 A JP S62143902A JP 61241200 A JP61241200 A JP 61241200A JP 24120086 A JP24120086 A JP 24120086A JP S62143902 A JPS62143902 A JP S62143902A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- compound
- photopolymerization initiator
- general formula
- water
- formula
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000003999 initiator Substances 0.000 title claims description 22
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 36
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 18
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 9
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 7
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 6
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 5
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 claims description 4
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 claims description 4
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 3
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims 2
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 claims 1
- 125000000896 monocarboxylic acid group Chemical group 0.000 claims 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims 1
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 18
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000000047 product Substances 0.000 description 8
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 6
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 6
- 235000011121 sodium hydroxide Nutrition 0.000 description 6
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 5
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 4
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 4
- JHJLBTNAGRQEKS-UHFFFAOYSA-M sodium bromide Chemical compound [Na+].[Br-] JHJLBTNAGRQEKS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 4
- QXNVGIXVLWOKEQ-UHFFFAOYSA-N Disodium Chemical compound [Na][Na] QXNVGIXVLWOKEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- -1 benzoin ethers Chemical class 0.000 description 3
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 3
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 3
- YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N thioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3SC2=C1 YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OYNIIKHNXNPSAG-UHFFFAOYSA-N 2-(4-formylphenoxy)acetic acid Chemical compound OC(=O)COC1=CC=C(C=O)C=C1 OYNIIKHNXNPSAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RGHHSNMVTDWUBI-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxybenzaldehyde Chemical compound OC1=CC=C(C=O)C=C1 RGHHSNMVTDWUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical group NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 description 2
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 2
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 2
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 2
- 150000008062 acetophenones Chemical class 0.000 description 2
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 2
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 2
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 2
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 2
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 description 2
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 description 2
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 description 2
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 description 2
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 2
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 2
- 239000004922 lacquer Substances 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N monopropylene glycol Natural products CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 2
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 2
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 2
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 2
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 2
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 2
