JPS60257444A - 光架橋性感光材料 - Google Patents
光架橋性感光材料Info
- Publication number
- JPS60257444A JPS60257444A JP11359684A JP11359684A JPS60257444A JP S60257444 A JPS60257444 A JP S60257444A JP 11359684 A JP11359684 A JP 11359684A JP 11359684 A JP11359684 A JP 11359684A JP S60257444 A JPS60257444 A JP S60257444A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- component
- compd
- group
- photosensitive material
- halogen
- Prior art date
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- Granted
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
- G03F7/029—Inorganic compounds; Onium compounds; Organic compounds having hetero atoms other than oxygen, nitrogen or sulfur
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- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、優れた感光度を示す光不溶性樹脂組成物、さ
らに詳しく述べれば、可視光照射1こより強酸を発生し
得る光カチオン重合開始系を含有することを特徴とする
光硬化性感光材料に関する。
らに詳しく述べれば、可視光照射1こより強酸を発生し
得る光カチオン重合開始系を含有することを特徴とする
光硬化性感光材料に関する。
光重合を原理とする光不溶性樹脂の感光速度を増大させ
るためには多くの研究がなされているが、その多くは紫
外線に活性な光重合増感剤(開始剤)に関するものであ
る。一方、感光性樹脂はフォト材料などを越えて、レー
ザ光を用いる画像形成材料や銀塩に代る感光材料として
注1」されているが、この新しい材料としての感光特性
は従来のものでは甚だ不十分なものでしかない。そのた
め、感光波長領域を拡大し、しかも感光速度を飛躍的に
増大させる必要がある。
るためには多くの研究がなされているが、その多くは紫
外線に活性な光重合増感剤(開始剤)に関するものであ
る。一方、感光性樹脂はフォト材料などを越えて、レー
ザ光を用いる画像形成材料や銀塩に代る感光材料として
注1」されているが、この新しい材料としての感光特性
は従来のものでは甚だ不十分なものでしかない。そのた
め、感光波長領域を拡大し、しかも感光速度を飛躍的に
増大させる必要がある。
可視光線に感光する光重合性樹脂としてはいくつかの提
案がなされている。特開始48−36281号公報にお
いては、エチレン系不飽和によりトリアジン環と共役さ
れた少なくとも1つのトリハロメチル基と少なくとも1
つの発色団部分を有するS−トリアジンを重合開始剤と
する方法が提案されている。また、特開始54−155
29号公報においては、p−ジアルキルアミノアリリデ
ンと共役した不飽和ケトンを光重合開始剤とする組成物
が提案されている。あるいはまた、特開始52−134
6921: 号公報”j:[’rlt・多環性1″′E
級7°浸1 光重合開始系とする組成物が提案されてい
る。
案がなされている。特開始48−36281号公報にお
いては、エチレン系不飽和によりトリアジン環と共役さ
れた少なくとも1つのトリハロメチル基と少なくとも1
つの発色団部分を有するS−トリアジンを重合開始剤と
する方法が提案されている。また、特開始54−155
29号公報においては、p−ジアルキルアミノアリリデ
ンと共役した不飽和ケトンを光重合開始剤とする組成物
が提案されている。あるいはまた、特開始52−134
