JPH0816784B2 - 感可視光樹脂組成物 - Google Patents
感可視光樹脂組成物Info
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- JPH0816784B2 JPH0816784B2 JP1251488A JP25148889A JPH0816784B2 JP H0816784 B2 JPH0816784 B2 JP H0816784B2 JP 1251488 A JP1251488 A JP 1251488A JP 25148889 A JP25148889 A JP 25148889A JP H0816784 B2 JPH0816784 B2 JP H0816784B2
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- Japan
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Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、優れた感光度を示す光可溶性樹脂組成物、
さらに詳しく述べれば、光照射により強酸を発生しうる
物質と酸により容易に加水分解を起こしうる官能基を持
つ高分子物質を含有することを特徴とする感可視光樹脂
組成物に関するものである。
さらに詳しく述べれば、光照射により強酸を発生しうる
物質と酸により容易に加水分解を起こしうる官能基を持
つ高分子物質を含有することを特徴とする感可視光樹脂
組成物に関するものである。
従来の技術 感可視光樹脂組成物は、可視発振波長を持つレーザを
光源とする諸技術に用いられる。レーザ光による記録
は、電子計算機により制御できるので、直接描画が可能
となり、印刷製版、光ビデオディスク原版作製などに利
用されている。さらには、レーザ光の単色性に由来する
高解像性のホログラム記録も重要である。このような目
的に適した記録材料には、レーザ光に高感度で感光し、
しかも高い解像性を示すことが要求される。また、実際
に使用するに当たっては、長期にわたって保存安定性に
優れていることも必要となる。
光源とする諸技術に用いられる。レーザ光による記録
は、電子計算機により制御できるので、直接描画が可能
となり、印刷製版、光ビデオディスク原版作製などに利
用されている。さらには、レーザ光の単色性に由来する
高解像性のホログラム記録も重要である。このような目
的に適した記録材料には、レーザ光に高感度で感光し、
しかも高い解像性を示すことが要求される。また、実際
に使用するに当たっては、長期にわたって保存安定性に
優れていることも必要となる。
感光性樹脂はレリーフ画像形成に特徴を持つので、こ
の点を生かした記録材料に有用であるが、従来の感光性
樹脂の多くはフォトレジスト材料、インキ、塗料、ワニ
ス、印刷製版材料などに利用されており、それらの感光
波長は紫外線領域にとどまっていた。可視レーザ光に感
光する樹脂としては、これまでに、光重合型、光架橋型
の材料が提案されている。例えば、特開昭52-134692号
においては、多環キノンと３級アミンからなる光重合組
成物、特開昭54-151024号においては、メロシアニンと
トリアジン誘導体を光重合開始剤とする組成物、特開昭
54-155292号においては、イミダゾリル二量体とアミノ
フェニル基をもつ環状ケトンを開始剤とする光重合組成
物、特開昭60-22129号においては、ｐ−フェニレンジア
クリル酸残基とピリリウム塩などの増感剤とからなる光
架橋性高分子が示されている。これらは、可視光に対し
て比較的高い感度で感光するものであるが、いわゆるネ
ガ型に属し、解像性に劣るという難点を有する。
の点を生かした記録材料に有用であるが、従来の感光性
樹脂の多くはフォトレジスト材料、インキ、塗料、ワニ
ス、印刷製版材料などに利用されており、それらの感光
波長は紫外線領域にとどまっていた。可視レーザ光に感
光する樹脂としては、これまでに、光重合型、光架橋型
の材料が提案されている。例えば、特開昭52-134692号
においては、多環キノンと３級アミンからなる光重合組
成物、特開昭54-151024号においては、メロシアニンと
トリアジン誘導体を光重合開始剤とする組成物、特開昭
54-155292号においては、イミダゾリル二量体とアミノ
フェニル基をもつ環状ケトンを開始剤とする光重合組成
物、特開昭60-22129号においては、ｐ−フェニレンジア