- BVQPLQFQIKKJHD-UHFFFAOYSA-N (4-benzoylphenyl)methanesulfonic acid;sodium Chemical compound [Na].C1=CC(CS(=O)(=O)O)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 BVQPLQFQIKKJHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HMUNWXXNJPVALC-UHFFFAOYSA-N 1-[4-[2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)pyrimidin-5-yl]piperazin-1-yl]-2-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)ethanone Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)N1CCN(CC1)C(CN1CC2=C(CC1)NN=N2)=O HMUNWXXNJPVALC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ANWMNLAAFDCKMT-UHFFFAOYSA-N 2-(2-formylphenoxy)acetic acid Chemical compound OC(=O)COC1=CC=CC=C1C=O ANWMNLAAFDCKMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGPBVJWCIDNDPN-UHFFFAOYSA-N 2-(dimethylamino)benzaldehyde Chemical compound CN(C)C1=CC=CC=C1C=O DGPBVJWCIDNDPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IYNBZTNXBWXEKX-UHFFFAOYSA-N 3-(9-oxothioxanthen-2-yl)oxypropane-1-sulfonic acid;sodium Chemical compound [Na].C1=CC=C2C(=O)C3=CC(OCCCS(=O)(=O)O)=CC=C3SC2=C1 IYNBZTNXBWXEKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MCSXGCZMEPXKIW-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxy-4-[(4-methyl-2-nitrophenyl)diazenyl]-N-(3-nitrophenyl)naphthalene-2-carboxamide Chemical compound Cc1ccc(N=Nc2c(O)c(cc3ccccc23)C(=O)Nc2cccc(c2)[N+]([O-])=O)c(c1)[N+]([O-])=O MCSXGCZMEPXKIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005995 Aluminium silicate Substances 0.000 description 1
- 229920002134 Carboxymethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- CNCOEDDPFOAUMB-UHFFFAOYSA-N N-Methylolacrylamide Chemical compound OCNC(=O)C=C CNCOEDDPFOAUMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N N-Vinyl-2-pyrrolidone Chemical compound C=CN1CCCC1=O WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AFCARXCZXQIEQB-UHFFFAOYSA-N N-[3-oxo-3-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)propyl]-2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound O=C(CCNC(=O)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F)N1CC2=C(CC1)NN=N2 AFCARXCZXQIEQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- IJGHBLBZSGBHTR-UHFFFAOYSA-N acetic acid;prop-2-enamide Chemical compound CC(O)=O.NC(=O)C=C.NC(=O)C=C IJGHBLBZSGBHTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 1
- 235000012211 aluminium silicate Nutrition 0.000 description 1
- 238000000889 atomisation Methods 0.000 description 1
- 150000003935 benzaldehydes Chemical class 0.000 description 1
- HUMNYLRZRPPJDN-UHFFFAOYSA-N benzenecarboxaldehyde Natural products O=CC1=CC=CC=C1 HUMNYLRZRPPJDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008366 benzophenones Chemical class 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000001588 bifunctional effect Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 239000001768 carboxy methyl cellulose Substances 0.000 description 1
- 235000010948 carboxy methyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 239000008112 carboxymethyl-cellulose Substances 0.000 description 1
- 239000005018 casein Substances 0.000 description 1
- BECPQYXYKAMYBN-UHFFFAOYSA-N casein, tech. Chemical compound NCCCCC(C(O)=O)N=C(O)C(CC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CC(C)C)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(CC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(C(C)O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(COP(O)(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(N)CC1=CC=CC=C1 BECPQYXYKAMYBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000021240 caseins Nutrition 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 1
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N kaolin Chemical compound O.O.O=[Al]O[Si](=O)O[Si](=O)O[Al]=O NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 1
- 229910001510 metal chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004377 microelectronic Methods 0.000 description 1
- QNGNSVIICDLXHT-UHFFFAOYSA-N para-ethylbenzaldehyde Natural products CCC1=CC=C(C=O)C=C1 QNGNSVIICDLXHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 235000019422 polyvinyl alcohol Nutrition 0.000 description 1
- 229920000036 polyvinylpyrrolidone Polymers 0.000 description 1
- 239000001267 polyvinylpyrrolidone Substances 0.000 description 1
- 235000013855 polyvinylpyrrolidone Nutrition 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 239000006120 scratch resistant coating Substances 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 230000001568 sexual effect Effects 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- WADRXGCIDTUAJW-UHFFFAOYSA-M sodium 2-(3-oxo-1-phenylbut-1-en-2-yl)oxyacetate Chemical compound [Na+].C(=O)([O-])COC(C(C)=O)=CC1=CC=CC=C1 WADRXGCIDTUAJW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- IBDSXEISUVFXBF-UHFFFAOYSA-M sodium;1-(4-formylphenoxy)ethanesulfonate Chemical compound [Na+].[O-]S(=O)(=O)C(C)OC1=CC=C(C=O)C=C1 IBDSXEISUVFXBF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- DAKAQNVUSAGTRS-UHFFFAOYSA-M sodium;1-bromoethanesulfonate Chemical compound [Na+].CC(Br)S([O-])(=O)=O DAKAQNVUSAGTRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- BWMISRWJRUSYEX-SZKNIZGXSA-N terbinafine hydrochloride Chemical compound Cl.C1=CC=C2C(CN(C\C=C\C#CC(C)(C)C)C)=CC=CC2=C1 BWMISRWJRUSYEX-SZKNIZGXSA-N 0.000 description 1