6921: 号公報”j:[’rlt・多環性1″′E
級7°浸1 光重合開始系とする組成物が提案されてい
る。
これらはいずれも従来の光重合性樹脂に比して、より長
波長に感光する材料を与えることが出来るが、不溶化に
関与する反応はラジカルによるものであるので、大気中
での感度は著しく減すると言う欠点を有している。した
がって、これらの感光材料が所望の高感度を示すために
は、大気中の酸素をしゃ断した状態で露光する必要が生
ずる。
波長に感光する材料を与えることが出来るが、不溶化に
関与する反応はラジカルによるものであるので、大気中
での感度は著しく減すると言う欠点を有している。した
がって、これらの感光材料が所望の高感度を示すために
は、大気中の酸素をしゃ断した状態で露光する必要が生
ずる。
一方、このような酸素の影響をうけない重合系として、
光カチオン重合が注目されている。すなわち、アリール
ジアゾニウム塩、ジアリールヨードニウム塩、トリアリ
ールスルホニウム塩などの光分解により、強酸が発生し
てカチオン重合を開始する。しかしながら、この種の化
合物は著しく短波長の紫外線ではじめて光分解するもの
であり、可視光に対しては感光性を示さない。したがっ
て、酸素による重合阻害を示さず、しかも、可視光に感
光する感光材料を製造するためには、光分解を促進する
可視光増感剤が不可欠となる。
光カチオン重合が注目されている。すなわち、アリール
ジアゾニウム塩、ジアリールヨードニウム塩、トリアリ
ールスルホニウム塩などの光分解により、強酸が発生し
てカチオン重合を開始する。しかしながら、この種の化
合物は著しく短波長の紫外線ではじめて光分解するもの
であり、可視光に対しては感光性を示さない。したがっ
て、酸素による重合阻害を示さず、しかも、可視光に感
光する感光材料を製造するためには、光分解を促進する
可視光増感剤が不可欠となる。
ジアリールヨードニウム塩やトリアリールスルホニウム
塩に対する可視光増感剤として、アクリジンオレンジ、
アクリジンイエローなどが提案さすている(J、V、ク
リベロ、J、H,W、ハム、高分子科学誌、高分子化掌
編、16巻、2441ページ(1978年)など参照)
。しかしながら、この種の増感剤により構成された感光
材料は、著しく感度の低いものであった。
塩に対する可視光増感剤として、アクリジンオレンジ、
アクリジンイエローなどが提案さすている(J、V、ク
リベロ、J、H,W、ハム、高分子科学誌、高分子化掌
編、16巻、2441ページ(1978年)など参照)
。しかしながら、この種の増感剤により構成された感光
材料は、著しく感度の低いものであった。
本発明は、光分解により酸を発生するジアリールヨード
ニウム塩などの増感分解反応を検討する過程で、アミノ
フェニル体が効率良くヨードニウム塩などの活性ハロゲ
ン化合物の光分解を増感することを見い出し、その知見
に基づいて完成されたものである。
ニウム塩などの増感分解反応を検討する過程で、アミノ
フェニル体が効率良くヨードニウム塩などの活性ハロゲ
ン化合物の光分解を増感することを見い出し、その知見
に基づいて完成されたものである。
すなわち、本発明は、(N一般式CI+(式中のR+
、 R2はアルキル基を示し、nは0または1であり、
X、Yは水素原子、アルコキシカールボニル、フェニル
基、置換フェニル基、シアノ、基、カルバモイル基、ホ
ルミル基、アシル基、アンモニオ基から選ばれた残基を
示す) で表わされる共役したジアルキルアミノフェニル基を持
つ化合物を、(Bl活性ハロゲン含有化合物と、(C)
カチオン重合能を有する単位を少なくとも1つ有する化
合物とからなることを特徴とする光架橋性感光材料に関
するものである。
、 R2はアルキル基を示し、nは0または1であり、
X、Yは水素原子、アルコキシカールボニル、フェニル
基、置換フェニル基、シアノ、基、カルバモイル基、ホ
ルミル基、アシル基、アンモニオ基から選ばれた残基を
示す) で表わされる共役したジアルキルアミノフェニル基を持
つ化合物を、(Bl活性ハロゲン含有化合物と、(C)
カチオン重合能を有する単位を少なくとも1つ有する化
合物とからなることを特徴とする光架橋性感光材料に関
するものである。
成分(2)は成分子Blの光分解を増感するものであり