クリル酸残基とピリリウム塩などの増感剤とからなる光
架橋性高分子が示されている。これらは、可視光に対し
て比較的高い感度で感光するものであるが、いわゆるネ
ガ型に属し、解像性に劣るという難点を有する。
これに対して、光可溶性樹脂組成物（ポジ型）は解像
性が非常に優れており、その代表例としてのｏ−ナフト
キノンジアジド類が実用に供せられていることは周知の
通りである。しかしながら、この感光物は光学的な増感
を行うことは知られておらず、可視光領域ではきわめて
低感度であるという問題点を有している。そこで近年、
ｏ−ナフトキノンジアジド類を使用しない高感度光可溶
性樹脂組成物の提案がなされている。特開昭57-176035
号では、メタクリレート側鎖にオレフィンを導入したポ
リマーとメルカプト酸と反応開始剤からなる組成物、特
開59-45439号では、光照射で発生した酸を触媒として加
水分解を起こすポリ−ｐ−ｔ−ブトキシカルボキシルス
チレンからなる組成物、特開昭61-167945号では、光照
射で発生した酸と触媒として加水分解を起こすシリルエ
ーテル基を持つ化合物からなる組成物などが示されてい
る。しかしながら、いずれも長波長光に感ずるものでは
なく、レーザ用感光材料や銀塩代替材料などとして利用
するにはなお一層高い感度が望まれていた。
性が非常に優れており、その代表例としてのｏ−ナフト
キノンジアジド類が実用に供せられていることは周知の
通りである。しかしながら、この感光物は光学的な増感
を行うことは知られておらず、可視光領域ではきわめて
低感度であるという問題点を有している。そこで近年、
ｏ−ナフトキノンジアジド類を使用しない高感度光可溶
性樹脂組成物の提案がなされている。特開昭57-176035
号では、メタクリレート側鎖にオレフィンを導入したポ
リマーとメルカプト酸と反応開始剤からなる組成物、特
開59-45439号では、光照射で発生した酸を触媒として加
水分解を起こすポリ−ｐ−ｔ−ブトキシカルボキシルス
チレンからなる組成物、特開昭61-167945号では、光照
射で発生した酸と触媒として加水分解を起こすシリルエ
ーテル基を持つ化合物からなる組成物などが示されてい
る。しかしながら、いずれも長波長光に感ずるものでは
なく、レーザ用感光材料や銀塩代替材料などとして利用
するにはなお一層高い感度が望まれていた。
発明が解決しようとする問題点 本発明は、可視光に感光して可溶化する樹脂組成物に
関するものであって、しかも感光速度及び解像性に優れ
た特性を併せ持つ感光材料を提供する事を目的としてな
されたものである。
関するものであって、しかも感光速度及び解像性に優れ
た特性を併せ持つ感光材料を提供する事を目的としてな
されたものである。
問題点を解決するための手段 本発明者らは、高感度、高解像性を有し、保存安定性
の良い感可視光樹脂組成物を得るべく鋭意研究を重ねた
結果、本発明を成すに至ったものである。
の良い感可視光樹脂組成物を得るべく鋭意研究を重ねた
結果、本発明を成すに至ったものである。
すなわち、本発明は、（Ａ）一般式 で表わされる構造単位25〜100モル％と、一般式 （式中のＲはメトキシ基、フェノキシ基、ナフトキシ
基又はtert−ブチルアミノ基を示す） で表わされる構造単位０〜75モル％とから成るメタクリ
ル酸系高分子化合物100重量部に対し、（Ｂ）一般式 （式中のR1、R2は低級アルキル基、Ｘは水素原子、フ
ェニル基、アシル基、シアノ基、アンモニオ基又はアル
コキシカルボニル基、Ｙはアシル基、シアノ基、アンモ
ニオ基又はアルコキシカルボニル基、ｎは０又は１であ
る） で表わされるｐ−アミノベンジリデン誘導体２〜20重量
部及び（Ｃ）ジアリールヨードニウム塩２〜20重量部を
配合して成る感可視光樹脂組成物を提供するものであ
る。
基又はtert−ブチルアミノ基を示す） で表わされる構造単位０〜75モル％とから成るメタクリ
ル酸系高分子化合物100重量部に対し、（Ｂ）一般式 （式中のR1、R2は低級アルキル基、Ｘは水素原子、フ
ェニル基、アシル基、シアノ基、アンモニオ基又はアル
コキシカルボニル基、Ｙはアシル基、シアノ基、アンモ
ニオ基又はアルコキシカルボニル基、ｎは０又は１であ
る） で表わされるｐ−アミノベンジリデン誘導体２〜20重量
部及び（Ｃ）ジアリールヨードニウム塩２〜20重量部を
配合して成る感可視光樹脂組成物を提供するものであ
る。
本発明の感可視光樹脂組成物において（Ａ）成分とし
て用いられる高分子化合物としては、酸によって容易に