- 201000004647 tinea pedis Diseases 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000003232 water-soluble binding agent Substances 0.000 description 1
- 239000000080 wetting agent Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F2/00—Processes of polymerisation
- C08F2/46—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
- C08F2/48—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
- C08F2/50—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light with sensitising agents
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
- G03F7/031—Organic compounds not covered by group G03F7/029
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
- Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
- Y10S430/114—Initiator containing
- Y10S430/12—Nitrogen compound containing
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
- Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
- Y10S430/114—Initiator containing
- Y10S430/122—Sulfur compound containing
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
- Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
- Y10S430/114—Initiator containing
- Y10S430/124—Carbonyl compound containing
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
本発明は、光重合開始剤、及び光重合開始剤。
不飽和結合を有する重合性イし合物、及び結合剤を含む
光重合性組成物に関する。更に詳しくは紫外線露光後に
水だけを用いて処理することのできる光重合性組成物に
関する。 K従来の技術】 不飽和化合物の光重合は公知の技術であって、石版印刷
及び活字印刷の印刷版、スクリーン印刷のステンシル、
エツチングレジスト、紫外at化インキ、上塗りラッカ
ー、フィルムの耐摩耗及び傷つき防止塗膜などの製造に
広く使用されている。 このように広く使用されている材料の化学的組成は、ビ
ニル或いはアクリル基などの二重結合を有する化合物を
有する。これらの化合物は適当な光重合開始剤に紫外線
を照射することによって生じるフリーラジカルによって
重合が引き起こされる。これらの目的のために通常用い
られる光重合開始剤としては、ベンシール、ベンゾイン
、ベンゾインエーテル類、ベンゾフェノン、ミツシェラ
−(旧chler)のケトンのような置換されたベンゾ
フェノン類、チオキサントン及び@換されたチオキサン
トン類、及びアセトフェノン及び置換されたアセトフェ
ノン類が挙げられる。写真像が処理によって再生される
場合、即ち写真のネガ或いはポジを通して感光性塗膜を
露光し、それによって光を照射した部分だけ重合によっ
て硬化させるような使い方の場合は、必ず露光の後に現
像の段階が必要である。この現象処理においては塗膜の
硬化していない部分を適当な溶媒で溶解除去する。 露光した後、簡単に水或いはアルカリ水溶液で処理する
ことによって現像することのできる光重合システム、即
ちそれによって可燃性或いは有害な溶媒を使用しないで
済み、且つ処理工程のコストを減らすことのできる光重
合システムに対する関心が高まりつつある。 K発明が解決しようとする問題点】 光重合工程の効率を最適化するためには、゛光重合開始
剤、不飽和化合物、接着剤の全てが水に可溶であること
が望ましい。残念ながら、上記の市販の光重合開始剤は
水溶性ではない。疎水性モノマーと光重合開始剤の混合
物を水に分散させて、塗布する前に水性コロイド溶液と
する方法によってそれらを使用する試みはあまり成功し
ていない。 即ち、コロイド状になると結合剤が光反応の段階で適切
に1q割りを果さなくなる。このようなことから硬化の
効率が低下し、長時間の露光時間を要するばかりて゛な
く、形成される像の質も劣ったものとなる。上記の従来
使用されている光重合開始剤の水溶性誘導体、例えば、
4−(スルホメチル)ベンゾフェノンナトリウム、4−
スルホメチルベンシールナトリウム、及び2−(3−ス
ルホプロポキシ)チオキサントンナトリウム等の英国特
許第2.108.487号明細古に記載されているよう
なものが数多く知られている。しかしこれらは、一般に
合成経路が複雑であり、以下に述べるように吸収特性に
欠点があり、受は入れ難いものである。 水溶性と同様に光重合開始剤の光吸収特性は重要である
。光重合の効率を最適にするためには光重合開始剤の吸
収は励起光の放射波長とできるだけ近いことが必要であ
る。使用される紫外線の光源は一般には水虫対であり、
更に通常は金属ハロゲン化物を添加した水銀灯である。 水銀灯は365niの所に最大強度を持っている。゛水
銀灯に金属ハOグン化物を添加するとスベク1〜ル、腺
の故が増大し、特に長波長部分の光の割合いが増大する
。多くの水銀灯において400〜420n11の所に強
い光強度を示すのは極く一般的である。 このことは幾つかの理由によって望ましいことである。 即ち、長波長の光は事故によって光に曝された場合に生
理的な有害性が低く、また露光装置のガラス、或いは感
光性エマルジョンの塗布ペースとしてよく使用されるフ
ィルムベースに短波長光は吸収されやすく、他方長波長
光は透過力が高く、厚さの厚いレジストでも適切に露光
することができる。更に、特にマイクロエレクトロニツ
クス工業の分野においてフォトレジスト材料の露光にレ
ーザーを使用することに対して関心が高まりつつある。 このようなレーザーはスペクトルの可視領域に非常に特
徴的な強い波長を一般的に持っている。光重合反応の効
率は光重合開始剤によって吸収される光の吊に依存する
ので、それぞれの用途に使用される光源の強度波長にな
るべく近く位置するように吸収分子の4!4造を操作で
きることは非常に望ましいことである。例えば、一般的
な用途で、金属ハロゲン化物を添加した水銀灯を用いる
場合などに関しては400nnに中心を有する広範な吸
収バンドを持つような光重合開始剤をつくることか望ま
しく、他方レーザーを用いる場合はむしろ狭い特性的な
ピーク吸収を持つような光重合開始剤が望ましい。上記
の水溶性光重合開始剤は何れもこのような操作は不可能
であ、る。 本発明は、水溶性であると同時に露光時に使用される励
起光の放射波長とできるだけ近い波長に光吸収特性を有
する光重合開始剤を得ることを目的とする。 K問題点を解決するための手段】 本発明の水性光重合性組成物は、(i)少なくとも1個
のエチレン性不飽和結合を有する重合性化合物及び(1
1)光重合開始剤より成り、該光重合開始剤が下記一般
式で表わされる化合物であり、○ 式中、R及びR2は同一であっても異なってちよく、そ
れぞれが水XA原了或いはアルキル基、または同様にし
てR1及びR2は脂肪族環であり、口は零或いは整数、
R3及びR4は同一であっても異なってもよく、それぞ
れが下記より選は′れた水溶化基であって、 + 5 (a)−X(C112)mN R3゜(b)−X(C
I−12>mCoo M(c)−X(CH2)mS0
3 M、5i3!いは(d>−NR252基、 上記においてXは−CH2−、−0−、!いは−8−を
表し、R5はアルキル基であり、MはH 或いは金属
陽イオンであり、mは零或いは1〜6の整数であり、R
3とR4の何れかが−NR2である場合は、RとR以外
の基は水溶化基 (a)、 (b)、 (c)から選択
されるものであることを特徴とする水性光重合性組成物
である。 更に、本発明の水溶性光反応開始剤は、下記一般式で表
わされる化合物であり、 式中、R1及びR2は同一であっても異なってもよく、
それぞれは水累原了或いはアルキル基であり、または同
様にしてR及びR2は脂肪族環であり、nは零或いは整
数、R3及びR4は同一であっても異なってもよく、そ
れぞれが下記より選ばれた基であって、 + 5 (a ) X (CH2) m N R3゜(b)
−X (CH2)mCOO− M(c)−X (CH
2)mSO3 M(d)−NR2基 上記においてXは−CH2−、−0−、−8−を表わし
R5はアルキル基、MはH+或いは金属陽イオンであ
り、mは零或いは1〜6の整数であり、R1= R2=
水素で且つn=Qである場合にはR3及びR4の両方が
オルト−(CI−1、−CI−12Cool)であった
り、或いは両方がパラ−(O−0M2 C00H)であ
ることはなく、またR3及びR4の一方が(d)である
場合はR3及びR4の他の一方は(a)。 fb)、 (C)及びそれら化合物の金F4塩から選ば
れでいるもの である。 このように、上記の一般式において、R3が(a)、
(b)、 (c)から遣ばれた水溶化基である場合はR
4は−NR52か上記の(a)、 (b)、 (C)の
何れかであり、R4が上記の(a)、 (b)、 (c
)から選ばれた水溶化基である場合はRは−NRか上記
の(a)、 (b)、 (c)の何れかである。 以上の新規な光重合開始剤は製造が容易であり、はとん
どの場合容易に入手可能な出発物質から製造することが
できる。吸収特性は共役的分子鎖(“’n”)の長さを
変えることによって変化させることが可能であり、通常