、成分(C)は光分解で発生した酸によりカチオン重合
し得るものである。成分(2)である一般式(I)で表
わされるアミノフェニル化合物としては、以下の化合物
を例示することができる。
、成分(C)は光分解で発生した酸によりカチオン重合
し得るものである。成分(2)である一般式(I)で表
わされるアミノフェニル化合物としては、以下の化合物
を例示することができる。
CHa
CHa CO2CH3
♀H・
これらの化合物はいずれもジアルキルアミノベンツアル
デヒドと活性メチレン化合物との縮合反応により、容易
に製造することができる。
デヒドと活性メチレン化合物との縮合反応により、容易
に製造することができる。
光重合開始系を構造する成分子Blである活性ハロゲン
化合物としては、一般式flI) (式中のRs 、Rgは水素原子、低最アルキル基メト
キシ基またはニトロ基を示し、X−はハロゲンイオン、
スルホン酸イオン、BF4−1PF6−1A−Fa−を
示す。) で表わされるジアリールヨードニウム塩がと(に!まし
い。本発明で用いられる一般式(nlで表わされる化合
物としては、Macromolecules、10.1
307(1977)に記載の化合物、たとえば、ジフェ
ニルヨードニウム、ジトリルヨードニウム、フェニル(
p−アニシル)ヨードニウム、ビス(m−ニトロフェニ
ル)ヨードニウム、ビス(p −tent −7”チル
フェニル)ヨードニウムなどのヨードニウムのクロリド
、プロミドあるいはホウフッ化塩、ヘキサフルオロホス
フェート塩、ヘキサフルオロアルセネート塩をあげるこ
とができる。
化合物としては、一般式flI) (式中のRs 、Rgは水素原子、低最アルキル基メト
キシ基またはニトロ基を示し、X−はハロゲンイオン、
スルホン酸イオン、BF4−1PF6−1A−Fa−を
示す。) で表わされるジアリールヨードニウム塩がと(に!まし
い。本発明で用いられる一般式(nlで表わされる化合
物としては、Macromolecules、10.1
307(1977)に記載の化合物、たとえば、ジフェ
ニルヨードニウム、ジトリルヨードニウム、フェニル(
p−アニシル)ヨードニウム、ビス(m−ニトロフェニ
ル)ヨードニウム、ビス(p −tent −7”チル
フェニル)ヨードニウムなどのヨードニウムのクロリド
、プロミドあるいはホウフッ化塩、ヘキサフルオロホス
フェート塩、ヘキサフルオロアルセネート塩をあげるこ
とができる。
また、少な(とも1つのモノ、ジ、あるいはトリハロメ
チル基により置換されたS−トリアジン化合物も用いる
ことができる。その例として、2−クロ巳メチルー8−
トリアジン、2−ジクロロメチル−8−トリアジン、2
−メチル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−5−)
リアジン、2−フェニル−4,6−ビス(トリクロロメ
チル)−8−トリアジン、2.4.6−トリス (トリ
クロロメチル)−8−トリアジン、をあげることができ
る。これらの活性ハロゲン化合物は、一般式、1))で
表わされる化合物に対して、0.1〜10モル等−砥、
さらに好ましくは1〜5モル等量をl足台することによ
り、高効・:4ぺな光カチオン・R合開始系となる。
チル基により置換されたS−トリアジン化合物も用いる
ことができる。その例として、2−クロ巳メチルー8−
トリアジン、2−ジクロロメチル−8−トリアジン、2
−メチル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−5−)
リアジン、2−フェニル−4,6−ビス(トリクロロメ
チル)−8−トリアジン、2.4.6−トリス (トリ
クロロメチル)−8−トリアジン、をあげることができ
る。これらの活性ハロゲン化合物は、一般式、1))で
表わされる化合物に対して、0.1〜10モル等−砥、
さらに好ましくは1〜5モル等量をl足台することによ
り、高効・:4ぺな光カチオン・R合開始系となる。
本発明の光架橋性感光材料を溝成する第3の成分(C)
としては、カチオン重合能を有する1、1位を少なくと
も1つ有する化合物が用いられる。ここで言うカチオン
重合能を有する単位とは、たとえば、東村敏延著、「カ
チオン重合」、化学同人(1971年)に記載の官能基
