JPS62123720A - 真空容器の排気方法 - Google Patents
真空容器の排気方法Info
- Publication number
- JPS62123720A JPS62123720A JP26241285A JP26241285A JPS62123720A JP S62123720 A JPS62123720 A JP S62123720A JP 26241285 A JP26241285 A JP 26241285A JP 26241285 A JP26241285 A JP 26241285A JP S62123720 A JPS62123720 A JP S62123720A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- vacuum container
- container
- vacuum
- etching
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- ing And Chemical Polishing (AREA)
- Drying Of Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明はフッ素系や塩素系等の反応性の高いガスを使用
するドライエツチングに係り、特に真空容器の大気開放
後の排気に好適な真空容器の排気方法に関するものであ
る。
するドライエツチングに係り、特に真空容器の大気開放
後の排気に好適な真空容器の排気方法に関するものであ
る。
反応性の高い塩素系やフッ素系のガスそのものが、真空
ポンプのオイルやポンプそのものを劣化させるのはもち
ろんであるが、従来は真空容器の大気開放後の排気をそ
のままの大気中雰囲気の状態で行っていたため、真空ポ
ンプ内iこ大気が混入し、特に、大気中の酸素と水分が
ポンプオイル中の反応性物質と反応して固形物を生成し
真空ポンプやオイルの劣化を早め、オイル交換等のメン
テナンス周期が短期間であった。
ポンプのオイルやポンプそのものを劣化させるのはもち
ろんであるが、従来は真空容器の大気開放後の排気をそ
のままの大気中雰囲気の状態で行っていたため、真空ポ
ンプ内iこ大気が混入し、特に、大気中の酸素と水分が
ポンプオイル中の反応性物質と反応して固形物を生成し
真空ポンプやオイルの劣化を早め、オイル交換等のメン
テナンス周期が短期間であった。
なお、エツチングにおける廃ガス処理については、例え
ば半導体プロセス材料実務便覧(サイエンスフォーラム
)P、130〜1311こa己載されているが、この記
載にはなんら容器を排気する際の方法については触れて
いない。
ば半導体プロセス材料実務便覧(サイエンスフォーラム
)P、130〜1311こa己載されているが、この記
載にはなんら容器を排気する際の方法については触れて
いない。
本発明の目的は、エツチング排気を行う真空ポンプのオ
イルの劣化を防止するととも唱こ、真空ポンプ等のメン
テナンス周期を長くして生産性の向上を図ることにある
。
イルの劣化を防止するととも唱こ、真空ポンプ等のメン
テナンス周期を長くして生産性の向上を図ることにある
。
本発明は、真空容器であるエツチング室にN2ガスもし
くは希ガスによるパージ機構を設け、エツチング室に残
留した大気例えばN2ガスで置換した後に真空排気を行
うようにしたものである。
くは希ガスによるパージ機構を設け、エツチング室に残
留した大気例えばN2ガスで置換した後に真空排気を行
うようにしたものである。
以下、本発明の一実施例を第】図により説明する。
軍学容器1にエツチングガス供給システム2よりエツチ
ングガスを導入し、真空ポンプ5を介して排気しながら
エツチングを行う。
ングガスを導入し、真空ポンプ5を介して排気しながら
エツチングを行う。
例えば、BCl3ガスを用いてエツチングを行った後、
真空容器1内を水やアルコール等を使用してクリーニン
グする目的で真空容器1を大気開放する。すると、クリ
ーニング後の真空容器1にはjz気や水分が残留する。
真空容器1内を水やアルコール等を使用してクリーニン
グする目的で真空容器1を大気開放する。すると、クリ
ーニング後の真空容器1にはjz気や水分が残留する。
この大気や水分を真空ポンプ5で排気すれば真空ポンプ
5のオイルが劣化することになる。そこで、そのように
しないために真空容器1を排気する前にガス導入口3よ
り例えばN2ガスを真空容器IIこ導入する。また、同
時にガス排気口4よりN2ガスを排気し、真空容器1内
をN2ガスで置換える。
5のオイルが劣化することになる。そこで、そのように
しないために真空容器1を排気する前にガス導入口3よ
り例えばN2ガスを真空容器IIこ導入する。また、同
時にガス排気口4よりN2ガスを排気し、真空容器1内
をN2ガスで置換える。
その後、真空容器lを真空ポンプ5で排気すると、真空
ポンプ5内に大気や水分を吸引することはなくなる。
ポンプ5内に大気や水分を吸引することはなくなる。
本実施例によれば、真空容器を大気開放した後でも真空
ポンプ内に大気を吸引することがなく、真空ポンプのオ
イルの劣化を防止する効果がアル。
ポンプ内に大気を吸引することがなく、真空ポンプのオ
イルの劣化を防止する効果がアル。
真空容器内の置換の完了を検知するためには、真空容器
そのものもしくは配管に酸素検知器を設ければよい。さ
らに、水分に対しては供給するN2ガスの温度を200
℃程度擾こあらかじめ昇温しで真空容器に導々方法によ
り、除去することが可能である。
そのものもしくは配管に酸素検知器を設ければよい。さ
らに、水分に対しては供給するN2ガスの温度を200
℃程度擾こあらかじめ昇温しで真空容器に導々方法によ
り、除去することが可能である。
本実施例ではN2ガスを用いたが、H6,Ar等の希ガ
スでも同等の効果が得られる。
スでも同等の効果が得られる。
第2図は、従来方法と本発明方法における真空ポンプの
オイル交換周期を比較したものである。
オイル交換周期を比較したものである。
本発明によれば、エツチング排気系の真空ポンプに大気