の紫外線光源の波長に適合させることができる。即ち、
分子鎖長を長くすればλmaxは可視光スペクトル中を
長波長側へ変化する。 この化合物は高い光効率を有し、重合性のエチレン性不
飽和化合物に対して0.1〜10重量%用いればよい。 この光重合開始剤と組み合わせて使用できる不飽和化合
物としては、アクリルアミド。 N−メチロールアクリルアミド、N−ビニル−ピロリド
ン、ジアセ1−ンーアクリルアミド、メチレン−ビス−
アクリルアミド、ビス−アクリルアミド醋酸などを挙げ
ることができる。適当な、水溶性結合剤としては、ポリ
ビニルアルコール、ゼラチン、カゼイン、ヒドロキシエ
チルセルロ−スドロキシプロピルセルローズ、ポリビニ
ルピロリドン、カルボキシメチルセルローズ ことができる。 最終的につくられる像を目で見やすくするために顔料を
加えたり、カオリン、シリカ、酸化チタンなどの充填材
、ポリ醋酸ビニル分散液のような分散液、塗膜の柔軟性
を向上するための湿潤剤或いは可塑剤などを添加しても
よい。 紫外線は自然光を含むどのような光源のものを用いても
よいが、この重合開始剤はドーピングした水銀灯,レー
ザー光源に特に適している。 上記システムを用いて形成したレジスト像は、レジス1
−.ステ〉・シル、レリーフ象を必要とするどのような
写真或いは写真製版工程、例えば印刷版、銘板、ダイア
ル、回路パターン用レジストのエツチング、シルクスク
リーン用ステンシル製造のためのレジストのエツチング
などにも使用することができる。この重合開始剤は紫外
線照射によって硬化する水含有印刷インキの中に添加し
て使用することもできる。 K実 施 例】 この発明の化合物は、2モルの置換したベンズアルデヒ
ドと1モルのケトンとのjW%触媒を使用した縮合反応
によって容易に合成することができる。下記において実
施例の1から5は本発明の化合物の製造法を示すもので
あり、実施例6は化合物の用途と公知の光反応開始剤と
比較した本発明の組成物を示すものである。 実施例1 2.2′ −ジカルボキシメトキシジベンザールアセト
ンジナトリウムm(I)の合成 11E7. 0.1モルの2−ホルミルフェノキシ醋酸
を90gの渇エタノールに溶解し、6g、 0.15
モルのカセイソーダを10Jの水に溶解した液を加えた
。 攪拌しながら3g、 0.05モルのアセトンを加え
た。5分後に生成物が沈澱しはじめた。反応混合物をそ
のまま4時間放置し、生成物を濾過し、エタノールでポ
ンプを使用して洗浄した。収率は90%であった。生成
物Iは次のような構造を有する。 (一般式におけるR1=R2=ll、n=o、X=0、
m=o、M=Na) 実施例2 アセトンの代りに5g、 0.05モルのシクロヘキ
サノンを用い実施例1に記載と同様の方法で対応するジ
ベンザールシクロヘキサノン(R1及び1又 は共に−
(C112)4−である)を収率80%で青た。 (n) 実施例3 1gg、 0.1モルの4−ホルミルフェノキシ醋酸
を、907のアセトンと10ヒの水に5g、0105モ
ルのシクロヘキサノンと69. 0.15モルのカセイ
ソーダを溶解した溶液で処理した。5分後に生成物([
>が沈澱し、濾過し、エタノールで洗浄した。 収率は90%であった。 (I[l) 実施例4 1.8g、 0.01モルの4−ホルミルフェノキシ
醋酸を、10gのエタノール及び5gの水に溶解した0
、6gのカセイソーダの存在下でeg、 o、iモル
(10モル過剰)のアセトンで処理した。カルボキシメ
トキシベンジリデンアセトンナトリウム塩が沈澱し、濾
別した。1.5び、 0.01モルのジメチルアミノ
ベンズアルデヒドを含む10gのメタノールに生成物を
溶解し、59の水に0.2gのカセイソーダを溶解した
水溶液を加えた。混合物を還流しながら3時間加熱し、
放冷した。反応混合液を一夜放置して生成物を析出させ
、濾別し、少量のメタノールで洗浄した。収率30%。 (IV ) 実施例5 4.4′ −ジスルホキシエ1〜キシジベンザールア2
.4!7. 0.02モルの11−ヒドロキシベンズア
ルデヒドを5!7のエタノールに溶解し、0.8gのカ
セイソーダを5gの水に溶解した水溶液を加えた。 放置すると4−ヒドロキシベンズアルデヒドのナトリウ
ム塩が晶出した。これを濾過して集めエタノールで洗浄
した。 この塩と、4.29 、 0.02モルのブロムエタン
スルボン酸ナトリウムとを共に20jJのメタノールに
溶解した。混合物を沸騰する迄加熱し、メタノールを徐
々にプロピレングリコールメチルエステル(Dow C
hemicals社製、登録商標Dowanol PH
)に置換した。10分後に臭化ナトリウムが完全に沈澱
し、溶液は深紅色でなくなった。臭化ナトリウムを濾過
によって除去し、濾液を冷却すると4−ホルミルフェノ
キシ−エタンスルホン酸ナトリウムが生成した。これを
濾過し、洗浄し、乾燥して、10gの熱エタノールに溶
解した。0.2gのカセイソーダを5!7の水に溶解し
た水溶液を加え、続いて0.6g、 0.01 Eル
のアビ1−ンを添加した。混合物を)!流しながら20
分間加熱し、放冷した。−夜装置すると生成物(V)が
晶出し、これを濾過し、エタノールで洗浄し乾燥した。 収率20%であった。 (V) 次表に実施例1〜5に記載のようにして製造した化合物
の物理的、化学的特性の詳細を示した。 以下余白 本 当該高度で分解 実施例6 (a)実施例1〜5の化合物のフリーラジカルによる光
重合開始能力を標準処方で試験した。更に、公知の化合
物である4、4′ −ジカルボキシメトキシベンザール
アセトンジナトリウム塩(VT>に基〈発明の組成物も
試験した。該化合物(VI)の光感応性は、従来報告さ
れていなかった。比□較のために次の市販のチオキサン
トン系光重合開始剤も含めて試験を行った。 (Vl) Ward BIenkinSOp&CO,Ltd H,
li録商標Quantacure )スルホプロピオキ
シチオアンドンナトリウム塩(1484718) (b)標準処方 フィルム形成体:26/88ポリビニルアルコ一ル15
%水溶液・・・100g モノマー:ラーン(Rahn)水溶性二官能性オリゴマ
ー85−578/ 79・・・7g 顔 料:ユニスパース バイオレット (Unisperse Violet)・0.2g協力
剤ニトリエタノールアミン・・・1.5g光反応開始剤
: ・・・0.15 gfflI19をポリ
エステルベース上に形成した。そのポリエステルベース
は予めゼラチンで下塗りしたものである。塗膜の塗布は
5rRnの200”の巻線バーを用い、乾燥塗膜の厚さ
が40μmとなるように塗布した。 (C) 5kwの金属塩化物をドーピングした水銀灯
を用い、コダック(にodak) 製0.15インクレ
メントステップウェッジ及びオートタイプ(八utot
ype)W露光計算器を・用いて露光を行なった。31
35nnで測定した露光強度は30m、J/cmてあっ
た。 流水て現像した後、コダックステップウエッジで見える
段数は次の通りであった。 光反応開始剤 見える段数 ■0 ■4 IV 8 V 16 Vl 17 QTX 12
光重合性組成物に関する。更に詳しくは紫外線露光後に
水だけを用いて処理することのできる光重合性組成物に
関する。 K従来の技術】 不飽和化合物の光重合は公知の技術であって、石版印刷
及び活字印刷の印刷版、スクリーン印刷のステンシル、
エツチングレジスト、紫外at化インキ、上塗りラッカ
ー、フィルムの耐摩耗及び傷つき防止塗膜などの製造に
広く使用されている。 このように広く使用されている材料の化学的組成は、ビ
ニル或いはアクリル基などの二重結合を有する化合物を
有する。これらの化合物は適当な光重合開始剤に紫外線
を照射することによって生じるフリーラジカルによって
重合が引き起こされる。これらの目的のために通常用い
られる光重合開始剤としては、ベンシール、ベンゾイン
、ベンゾインエーテル類、ベンゾフェノン、ミツシェラ
−(旧chler)のケトンのような置換されたベンゾ
フェノン類、チオキサントン及び@換されたチオキサン
トン類、及びアセトフェノン及び置換されたアセトフェ
ノン類が挙げられる。写真像が処理によって再生される
場合、即ち写真のネガ或いはポジを通して感光性塗膜を
露光し、それによって光を照射した部分だけ重合によっ
て硬化させるような使い方の場合は、必ず露光の後に現
像の段階が必要である。この現象処理においては塗膜の
硬化していない部分を適当な溶媒で溶解除去する。 露光した後、簡単に水或いはアルカリ水溶液で処理する
ことによって現像することのできる光重合システム、即
ちそれによって可燃性或いは有害な溶媒を使用しないで
済み、且つ処理工程のコストを減らすことのできる光重
合システムに対する関心が高まりつつある。 K発明が解決しようとする問題点】 光重合工程の効率を最適化するためには、゛光重合開始
剤、不飽和化合物、接着剤の全てが水に可溶であること
が望ましい。残念ながら、上記の市販の光重合開始剤は
水溶性ではない。疎水性モノマーと光重合開始剤の混合
物を水に分散させて、塗布する前に水性コロイド溶液と
する方法によってそれらを使用する試みはあまり成功し
ていない。 即ち、コロイド状になると結合剤が光反応の段階で適切
に1q割りを果さなくなる。このようなことから硬化の
効率が低下し、長時間の露光時間を要するばかりて゛な
く、形成される像の質も劣ったものとなる。上記の従来
使用されている光重合開始剤の水溶性誘導体、例えば、
4−(スルホメチル)ベンゾフェノンナトリウム、4−
スルホメチルベンシールナトリウム、及び2−(3−ス
ルホプロポキシ)チオキサントンナトリウム等の英国特
許第2.108.487号明細古に記載されているよう
なものが数多く知られている。しかしこれらは、一般に
合成経路が複雑であり、以下に述べるように吸収特性に
欠点があり、受は入れ難いものである。 水溶性と同様に光重合開始剤の光吸収特性は重要である
。光重合の効率を最適にするためには光重合開始剤の吸
収は励起光の放射波長とできるだけ近いことが必要であ
る。使用される紫外線の光源は一般には水虫対であり、
更に通常は金属ハロゲン化物を添加した水銀灯である。 水銀灯は365niの所に最大強度を持っている。゛水
銀灯に金属ハOグン化物を添加するとスベク1〜ル、腺
の故が増大し、特に長波長部分の光の割合いが増大する
。多くの水銀灯において400〜420n11の所に強
い光強度を示すのは極く一般的である。 このことは幾つかの理由によって望ましいことである。 即ち、長波長の光は事故によって光に曝された場合に生
理的な有害性が低く、また露光装置のガラス、或いは感
光性エマルジョンの塗布ペースとしてよく使用されるフ