をあげることができる。とくに望ましくは、エポキシ基
、エピチオ基、ビニルエーテル基である。これらの官能
基を持つ化合物としては、低分子化合物でも良いし、ま
た、高分子量物質でもよい。感度の点からすれば、高分
子;jヨ物質がより好ましい。
としては、カチオン重合能を有する1、1位を少なくと
も1つ有する化合物が用いられる。ここで言うカチオン
重合能を有する単位とは、たとえば、東村敏延著、「カ
チオン重合」、化学同人(1971年)に記載の官能基
をあげることができる。とくに望ましくは、エポキシ基
、エピチオ基、ビニルエーテル基である。これらの官能
基を持つ化合物としては、低分子化合物でも良いし、ま
た、高分子量物質でもよい。感度の点からすれば、高分
子;jヨ物質がより好ましい。
エポキシ基を持つ化合物としては、グリシドール、エピ
クロロヒドリン、フェニルグリシジルエ1.1. −チ
ル、酢酸グリシジル、安息香酸グリシジル、アクリル酸
グリシジル、メタクリル酸グリシジルコハク酸ジグリシ
ジル、イソフタル酸グリシジル、宇しフタル酸グリシジ
ル、ハイドロキノンやビスフェノールAのグリシジル化
物、グリシジル化ノボラック樹脂、アクリル酸あるいは
メタクリル酸グリシジルの共重合体、グリシジルオキシ
スチレンの共重合体、などをあげることができるが、こ
の限りではない。
クロロヒドリン、フェニルグリシジルエ1.1. −チ
ル、酢酸グリシジル、安息香酸グリシジル、アクリル酸
グリシジル、メタクリル酸グリシジルコハク酸ジグリシ
ジル、イソフタル酸グリシジル、宇しフタル酸グリシジ
ル、ハイドロキノンやビスフェノールAのグリシジル化
物、グリシジル化ノボラック樹脂、アクリル酸あるいは
メタクリル酸グリシジルの共重合体、グリシジルオキシ
スチレンの共重合体、などをあげることができるが、こ
の限りではない。
エピチオ基を持つ化合物としては、アクリル酸あるいは
メタクリル酸のエピチオメチルエステルおよびその共重
合体が好ましい。
メタクリル酸のエピチオメチルエステルおよびその共重
合体が好ましい。
ビニルエーテル基を有する化合物としては、2−エチル
ヘキシルビニルエーテル、オクチルエーテル、フェニル
ビニルエーテル、オクチルエーテル、フェニルビニルエ
ーテル、ナフヂルヒニルエーテル1,2−クロロエチル
ビニルエーテル、アクリル酸2−ビニロキシエチル、メ
タクリル酸2−ビニロキシエチル、コハク酸ビス(2−
ビニロキシエチル)エステル、イソフタル酸(2−ビニ
ロキシエチル)エステル、テレフタル酸(2−ビニロキ
シエチル)エステル、工、4−ジビニロキシブタン、ジ
エチレングリコールジビニルエーテルΣ1トラエチレン
グリコールジビニルエーテル、ハイドロ1−ノンやビス
フェノールAのビス(2−ビニロキシエチル)エーテル
、ノボランクaj j’Mの2−ヒニロギンエチル化物
、などをあげることができる。
ヘキシルビニルエーテル、オクチルエーテル、フェニル
ビニルエーテル、オクチルエーテル、フェニルビニルエ
ーテル、ナフヂルヒニルエーテル1,2−クロロエチル
ビニルエーテル、アクリル酸2−ビニロキシエチル、メ
タクリル酸2−ビニロキシエチル、コハク酸ビス(2−
ビニロキシエチル)エステル、イソフタル酸(2−ビニ
ロキシエチル)エステル、テレフタル酸(2−ビニロキ
シエチル)エステル、工、4−ジビニロキシブタン、ジ
エチレングリコールジビニルエーテルΣ1トラエチレン
グリコールジビニルエーテル、ハイドロ1−ノンやビス
フェノールAのビス(2−ビニロキシエチル)エーテル
、ノボランクaj j’Mの2−ヒニロギンエチル化物
、などをあげることができる。
これらの成分(C)は成分Aに幻して5〜500モル等
量が好ましい。また、成分(C1は七にあげた化合物の
2種以上の混合部であっても良いことは言うまでもない
。
量が好ましい。また、成分(C1は七にあげた化合物の
2種以上の混合部であっても良いことは言うまでもない
。
本発明の光質イパイq:組成物は、一般式fIlで表わ
される成分(A)が吸収する波長の光により硬化する。
される成分(A)が吸収する波長の光により硬化する。
このとき、崗光後直ぢに加熱することにより一層硬化が
効果的に進行する。さらには、大気中での硬化7曲度は
酸素をしゃ断した時とほとんど変わらない。これらの事