エステル基が切断される、tert−ブチルメタクリレート
の単独重合体が好ましく、その他tert−ブチルメタクリ
レートと、メタクリル酸のアルキルエステル、フェニル
エステル、ナフチルエステル、メタクリルアミド、Ｎ−
tertブチルメタクリルアミドなどのビニル系単量体を共
重合させたものが用いられる。これらの共重合性単量体
の種類と共重合比を選択することによって、目的とする
感光性樹脂組成物の特性を調整することができる。
て用いられる高分子化合物としては、酸によって容易に
エステル基が切断される、tert−ブチルメタクリレート
の単独重合体が好ましく、その他tert−ブチルメタクリ
レートと、メタクリル酸のアルキルエステル、フェニル
エステル、ナフチルエステル、メタクリルアミド、Ｎ−
tertブチルメタクリルアミドなどのビニル系単量体を共
重合させたものが用いられる。これらの共重合性単量体
の種類と共重合比を選択することによって、目的とする
感光性樹脂組成物の特性を調整することができる。
本発明の感可視光樹脂組成物において（Ｃ）成分とし
て用いられるジアリールヨードニウム塩は光照射によっ
て酸を発生する性質を持つ。本発明で用いられる化合物
としては、Macromolecules,10,1307（1977）に記載の化
合物、例えば、ジフェニルヨードニウム、ジトリルヨー
ドニウム、フェニル（ｐ−アニシル）ヨードニウム、ビ
ス（ｍ−ニトロフェニル）ヨードニウム、ビス（ｐ−ｔ
−ブチルフェニル）ヨードニウム、などのヨードニウム
のクロリド、ブロミドあるいはホウフッ化塩、ヘキサフ
ルオロホスフェート塩、ヘキサフルオロアルセネート塩
をあげることができる。
て用いられるジアリールヨードニウム塩は光照射によっ
て酸を発生する性質を持つ。本発明で用いられる化合物
としては、Macromolecules,10,1307（1977）に記載の化
合物、例えば、ジフェニルヨードニウム、ジトリルヨー
ドニウム、フェニル（ｐ−アニシル）ヨードニウム、ビ
ス（ｍ−ニトロフェニル）ヨードニウム、ビス（ｐ−ｔ
−ブチルフェニル）ヨードニウム、などのヨードニウム
のクロリド、ブロミドあるいはホウフッ化塩、ヘキサフ
ルオロホスフェート塩、ヘキサフルオロアルセネート塩
をあげることができる。
本発明の感可視光樹脂組成物において（Ｂ）成分とし
て用いられるｐ−ジアルキルアミノベンジリデン誘導体
はジアリールヨードニウム塩の光分解を増感する機能を
有する。一般式（II）で表される化合物を以下に例示す
る。
て用いられるｐ−ジアルキルアミノベンジリデン誘導体
はジアリールヨードニウム塩の光分解を増感する機能を
有する。一般式（II）で表される化合物を以下に例示す
る。
本発明の感可視光樹脂組成物に含有される（Ｃ）成分
のジアリールヨードニウム塩の量は、高分子化合物：ジ
アリールヨードニウム塩の重量比で1:0.02から1:0.2ま
での範囲をとることが可能である。さらに、高分子化合
物と（Ｂ）成分の増感剤との重量比は1:0.02から1:0.2
の範囲である。
のジアリールヨードニウム塩の量は、高分子化合物：ジ
アリールヨードニウム塩の重量比で1:0.02から1:0.2ま
での範囲をとることが可能である。さらに、高分子化合
物と（Ｂ）成分の増感剤との重量比は1:0.02から1:0.2
の範囲である。
本発明の感可視光樹脂組成物には、所望に応じて公知
のバインダー、顔料、可塑剤などの添加剤を加えてもよ
い。
のバインダー、顔料、可塑剤などの添加剤を加えてもよ
い。
本発明の感光性組成物に適した光源としては、高圧水
銀灯、超高圧水銀灯、高圧キセノン灯、ハロゲンランプ
の他、ヘリウム−カドミウムレーザ、アルゴンレーザが
利用できる。これらの光源を用いて所定時間露光した
後、樹脂組成物を暗所で加熱する。加熱温度は60〜150
℃、好ましくは、80〜130℃である。これ以下であれ
ば、画像形成に要する時間は著しく長くなるし、これ以
上にしても画像形成の時間を短縮することができない。
加熱時間は加熱温度に依存するが、１〜20分、好ましく
は、２〜10分である。また、加熱を水蒸気で飽和した状
態で行うと、画像形成に必要な露光時間を短縮すること
が可能となり、さらに、本発明の光記録材料の感度を向
上させることが出来る。加熱後、水、アルコールなどの
極性溶媒を含有する溶媒で現像することによって、露光
部が可溶化し、高解像性画像が形成される。
銀灯、超高圧水銀灯、高圧キセノン灯、ハロゲンランプ