ィルムベースに短波長光は吸収されやすく、他方長波長
光は透過力が高く、厚さの厚いレジストでも適切に露光
することができる。更に、特にマイクロエレクトロニツ
クス工業の分野においてフォトレジスト材料の露光にレ
ーザーを使用することに対して関心が高まりつつある。 このようなレーザーはスペクトルの可視領域に非常に特
徴的な強い波長を一般的に持っている。光重合反応の効
率は光重合開始剤によって吸収される光の吊に依存する
ので、それぞれの用途に使用される光源の強度波長にな
るべく近く位置するように吸収分子の4!4造を操作で
きることは非常に望ましいことである。例えば、一般的
な用途で、金属ハロゲン化物を添加した水銀灯を用いる
場合などに関しては400nnに中心を有する広範な吸
収バンドを持つような光重合開始剤をつくることか望ま
しく、他方レーザーを用いる場合はむしろ狭い特性的な
ピーク吸収を持つような光重合開始剤が望ましい。上記
の水溶性光重合開始剤は何れもこのような操作は不可能
であ、る。 本発明は、水溶性であると同時に露光時に使用される励
起光の放射波長とできるだけ近い波長に光吸収特性を有
する光重合開始剤を得ることを目的とする。 K問題点を解決するための手段】 本発明の水性光重合性組成物は、(i)少なくとも1個
のエチレン性不飽和結合を有する重合性化合物及び(1
1)光重合開始剤より成り、該光重合開始剤が下記一般
式で表わされる化合物であり、○ 式中、R及びR2は同一であっても異なってちよく、そ
れぞれが水XA原了或いはアルキル基、または同様にし
てR1及びR2は脂肪族環であり、口は零或いは整数、
R3及びR4は同一であっても異なってもよく、それぞ
れが下記より選は′れた水溶化基であって、 + 5 (a)−X(C112)mN R3゜(b)−X(C
I−12>mCoo M(c)−X(CH2)mS0
3 M、5i3!いは(d>−NR252基、 上記においてXは−CH2−、−0−、!いは−8−を
表し、R5はアルキル基であり、MはH 或いは金属
陽イオンであり、mは零或いは1〜6の整数であり、R
3とR4の何れかが−NR2である場合は、RとR以外
の基は水溶化基 (a)、 (b)、 (c)から選択
されるものであることを特徴とする水性光重合性組成物
である。 更に、本発明の水溶性光反応開始剤は、下記一般式で表
わされる化合物であり、 式中、R1及びR2は同一であっても異なってもよく、
それぞれは水累原了或いはアルキル基であり、または同
様にしてR及びR2は脂肪族環であり、nは零或いは整
数、R3及びR4は同一であっても異なってもよく、そ
れぞれが下記より選ばれた基であって、 + 5 (a ) X (CH2) m N R3゜(b)
−X (CH2)mCOO− M(c)−X (CH
2)mSO3 M(d)−NR2基 上記においてXは−CH2−、−0−、−8−を表わし
R5はアルキル基、MはH+或いは金属陽イオンであ
り、mは零或いは1〜6の整数であり、R1= R2=
水素で且つn=Qである場合にはR3及びR4の両方が
オルト−(CI−1、−CI−12Cool)であった
り、或いは両方がパラ−(O−0M2 C00H)であ
ることはなく、またR3及びR4の一方が(d)である
場合はR3及びR4の他の一方は(a)。 fb)、 (C)及びそれら化合物の金F4塩から選ば
れでいるもの である。 このように、上記の一般式において、R3が(a)、
(b)、 (c)から遣ばれた水溶化基である場合はR
4は−NR52か上記の(a)、 (b)、 (C)の
何れかであり、R4が上記の(a)、 (b)、 (c
)から選ばれた水溶化基である場合はRは−NRか上記
の(a)、 (b)、 (c)の何れかである。 以上の新規な光重合開始剤は製造が容易であり、はとん
どの場合容易に入手可能な出発物質から製造することが
できる。吸収特性は共役的分子鎖(“’n”)の長さを
変えることによって変化させることが可能であり、通常
の紫外線光源の波長に適合させることができる。即ち、
分子鎖長を長くすればλmaxは可視光スペクトル中を
長波長側へ変化する。 この化合物は高い光効率を有し、重合性のエチレン性不
飽和化合物に対して0.1〜10重量%用いればよい。 この光重合開始剤と組み合わせて使用できる不飽和化合
物としては、アクリルアミド。 N−メチロールアクリルアミド、N−ビニル−ピロリド
ン、ジアセ1−ンーアクリルアミド、メチレン−ビス−
アクリルアミド、ビス−アクリルアミド醋酸などを挙げ
ることができる。適当な、水溶性結合剤としては、ポリ
ビニルアルコール、ゼラチン、カゼイン、ヒドロキシエ
チルセルロ−スドロキシプロピルセルローズ、ポリビニ
ルピロリドン、カルボキシメチルセルローズ ことができる。 最終的につくられる像を目で見やすくするために顔料を
加えたり、カオリン、シリカ、酸化チタンなどの充填材
、ポリ醋酸ビニル分散液のような分散液、塗膜の柔軟性
を向上するための湿潤剤或いは可塑剤などを添加しても
よい。 紫外線は自然光を含むどのような光源のものを用いても
よいが、この重合開始剤はドーピングした水銀灯,レー
ザー光源に特に適している。 上記システムを用いて形成したレジスト像は、レジス1
−.ステ〉・シル、レリーフ象を必要とするどのような
写真或いは写真製版工程、例えば印刷版、銘板、ダイア
ル、回路パターン用レジストのエツチング、シルクスク
リーン用ステンシル製造のためのレジストのエツチング
などにも使用することができる。この重合開始剤は紫外
線照射によって硬化する水含有印刷インキの中に添加し
て使用することもできる。 K実 施 例】 この発明の化合物は、2モルの置換したベンズアルデヒ
ドと1モルのケトンとのjW%触媒を使用した縮合反応
によって容易に合成することができる。下記において実
施例の1から5は本発明の化合物の製造法を示すもので
あり、実施例6は化合物の用途と公知の光反応開始剤と
比較した本発明の組成物を示すものである。 実施例1 2.2′ −ジカルボキシメトキシジベンザールアセト
ンジナトリウムm(I)の合成 11E7. 0.1モルの2−ホルミルフェノキシ醋酸
を90gの渇エタノールに溶解し、6g、 0.15
モルのカセイソーダを10Jの水に溶解した液を加えた
。 攪拌しながら3g、 0.05モルのアセトンを加え
た。5分後に生成物が沈澱しはじめた。反応混合物をそ
のまま4時間放置し、生成物を濾過し、エタノールでポ
ンプを使用して洗浄した。収率は90%であった。生成
物Iは次のような構造を有する。 (一般式におけるR1=R2=ll、n=o、X=0、
m=o、M=Na) 実施例2 アセトンの代りに5g、 0.05モルのシクロヘキ
サノンを用い実施例1に記載と同様の方法で対応するジ
ベンザールシクロヘキサノン(R1及び1又 は共に−
(C112)4−である)を収率80%で青た。 (n) 実施例3 1gg、 0.1モルの4−ホルミルフェノキシ醋酸
を、907のアセトンと10ヒの水に5g、0105モ
ルのシクロヘキサノンと69. 0.15モルのカセイ
ソーダを溶解した溶液で処理した。5分後に生成物([
>が沈澱し、濾過し、エタノールで洗浄した。 収率は90%であった。 (I[l) 実施例4 1.8g、 0.01モルの4−ホルミルフェノキシ
醋酸を、10gのエタノール及び5gの水に溶解した0
、6gのカセイソーダの存在下でeg、 o、iモル
(10モル過剰)のアセトンで処理した。カルボキシメ
トキシベンジリデンアセトンナトリウム塩が沈澱し、濾
別した。1.5び、 0.01モルのジメチルアミノ
ベンズアルデヒドを含む10gのメタノールに生成物を
溶解し、59の水に0.2gのカセイソーダを溶解した
水溶液を加えた。混合物を還流しながら3時間加熱し、
放冷した。反応混合液を一夜放置して生成物を析出させ
、濾別し、少量のメタノールで洗浄した。収率30%。 (IV ) 実施例5 4.4′ −ジスルホキシエ1〜キシジベンザールア2
.4!7. 0.02モルの11−ヒドロキシベンズア
ルデヒドを5!7のエタノールに溶解し、0.8gのカ
セイソーダを5gの水に溶解した水溶液を加えた。 放置すると4−ヒドロキシベンズアルデヒドのナトリウ
ム塩が晶出した。これを濾過して集めエタノールで洗浄
した。 この塩と、4.29 、 0.02モルのブロムエタン
スルボン酸ナトリウムとを共に20jJのメタノールに
溶解した。混合物を沸騰する迄加熱し、メタノールを徐
々にプロピレングリコールメチルエステル(Dow C
hemicals社製、登録商標Dowanol PH
)に置換した。10分後に臭化ナトリウムが完全に沈澱
し、溶液は深紅色でなくなった。臭化ナトリウムを濾過
によって除去し、濾液を冷却すると4−ホルミルフェノ
キシ−エタンスルホン酸ナトリウムが生成した。これを
濾過し、洗浄し、乾燥して、10gの熱エタノールに溶
解した。0.2gのカセイソーダを5!7の水に溶解し
た水溶液を加え、続いて0.6g、 0.01 Eル
のアビ1−ンを添加した。混合物を)!流しながら20
分間加熱し、放冷した。−夜装置すると生成物(V)が
晶出し、これを濾過し、エタノールで洗浄し乾燥した。 収率20%であった。 (V) 次表に実施例1〜5に記載のようにして製造した化合物
の物理的、化学的特性の詳細を示した。 以下余白 本 当該高度で分解 実施例6 (a)実施例1〜5の化合物のフリーラジカルによる光
重合開始能力を標準処方で試験した。更に、公知の化合
物である4、4′ −ジカルボキシメトキシベンザール
アセトンジナトリウム塩(VT>に基〈発明の組成物も
試験した。該化合物(VI)の光感応性は、従来報告さ
れていなかった。比□較のために次の市販のチオキサン
トン系光重合開始剤も含めて試験を行った。 (Vl) Ward BIenkinSOp&CO,Ltd H,
li録商標Quantacure )スルホプロピオキ
シチオアンドンナトリウム塩(1484718) (b)標準処方 フィルム形成体:26/88ポリビニルアルコ一ル15
%水溶液・・・100g モノマー:ラーン(Rahn)水溶性二官能性オリゴマ
ー85−578/ 79・・・7g 顔 料:ユニスパース バイオレット (Unisperse Violet)・0.2g協力
剤ニトリエタノールアミン・・・1.5g光反応開始剤
: ・・・0.15 gfflI19をポリ
エステルベース上に形成した。そのポリエステルベース
は予めゼラチンで下塗りしたものである。塗膜の塗布は
5rRnの200”の巻線バーを用い、乾燥塗膜の厚さ
が40μmとなるように塗布した。 (C) 5kwの金属塩化物をドーピングした水銀灯
を用い、コダック(にodak) 製0.15インクレ