実は、この光硬化がカチオン重合により辱こっているこ
とを示唆するものである。
効果的に進行する。さらには、大気中での硬化7曲度は
酸素をしゃ断した時とほとんど変わらない。これらの事
実は、この光硬化がカチオン重合により辱こっているこ
とを示唆するものである。
本発明の光架橋IIA:向!ltjには、所望に応じて
着色剤として顔料もしくは染料を添加しても差しつがえ
ない。
着色剤として顔料もしくは染料を添加しても差しつがえ
ない。
本発明の感光材ホSトにバした光源としては、高圧水銀
灯、超高圧水銀灯、高圧キセノン灯、ハロゲンランプ、
蛍光灯のほかに、He−Cdレ−fやA。
灯、超高圧水銀灯、高圧キセノン灯、ハロゲンランプ、
蛍光灯のほかに、He−Cdレ−fやA。
レーザが利用できる。
本発明の感光材料は酸素により重合阻害を受けずに高い
感度で硬化するので、インキ、塗料、ワニスなどの基材
として有効であるばがりでなく、平版または凸版用製版
材料、レリーフの作成、非銀塩画像の作成、プリント配
線板の作成などl+広い分野に応用できるほか、レーザ
光にも感光するところから、ネガレスでの製版用として
も有効である。
感度で硬化するので、インキ、塗料、ワニスなどの基材
として有効であるばがりでなく、平版または凸版用製版
材料、レリーフの作成、非銀塩画像の作成、プリント配
線板の作成などl+広い分野に応用できるほか、レーザ
光にも感光するところから、ネガレスでの製版用として
も有効である。
以下に実施例によりさらに詳細に説明する。
実施例J〜13
メタクリル酸グリシジル25m4とトルエン25罰の混
合溶液にアゾビスイソブチロニトリル0.13gを加え
、アルゴンガス雰囲気中60’Cで150分++U撹拌
反応させた。反応物を塩化メチレンに溶解してからメタ
ノールへ再沈させて単離精製し、ポリメタクリル酸グリ
シジル187gを得た。このボリ−をジオキサンに溶解
して10重景%とし、この溶液1gにジフェニルヨード
ニウムへキザフルオロホスフェートlQn+、yおよび
表1に示したジアルキルアミノフェニル基を有する増感
化合物10〜を加え、さらに、ジオキサンQ、 5 r
ntで界択して感光液とした。この液をアルミ板上に1
00Or’pmでスピン塗布し、ステップタブレット
(イーストマンコダッ、り社製No、 I A )を適
してキセノン灯((39’ mW/ cnt )で20
秒照射した。これを80″Cで3分間ボストベークした
後、ジオキサンで現像した。不溶化段数をまとめて表1
に示す。ベーキングを施こさない場合には不溶化しない
か、あるいは、非常に低感度であり、エポキシ環のカチ
オン重合により不溶化したものと考えられる。また、2
−メチル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−3−ト
リアジンもほぼ間柱な結果を与えた。
合溶液にアゾビスイソブチロニトリル0.13gを加え
、アルゴンガス雰囲気中60’Cで150分++U撹拌
反応させた。反応物を塩化メチレンに溶解してからメタ
ノールへ再沈させて単離精製し、ポリメタクリル酸グリ
シジル187gを得た。このボリ−をジオキサンに溶解
して10重景%とし、この溶液1gにジフェニルヨード
ニウムへキザフルオロホスフェートlQn+、yおよび
表1に示したジアルキルアミノフェニル基を有する増感
化合物10〜を加え、さらに、ジオキサンQ、 5 r
ntで界択して感光液とした。この液をアルミ板上に1
00Or’pmでスピン塗布し、ステップタブレット
(イーストマンコダッ、り社製No、 I A )を適
してキセノン灯((39’ mW/ cnt )で20
秒照射した。これを80″Cで3分間ボストベークした
後、ジオキサンで現像した。不溶化段数をまとめて表1
に示す。ベーキングを施こさない場合には不溶化しない
か、あるいは、非常に低感度であり、エポキシ環のカチ
オン重合により不溶化したものと考えられる。また、2
−メチル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−3−ト
リアジンもほぼ間柱な結果を与えた。
・1
表1、ポリメタクリル酸の光不溶化
H+CCC)rE。
F(l CC0CH。
H,(:
H+C