の他、ヘリウム−カドミウムレーザ、アルゴンレーザが
利用できる。これらの光源を用いて所定時間露光した
後、樹脂組成物を暗所で加熱する。加熱温度は60〜150
℃、好ましくは、80〜130℃である。これ以下であれ
ば、画像形成に要する時間は著しく長くなるし、これ以
上にしても画像形成の時間を短縮することができない。
加熱時間は加熱温度に依存するが、１〜20分、好ましく
は、２〜10分である。また、加熱を水蒸気で飽和した状
態で行うと、画像形成に必要な露光時間を短縮すること
が可能となり、さらに、本発明の光記録材料の感度を向
上させることが出来る。加熱後、水、アルコールなどの
極性溶媒を含有する溶媒で現像することによって、露光
部が可溶化し、高解像性画像が形成される。
発明の効果 本発明の感可視光樹脂組成物は、従来の可視感光性樹
脂よりも優れた感度を有しているので、平版や凸版用製
版材料、各種レリーフの作製、ホログラムの作製など幅
広い分野に応用できる。
脂よりも優れた感度を有しているので、平版や凸版用製
版材料、各種レリーフの作製、ホログラムの作製など幅
広い分野に応用できる。
実施例 次に、実施例により本発明をさらに詳細に説明する
が、これによって本発明はなんら限定されるものではな
い。
が、これによって本発明はなんら限定されるものではな
い。
参考例１〜３ ２−フェニル−２−プロパノール17.8gとメタクリル
酸クロリド20.6gをトリエチルアミン26.6g存在下、酢酸
エチル30mlを溶媒として20時間室温で撹はん反応させ
た。反応生成物を0.1N塩酸、1N水酸化ナトリウム水溶
液、水で洗浄後、減圧蒸留により２−フェニル−２−プ
ロピルメタクリレート13.1gを得た。このエステル9.0g
をベンゼン90mlに溶解後、アゾビスイソブチロニトリル
（AIBN）1.0mgを添加したものをアンプルに入れアルゴ
ンガスで置換後封管した。これを60℃、20時間で重合さ
せた後、反応物をメタノール中に投じてろ過し、重合体
6.5gを得た。このポリマーを20重量％のジグライム溶液
に調製して、ジフェニルヨードニウム・ヘキサフルオロ
フォスフェートと増感剤をそれぞれポリマーに対して20
重量％及び10重量％となるように添加して感光液とし
た。これを陽極酸化アルミ板上にスピン塗布し、80℃で
10分間プリベークを行い、ステップ・タブレット（イー
ストマン・コダック社製）を通してキセノン灯で１分間
露光した。これを125℃、10分間ポストベークした後、
メタノールで現像した。可溶化段数をまとめて表１に示
す。
酸クロリド20.6gをトリエチルアミン26.6g存在下、酢酸
エチル30mlを溶媒として20時間室温で撹はん反応させ
た。反応生成物を0.1N塩酸、1N水酸化ナトリウム水溶
液、水で洗浄後、減圧蒸留により２−フェニル−２−プ
ロピルメタクリレート13.1gを得た。このエステル9.0g
をベンゼン90mlに溶解後、アゾビスイソブチロニトリル
（AIBN）1.0mgを添加したものをアンプルに入れアルゴ
ンガスで置換後封管した。これを60℃、20時間で重合さ
せた後、反応物をメタノール中に投じてろ過し、重合体
6.5gを得た。このポリマーを20重量％のジグライム溶液
に調製して、ジフェニルヨードニウム・ヘキサフルオロ
フォスフェートと増感剤をそれぞれポリマーに対して20
重量％及び10重量％となるように添加して感光液とし
た。これを陽極酸化アルミ板上にスピン塗布し、80℃で
10分間プリベークを行い、ステップ・タブレット（イー
ストマン・コダック社製）を通してキセノン灯で１分間
露光した。これを125℃、10分間ポストベークした後、
メタノールで現像した。可溶化段数をまとめて表１に示
す。
参考例４ 参考例１で得たメタクリル酸２−フェニル−２−プロ
ピルをメタクリル酸フェニルと1:1共重合させ、この共
重合体0.5gを参考例１で用いた増感剤0.05gとジフェニ
ルヨードニウム・ヘキサフルオロフォスフェート0.1gと
ともにジグライムに溶解した。その溶液を参考例１と同
様の処方でガラス板上に膜厚約１μｍにスピン塗布し、
80℃で10分間プリベークを行った。これをアルゴンレー
ザの488nmの輝線を用い、第１図のような光学系で交差
角22°で露光した 後、100℃で10分間ポストベークしたものを１−ブタノ
ール：メタノール＝1:1の混合液で現像した。さらに、
ヘキサンでリンスすることによりホログラムを得た。こ
のホログラムの回折効率は、露光エネルギー120mJ/cm2