メントステップウェッジ及びオートタイプ(八utot
ype)W露光計算器を・用いて露光を行なった。31
35nnで測定した露光強度は30m、J/cmてあっ
た。 流水て現像した後、コダックステップウエッジで見える
段数は次の通りであった。 光反応開始剤 見える段数 ■0 ■4 IV 8 V 16 Vl 17 QTX 12
本発明の光重合開始剤は新規な化合物であって、製造が
容易であり、原料も入手の容易なものを使用する。しか
も、本発明の光重合開始剤は、該物質の光吸収特性を、
共役的分子偵の長さを変えることによって変化させるこ
とが可能であるので、通常の、又は好ましい紫外線光源
の波長に適合させることかできる。この化合物は、実施
例に記載のように高い光効率を有し、重合性の不飽和化
合物と組み合せて使用することによって印刷版、ステン
シル、エッチングレジス+−、g外at化インキ、ラッ
カー等に使用できる組成物を得る。この組成物は紫外線
露光後に水だけを用いて処理することができるので、後
処理工程のコスト軽減等にきわめて好ましいものである
。
容易であり、原料も入手の容易なものを使用する。しか
も、本発明の光重合開始剤は、該物質の光吸収特性を、
共役的分子偵の長さを変えることによって変化させるこ
とが可能であるので、通常の、又は好ましい紫外線光源
の波長に適合させることかできる。この化合物は、実施
例に記載のように高い光効率を有し、重合性の不飽和化
合物と組み合せて使用することによって印刷版、ステン
シル、エッチングレジス+−、g外at化インキ、ラッ
カー等に使用できる組成物を得る。この組成物は紫外線
露光後に水だけを用いて処理することができるので、後
処理工程のコスト軽減等にきわめて好ましいものである
。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼(A) 式中、R^1及びR^2は同一であっても異なってもよ
く、それぞれは水素原子或いはアルキル基であり、また
は同様にしてR^1及びR^2は脂肪族環であり、nは
零或いは整数、R^3及びR^4は同一であっても異な
ってもよく、それぞれが下記より選ばれた基であって、 (a)−X(CH_2)mN^+R^5_3、(b)−
X(CH_2)mCOO^−M (c)−X(CH_2)mSO_3^−M (d)−NR^5_2基 上記においてXは−CH_2−、−O−、或いは−S−
を表わし、R^5はアルキル基、MはH+或いは金属陽
イオンであり、mは零或いは1〜6の整数であり、R^
1=R^2=水素でかつn=0である場合にはR^3及
びR^4の両方がオルト−(CH_2、−CH_2CO
OH)であったり、或いは両方がパラ−(O−CH_2
COOH)であることはなく、またR^3及びR^4の
一方が(d)である場合はR^3及びR^4の他の一方
は(a)、(b)、(c)及びそれらの金属塩から選ば
れている、 を有することを特徴とする、光によって反応する光重合
開始剤として有用な化合物。 2、一般式(A)を有する化合物が2,2′−ジカルボ
キシメトキシジベンザールアセトン及びその塩である特
許請求の範囲第1項に記載の化合物。 3、一般式(A)を有する化合物が2,2′−ジカルボ
キシメトキシジベンザールシクロヘキサノン及びその塩
である特許請求の範囲第1項に記載の化合物。 4、一般式(A)を有する化合物が4,4′−ジカルボ
キシメトキシジベンザールシクロヘキサノン及びその塩
である特許請求の範囲第1項に記載の化合物。 5、一般式(A)を有する化合物が4−ジメチルアミノ
−4′−カルボキシメトキシジベンザールアセトン及び
その塩である特許請求の範囲第1項に記載の化合物。 6、一般式(A)を有する化合物が4,4′−ジスルホ
キシエトキシジベンザールアセトン及びその塩である特
許請求の範囲第1項に記載の化合物。 7、(i)少なくとも1個のエチレン性不飽和結合を有
する重合性化合物及び(ii)光重合開始剤より成り、
該光重合開始剤が下記一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼(A) 式中、R^1及びR^2は同一であっても異なってもよ
く、それぞれが水素原子或いはアルキル基、または同様
にしてR^1及びR^2は脂肪族環であり、nは零或い
は整数、R^3及びR^4は同一であっても異なっても
よく、それぞれが下記より選ばれた水溶化基であって、 (a)−X(CH_2)mN+R^5_3、(b)−X
(CH_2)mCOO^−M (c)−X(CH_2)mSO_3^−M或いは(d)
−NR^5_2基、 上記においてXは−CH_2−、−O−、或いは−S−
を表わし、R^5はアルキル基であり、MはH^+或い
は金属陽イオンであり、mは零或いは1〜6の整数であ
り、R^3とR^4の何れかが−NR^5_2である場
合は、R^3とR^4以外の基は水溶化基(a)、(b
)、(c)から選択される、で表わされる化合物である
ことを特徴とする水性光重合性組成物。 8、光重合開始剤が、2,2′−ジカルボキシメトキシ
ジベンザールアセトン、2,2′−ジカルボキシメトキ
シジベンザールシクロヘキサノン、4,4′−ジカルボ
キシメトキシジベンザールアセトン、4,4′−ジカル
ボキシメトキシジベンザールシクロヘキサノン、4−ジ
メチルアミノ−4′−カルボキシメトキシジベンザール
アセトン、4,4′−ジスルホキシエトキシジベンザー
ルアセトン及びそれらの塩から選ばれたものであること
を特徴とする特許請求の範囲第7項に記載の水性光重合
性組成物。 9、少なくとも1個のエチレン性不飽和結合を有する重
合性化合物が、水溶性コロイドを形成して溶解或いは分
散されてなるエチレン性不飽和モノマーよりなり、特許
請求の範囲第7項に定義した一般式(A)を有する光重
合開始剤を含有する、ポリマーレジスト像の製造に使用
する感光性組成物であることを特徴とする特許請求の範
囲第7項に記載の水性光重合性組成物。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GB8525027 | 1985-10-10 | ||
GB858525027A GB8525027D0 (en) | 1985-10-10 | 1985-10-10 | Water soluble photoinitiators |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62143902A true JPS62143902A (ja) | 1987-06-27 |
Family
ID=10586493
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61241200A Pending JPS62143902A (ja) | 1985-10-10 | 1986-10-09 | 水溶性光重合開始剤 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4824765A (ja) |
EP (1) | EP0223373B1 (ja) |
JP (1) | JPS62143902A (ja) |
AU (1) | AU594089B2 (ja) |
DE (2) | DE3670494D1 (ja) |
GB (1) | GB8525027D0 (ja) |
Families Citing this family (52)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2538992B2 (ja) * | 1987-07-21 | 1996-10-02 | 三菱化学株式会社 | 光重合性組成物 |
DE3743455A1 (de) * | 1987-12-22 | 1989-07-06 | Hoechst Ag | Photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial |
DE3743454A1 (de) * | 1987-12-22 | 1989-07-06 | Hoechst Ag | Photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial |
US4917977A (en) * | 1988-12-23 | 1990-04-17 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Visible sensitizers for photopolymerizable compositions |
US5515822A (en) * | 1994-05-19 | 1996-05-14 | Yamaha Hatsudoki Kabushiki Kaisha | Intake system |
US5912106A (en) * | 1996-09-10 | 1999-06-15 | Ciba Specialty Chemicals Corporation | Method for improving photoimage quality |
US6689308B2 (en) | 1998-12-21 | 2004-02-10 | Corning Incorporated | Method for making display panels with opaque rib structures |
US8119041B2 (en) * | 2001-09-05 | 2012-02-21 | Fujifilm Corporation | Non-resonant two-photon absorption induction method and process for emitting light thereby |
US20050056954A1 (en) * | 2003-09-12 | 2005-03-17 | Devlin Brian Gerrard | Method for making contact lenses |
WO2007057346A2 (en) * | 2005-11-18 | 2007-05-24 | Agfa Graphics Nv | Method of making a lithographic printing plate |
ES2322908T3 (es) * | 2005-11-18 | 2009-07-01 | Agfa Graphics N.V. | Metodo de fabricacion de una plancha de impresion litografica. |