を吸引することがないので、真空ポンプのオイルの劣化
防止やメンテナンス周期の延長などの効果がある。
を吸引することがないので、真空ポンプのオイルの劣化
防止やメンテナンス周期の延長などの効果がある。
第1図は本発明の方法を適用するエツチング装置の構成
図、第2図は従来方法と本発明方法を比較したグラフで
ある。 1・・・・・・真空容器、2・・・・・・エツチングガ
ス供給システム、3・・・・・・ガス導入口、4・・・
・・・ガス[C口、5・・・・・・真空ポンプ
、・′1代理人 弁理± 41
,11 ユ 、 (才1図 a−−−−一カ′°スjIF気、ロ 5−−−−−−真庄ポ〉グ
図、第2図は従来方法と本発明方法を比較したグラフで
ある。 1・・・・・・真空容器、2・・・・・・エツチングガ
ス供給システム、3・・・・・・ガス導入口、4・・・
・・・ガス[C口、5・・・・・・真空ポンプ
、・′1代理人 弁理± 41
,11 ユ 、 (才1図 a−−−−一カ′°スjIF気、ロ 5−−−−−−真庄ポ〉グ
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、エッチングガスを導入する装置と、それを排気する
装置より成る真空容器のドライエッチング装置において
、大気圧から該真空容器を排気する前に、ドライ窒素も
しくは希ガスを供給して容器内ガス成分を置換すること
を特徴とする真空容器の排気方法。 2、上記ドライ窒素もしくは希ガスの供給は、真空容器
より排出する配管に酸素検知器を設け、その酸素量によ
り供給を制御することを特徴とする特許請求の範囲第1
項記載の真空容器の排気方法。 3、上記ドライ窒素もしくは希ガスを真空容器へ導く前
に加熱することを特徴とする特許請求の範囲第1項記載
の真空容器の排気方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26241285A JPS62123720A (ja) | 1985-11-25 | 1985-11-25 | 真空容器の排気方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26241285A JPS62123720A (ja) | 1985-11-25 | 1985-11-25 | 真空容器の排気方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62123720A true JPS62123720A (ja) | 1987-06-05 |
Family
ID=17375423
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26241285A Pending JPS62123720A (ja) | 1985-11-25 | 1985-11-25 | 真空容器の排気方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62123720A (ja) |
-
1985
- 1985-11-25 JP JP26241285A patent/JPS62123720A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5536330A (en) | Method of purging and pumping vacuum chamber to ultra-high vacuum | |
| JP3396431B2 (ja) | 酸化処理方法および酸化処理装置 | |
| KR940006184A (ko) | 감압처리장치 및 감압처리방법 | |
| US4655800A (en) | Waste gas exhaust system for vacuum process apparatus | |
| US5714011A (en) | Diluted nitrogen trifluoride thermal cleaning process | |
| JPS62123720A (ja) | 真空容器の排気方法 | |
| JPS6370428A (ja) | プラズマ処理装置 | |
| JPH113867A (ja) | 半導体製造装置 | |
| JPH0476492B2 (ja) | ||
| JPS5812342B2 (ja) | 連続ドライエッチング方法 | |
| JPH01189114A (ja) | 気相成長装置 | |
| JP2520592Y2 (ja) | 減圧排気装置 | |
| JPS63285924A (ja) | 半導体製造装置 | |
| JPS58132931A (ja) | プラズマプロセスの処理方法 | |
| JP2952795B2 (ja) | 半導体装置の製造方法及び半導体製造装置のパージ方法 | |
| US20020096495A1 (en) | Apparatus and method for monitoring backflow vapors | |
| JPH0212914A (ja) | エッチング装置 | |
| JPH05335256A (ja) | 半導体製造装置及びその清掃方法 | |
| JP2004111811A (ja) | ドライエッチング装置、ドライエッチング装置のクリーニング方法、電気光学装置の製造装置及び電気光学装置の製造方法 | |
| DE3529813A1 (de) | Verfahren zur ionenplasma-aufdampfung und anlage zur durchfuehrung dieses verfahrens | |
| JPH0677233U (ja) | Cvd装置の反応室を排気する排気装置 | |
| JPH03101225A (ja) | 半導体製造装置 | |
| JP2002118067A (ja) | 真空処理方法及び真空処理装置 | |
| JPH03161042A (ja) | 真空排気系 | |
| JPH0422121A (ja) | 半導体製造装置 |