のときに最大で、17.5％であった。
ピルをメタクリル酸フェニルと1:1共重合させ、この共
重合体0.5gを参考例１で用いた増感剤0.05gとジフェニ
ルヨードニウム・ヘキサフルオロフォスフェート0.1gと
ともにジグライムに溶解した。その溶液を参考例１と同
様の処方でガラス板上に膜厚約１μｍにスピン塗布し、
80℃で10分間プリベークを行った。これをアルゴンレー
ザの488nmの輝線を用い、第１図のような光学系で交差
角22°で露光した 後、100℃で10分間ポストベークしたものを１−ブタノ
ール：メタノール＝1:1の混合液で現像した。さらに、
ヘキサンでリンスすることによりホログラムを得た。こ
のホログラムの回折効率は、露光エネルギー120mJ/cm2
のときに最大で、17.5％であった。
実施例１〜３ メタクリル酸tert−ブチル（tBMAと略記）又はこれと
メタクリル酸メチル（MMAと略記）とを表２に示す割合
で混合したものを、ベンゼンを溶媒として用い、参考例
１と同様にして共重合させ、表２に示す重量平均分子量
（Mw）及び分子量分布（Mw/Mn）をもつ重合体又は共重
合体を得た。
メタクリル酸メチル（MMAと略記）とを表２に示す割合
で混合したものを、ベンゼンを溶媒として用い、参考例
１と同様にして共重合させ、表２に示す重量平均分子量
（Mw）及び分子量分布（Mw/Mn）をもつ重合体又は共重
合体を得た。
次に、このようにして得た重合体又は共重合体のジグ
ライム溶液に、参考例１で用いた増感剤とジフェニルヨ
ードニウム・ヘキサフルオロフォスフェートとを各10重
量％の割合で添加して感可視光樹脂組成物を調製した。
ライム溶液に、参考例１で用いた増感剤とジフェニルヨ
ードニウム・ヘキサフルオロフォスフェートとを各10重
量％の割合で添加して感可視光樹脂組成物を調製した。
この組成物を陽極酸化アルミニウム板にスピン塗布し
たものに、ネガ画像を通してキセノン灯からの光を照射
したのち、125℃で10分間ポストベークしてから、メタ
ノールとブタノールの混合溶液で現像処理したところ、
露光部が溶解してポジ画像が得られた。
たものに、ネガ画像を通してキセノン灯からの光を照射
したのち、125℃で10分間ポストベークしてから、メタ
ノールとブタノールの混合溶液で現像処理したところ、
露光部が溶解してポジ画像が得られた。
参考例５〜８ 参考例１と同様にしてメタクリル酸２−フェニル−２
−プロピル（DMBMAと略記）と、MMA、Ｎ−tert−ブチル
メタクリルアミド（tBMAmと略記）又はメタクリル酸フ
ェニル（phMAと略記）とを表３に示す比率で共重合させ
て共重合体を製造した。この共重合体の重量平均分子量
及び分子量分布を表３に示す。
−プロピル（DMBMAと略記）と、MMA、Ｎ−tert−ブチル
メタクリルアミド（tBMAmと略記）又はメタクリル酸フ
ェニル（phMAと略記）とを表３に示す比率で共重合させ
て共重合体を製造した。この共重合体の重量平均分子量
及び分子量分布を表３に示す。
次にこのようにして得た共重合体を用い実施例１と同
様にして、キセノン光による像形成露光及び現像処理を
行ったところポジ画像が得られた。
様にして、キセノン光による像形成露光及び現像処理を
行ったところポジ画像が得られた。
第１図は本発明においてホログラム作製に使用される装
置の１例を略式に示した説明図である。 1:レーザ発振器 2:コリメータ 3:反射ミラー 4:ビームスプリッター 5:感光材 6:レーザビーム
置の１例を略式に示した説明図である。 1:レーザ発振器 2:コリメータ 3:反射ミラー 4:ビームスプリッター 5:感光材 6:レーザビーム
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭60−258204（ＪＰ，Ａ) 特開 昭60−257444（ＪＰ，Ａ) 特開 昭55−151637（ＪＰ，Ａ) 特開 昭56−29232（ＪＰ，Ａ) 特開 昭56−39539（ＪＰ，Ａ) 特開 昭49−15372（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−309358（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−250642（ＪＰ，Ａ)
Claims (1)
- 【請求項１】（Ａ）一般式 で表わされる構造単位25〜100モル％と、一般式 （式中のＲはメトキシ基、フェノキシ基、ナフトキシ基