US8436197B2 (en) * | 2007-10-25 | 2013-05-07 | West Chester University Of Pennsylvania Of The State System Of Higher Education | Palladium complexes and polymerization and coupling processes thereof |
US8629192B2 (en) | 2009-12-30 | 2014-01-14 | The Procter And Gamble Company | Method for the production of high internal phase emulsion foams using ultraviolet light |
US20120108692A1 (en) | 2010-10-27 | 2012-05-03 | John Collins Dyer | Preparation of foam materials derived from renewable resources |
US9481777B2 (en) | 2012-03-30 | 2016-11-01 | The Procter & Gamble Company | Method of dewatering in a continuous high internal phase emulsion foam forming process |
CN106456410B (zh) | 2014-05-05 | 2020-05-19 | 宝洁公司 | 包含泡沫的异质块体 |
US20150335498A1 (en) | 2014-05-22 | 2015-11-26 | The Procter & Gamble Company | Heterogenous mass containing foam |
WO2015184261A1 (en) | 2014-05-30 | 2015-12-03 | The Procter & Gamble Company | Customizable apparatus and method for transporting and depositing fluids |
EP2959967A1 (en) | 2014-06-27 | 2015-12-30 | The Procter and Gamble Company | High internal phase emulision foam associated with polyurethane foam |
US20150374561A1 (en) | 2014-06-27 | 2015-12-31 | The Procter & Gamble Company | Heterogeneous mass containing foam |
EP2959922B1 (en) | 2014-06-27 | 2019-03-20 | The Procter and Gamble Company | Open cell foam containing a second open cell foam |
EP3277881B1 (en) | 2015-03-31 | 2021-02-24 | The Procter and Gamble Company | Heterogeneous mass containing foam |
US11173070B2 (en) | 2015-04-28 | 2021-11-16 | The Procter & Gamble Company | Heterogeneous foam materials having a graphic printed thereon |
US10016779B2 (en) | 2015-06-29 | 2018-07-10 | The Procter & Gamble Company | Customizable apparatus and method for transporting and depositing fluids |
MX2018002153A (es) | 2015-08-21 | 2018-06-18 | Procter & Gamble | Almohadilla femenina con dobleces de barrera. |
CN108348385B (zh) | 2015-11-04 | 2021-06-15 | 宝洁公司 | 吸收结构 |
WO2017079583A1 (en) | 2015-11-04 | 2017-05-11 | The Procter & Gamble Company | Thin and flexible absorbent articles |
EP3370664B1 (en) | 2015-11-04 | 2022-01-26 | The Procter & Gamble Company | Absorbent article comprising an absorbent structure |
EP3370673B1 (en) | 2015-11-04 | 2022-03-30 | The Procter & Gamble Company | Absorbent structure |
US20170119600A1 (en) | 2015-11-04 | 2017-05-04 | The Procter & Gamble Company | Absorbent structure |
WO2017079586A1 (en) | 2015-11-04 | 2017-05-11 | The Procter & Gamble Company | Absorbent structure |
EP3370670B1 (en) | 2015-11-04 | 2022-03-30 | The Procter & Gamble Company | Foam absorbent core structure comprising heterogeneous mass |
US20170119589A1 (en) | 2015-11-04 | 2017-05-04 | The Procter & Gamble Company | Thin and flexible absorbent articles |
US20170119596A1 (en) | 2015-11-04 | 2017-05-04 | The Procter & Gamble Company | Thin and flexible absorbent articles |
US11814496B2 (en) | 2016-03-21 | 2023-11-14 | The Procter And Gamble Company | High internal phase emulsion foam having cellulose nanoparticles |
EP3451993B1 (en) | 2016-05-05 | 2020-11-04 | The Procter and Gamble Company | Topsheets integrated with heterogenous mass layer |
US11369524B2 (en) | 2016-12-21 | 2022-06-28 | The Procter & Gamble Company | Absorbent structure |
US20180169832A1 (en) | 2016-12-21 | 2018-06-21 | The Procter & Gamble Company | Method for etching an absorbent structure |
WO2018204613A1 (en) | 2017-05-03 | 2018-11-08 | The Procter & Gamble Company | Absorbent article having multiple zones |
EP3706697B1 (en) | 2017-11-06 | 2023-11-08 | The Procter & Gamble Company | Structure having nodes and struts |
US20190193053A1 (en) | 2017-12-26 | 2019-06-27 | The Procter & Gamble Company | Fluid etched foam |
EP3810057A1 (en) | 2018-06-19 | 2021-04-28 | The Procter & Gamble Company | Absorbent article with function-formed topsheet, and method for manufacturing |
CN113164309B (zh) | 2018-12-10 | 2022-06-24 | 宝洁公司 | 用于吸收制品的粘附 |
EP3914211B1 (en) | 2019-01-23 | 2023-01-18 | The Procter & Gamble Company | Packaged feminine hygiene pad product adapted for discreet carry and access, and manufacturing process |
JP2022519607A (ja) | 2019-02-13 | 2022-03-24 | ザ プロクター アンド ギャンブル カンパニー | 改善された皮膚感触及び不明瞭化性能を有する親水性不織布トップシートを備えた女性用衛生パッド |
EP3923881A1 (en) | 2019-02-13 | 2021-12-22 | The Procter & Gamble Company | Feminine hygiene pad with nonwoven topsheet having enhanced skin feel |
CN114025729A (zh) | 2019-06-19 | 2022-02-08 | 宝洁公司 | 具有功能成形的顶片的吸收制品及制造方法 |
JP2022535606A (ja) | 2019-06-19 | 2022-08-09 | ザ プロクター アンド ギャンブル カンパニー | 機能形成されたトップシートを有する吸収性物品、及び製造方法 |