蟲CL(−CIK)OCH。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1) (A) 一般式 (式中のR+ 、R2はアルギル基を示し、nは0また
は1であり、X、Yは水素原子、アルコキシカルボニル
、フェニル基、 置換フェニル基、シアン基、カルバモ
イル基、ホルミル基、アシル基、アンモニオ基から選ば
れた残基を示す。)で表わされる共役したジアルキルア
ミノフェニル基を持つ化合物と、(B)活性ハロゲン含
有化合物と、(C)カチオン重合能を有する単位を少な
くとも1つ有する化合物とからなることを特徴とする光
架橋性感光材料。 j(2)活性ハロゲン含有化合物が、ジアリールヨード
ニウム塩または少な(とも1つのモノ、ジあるいはトリ
ハロメチル基により置換されたS−トリアジン化合物か
ら選ばれた少なくとも1種の化合物である特許請求の範
囲第1項記載の光架橋性感光材料。 (3) カチオン重合能を有する単位が、ビニルオキシ
基、ビニルチオ基、エポキシ基、エピスルフィド基であ
る特許請求の範囲第1項記載の光架橋性感光材料。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11359684A JPS60257444A (ja) | 1984-06-01 | 1984-06-01 | 光架橋性感光材料 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11359684A JPS60257444A (ja) | 1984-06-01 | 1984-06-01 | 光架橋性感光材料 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60257444A true JPS60257444A (ja) | 1985-12-19 |
JPH0416104B2 JPH0416104B2 (ja) | 1992-03-23 |
Family
ID=14616213
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11359684A Granted JPS60257444A (ja) | 1984-06-01 | 1984-06-01 | 光架橋性感光材料 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60257444A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62180359A (ja) * | 1986-02-04 | 1987-08-07 | Toyobo Co Ltd | 光重合性組成物 |
JPH0398051A (ja) * | 1989-09-11 | 1991-04-23 | Agency Of Ind Science & Technol | 可視光記録材料 |
JPH03113449A (ja) * | 1989-09-27 | 1991-05-14 | Agency Of Ind Science & Technol | 感可視光樹脂組成物 |
JPH04181944A (ja) * | 1990-11-16 | 1992-06-29 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | 可視光感光性組成物 |
AT412427B (de) * | 1999-12-21 | 2005-02-25 | Ciba Sc Holding Ag | Strahlungsempfindliche zusammensetzung |
WO2024053548A1 (ja) * | 2022-09-08 | 2024-03-14 | 日東電工株式会社 | 光硬化性樹脂シート |
-
1984
- 1984-06-01 JP JP11359684A patent/JPS60257444A/ja active Granted
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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