又はtert−ブチルアミノ基を示す） で表わされる構造単位０〜75モル％とから成るメタクリ
ル酸系高分子化合物100重量部に対し、（Ｂ）一般式 （式中のR1、R2は低級アルキル基、Ｘは水素原子、フェ
ニル基、アシル基、シアノ基、アンモニオ基又はアルコ
キシカルボニル基、Ｙはアシル基、シアノ基、アンモニ
オ基又はアルコキシカルボニル基、ｎは０又は１であ
る） で表わされるｐ−アミノベンジリデン誘導体２〜20重量
部及び（Ｃ）ジアリールヨードニウム塩２〜20重量部を
配合して成る感可視光樹脂組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1251488A JPH0816784B2 (ja) | 1989-09-27 | 1989-09-27 | 感可視光樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1251488A JPH0816784B2 (ja) | 1989-09-27 | 1989-09-27 | 感可視光樹脂組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03113449A JPH03113449A (ja) | 1991-05-14 |
| JPH0816784B2 true JPH0816784B2 (ja) | 1996-02-21 |
Family
ID=17223549
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1251488A Expired - Lifetime JPH0816784B2 (ja) | 1989-09-27 | 1989-09-27 | 感可視光樹脂組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0816784B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2648804B2 (ja) * | 1990-04-24 | 1997-09-03 | インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション | ドライフィルム型の水性処理可能なホトレジスト組成物 |
| JP2648805B2 (ja) * | 1990-04-24 | 1997-09-03 | インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション | 液体適用型の水性処理可能なホトレジスト組成物 |
| JP4703328B2 (ja) * | 2005-09-16 | 2011-06-15 | パナソニック株式会社 | 自転車用錠装置および自転車 |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| JPS5629232A (en) * | 1979-08-16 | 1981-03-24 | Fujitsu Ltd | Pattern forming material |
| JPS5639539A (en) * | 1979-09-07 | 1981-04-15 | Chiyou Lsi Gijutsu Kenkyu Kumiai | Pattern forming method |
| JPS60257444A (ja) * | 1984-06-01 | 1985-12-19 | Agency Of Ind Science & Technol | 光架橋性感光材料 |
| JPH0236604B2 (ja) * | 1984-06-01 | 1990-08-20 | Kogyo Gijutsuin | Hikarikokajushisoseibutsu |
| JPH02309358A (ja) * | 1989-05-24 | 1990-12-25 | Nippon Paint Co Ltd | ポジ型感光性樹脂組成物 |
-
1989
- 1989-09-27 JP JP1251488A patent/JPH0816784B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH03113449A (ja) | 1991-05-14 |
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