WO2021022547A1 (en) | 2019-08-08 | 2021-02-11 | The Procter & Gamble Company | Feminine hygiene pad and method for isolating microorganisms from a wearer's skin |
EP4171669A1 (en) | 2020-06-26 | 2023-05-03 | The Procter & Gamble Company | Absorbent articles including hipe foam enhanced with clay nanoplatelets, and method of manufacture |
US20240115436A1 (en) | 2022-10-10 | 2024-04-11 | The Procter & Gamble Company | Feminine hygiene pad with foam absorbent and reservoir spacer layer |
WO2024107669A1 (en) | 2022-11-14 | 2024-05-23 | The Procter & Gamble Company | Body-conformable absorbent article |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5365381A (en) * | 1976-11-22 | 1978-06-10 | Fuji Photo Film Co Ltd | Photopolymerizable composition |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3600436A (en) * | 1968-05-22 | 1971-08-17 | Dow Chemical Co | (3-oxopenta-1,4-dien-1,5-ylene)-bis-((p-phenyleneoxy) acetic acid) |
DE2042663A1 (de) * | 1970-08-28 | 1972-03-02 | Agfa-Gevaert Ag, 5090 Leverkusen | Photographisches Trockenkopierverfahren |
DE2106577C2 (de) * | 1971-02-11 | 1982-07-08 | Agfa-Gevaert Ag, 5090 Leverkusen | Aufzeichnungsmaterial für das photographische Trockenkopierverfahren und photographisches Verfahren zur Herstellung von Bildern |
JPS54152091A (en) * | 1978-05-22 | 1979-11-29 | Fuji Photo Film Co Ltd | Photopolymerizable composition |
JPS5815503A (ja) * | 1981-07-20 | 1983-01-28 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光重合性組成物 |
GB2108487B (en) * | 1981-11-03 | 1985-07-31 | Sericol Group Ltd | Water soluble thioxanthone photoinitiators |
DE3148594A1 (de) * | 1981-12-09 | 1983-07-21 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Anilinderivate, verfahren zu ihrer herstellung und ihre verwendung zur bekaempfung unerwuenschten pflanzenwuchses |
US4576975A (en) * | 1983-03-03 | 1986-03-18 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Water soluble Michler's ketone analogs in combined photoinitiator composition and polymerizable composition |
-
1985
- 1985-10-10 GB GB858525027A patent/GB8525027D0/en active Pending
-
1986
- 1986-10-02 DE DE8686307620T patent/DE3670494D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1986-10-02 DE DE198686307620T patent/DE223373T1/de active Pending
- 1986-10-02 EP EP86307620A patent/EP0223373B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1986-10-09 JP JP61241200A patent/JPS62143902A/ja active Pending
- 1986-10-09 AU AU63860/86A patent/AU594089B2/en not_active Ceased
- 1986-10-10 US US06/917,465 patent/US4824765A/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5365381A (en) * | 1976-11-22 | 1978-06-10 | Fuji Photo Film Co Ltd | Photopolymerizable composition |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
AU594089B2 (en) | 1990-03-01 |
US4824765A (en) | 1989-04-25 |
DE223373T1 (de) | 1989-07-13 |
EP0223373A1 (en) | 1987-05-27 |
AU6386086A (en) | 1987-04-16 |
GB8525027D0 (en) | 1985-11-13 |
EP0223373B1 (en) | 1990-04-18 |
DE3670494D1 (en) | 1990-05-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPS62143902A (ja) | 水溶性光重合開始剤 | |
US4416975A (en) | Photopolymerization process employing compounds containing acryloyl groups and maleimide groups | |
US4696888A (en) | Light-sensitive compounds possessing trichloromethyl groups, a process for their production and light-sensitive mixtures containing these compounds | |
US4602097A (en) | Water soluble photoinitiator benzophenone and thioxanthenone ethoxy-ether derivatives | |
JPH0635427B2 (ja) | 光硬化性着色組成物のための光開始剤 | |
JP2700168B2 (ja) | 光重合可能な混合物および光重合可能な記録材料 | |
EP0216884A1 (de) | Fotoinitiatoren für die fotopolymerisation von ungesättigten systemen. | |
JP2758179B2 (ja) | 光重合可能な混合物および光重合可能な記録材料 | |
JPS5879991A (ja) | チオキサントン、その製造方法および光重合性組成物 | |
JPH01103602A (ja) | 放射線感応性化合物の又は該化合物に関する改良 | |
JPS6088005A (ja) | 光硬化樹脂組成物 | |
JP2952861B2 (ja) | 置換スルホネート基を有する重合体化合物、この重合体化合物を含む感放射線性組成物および重合体化合物の製造方法 | |
US3857822A (en) | Light-sensitive copolymers, a process for their manufacture and copying compositions containing them | |
US5043249A (en) | Photopolymerizable composition comprising (meth)acrylates with photooxidizable groups and a recording material produced therefrom | |
US5847133A (en) | Ionic halomethyl-1,3,5-triazine photoinitiators | |
JP3739136B2 (ja) | 可視光感光性樹脂組成物およびその用途 | |
JPH0336421B2 (ja) | ||
JPH02292278A (ja) | 感光性ビス‐トリクロロメチル‐s‐トリアジン類、それらの製造方法およびそれらの化合物を含有する感光性組成物 | |
JP3127476B2 (ja) | 光反応性化合物および該化合物を使用してなる光硬化性樹脂組成物 | |
JPH1045741A (ja) | クマリン化合物およびその用途 | |
JPH0540342A (ja) | ポジ型感可視光樹脂組成物 | |
JP3175599B2 (ja) | 光重合開始剤および光重合性樹脂組成物 | |
JP2893362B2 (ja) | 感光性組成物 | |
JPH0816784B2 (ja) | 感可視光樹脂組成物 | |
JPS6096604A (ja) | 光不溶性樹脂組成物 |