JPS62123080A - 無機層状多孔体の製法 - Google Patents

無機層状多孔体の製法

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JPS62123080A
JPS62123080A JP26170885A JP26170885A JPS62123080A JP S62123080 A JPS62123080 A JP S62123080A JP 26170885 A JP26170885 A JP 26170885A JP 26170885 A JP26170885 A JP 26170885A JP S62123080 A JPS62123080 A JP S62123080A
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JP
Japan
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compound
inorganic
layered porous
porous material
inorganic layered
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JP26170885A
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English (en)
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平尾 正三
勝 横山
隆 岸本
孝一 高濱
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Panasonic Electric Works Co Ltd
Original Assignee
Matsushita Electric Works Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 この発明は、断熱性に優れた無機層状多孔体の製法に関
する。
〔背景技術〕
空隙を有する層状多孔体として、膨潤性層状化合物の層
間に水酸化物等の異種物質を挿入反応させたインターカ
レーション物質がある(たとえば、特開昭54−588
4号公報および特開昭54−16386号公報参照)。
ところが、このものは、眉間距離が10Å以下と小さい
ため、吸着水の影響を受けやすく、また、断熱性の点で
もあまりすぐれているとはいえないものである。
これに対し、微細多孔質粘土材料として、スメクタイト
型鉱物に水溶性高分子化合物を混合したものを使用し、
それに、陽イオン性酸化物あるいは重合体状シリカをイ
ンターカレーションすることが、特開昭60−1318
78号公相、特開昭6(1137812号公報、特開昭
60−137813号公報、特開昭60−155526
号公報、ならびに、特開昭60−166217号公報等
に示されている。これらの方法によれば、層間距離を先
述のインターカレーション物質の場合の10Å以下から
、30人程度にまで拡げることができる。しかしながら
、この方法によって形成された層状多孔体では、前述し
たように層間距離を30人程度にまで拡げることができ
ても、その空隙内に水分が吸着されやすいため、この水
分の吸着による各層間の熱的な短絡が発生することがさ
けられず、熱物性の向上が期待できない。
〔発明の目的〕
この発明は、このような現状に鑑みて、層間に比較的大
きな空隙を有して断熱効果に優れた無機層状多孔体の製
法を提供するものである。
〔発明の開示〕
この発明は、このような目的を達成するために、膨潤さ
せた膨潤性層状化合物の層間に、あらかじめフッ素処理
を施したコロイド状無機化合物と陽イオン性無機化合物
および金属アルコラートのうちの少なくとも一方とを反
応させて得られる反応物を挿入し、乾燥を行って前記層
間に微細な空隙を形成するようにする無機層状多孔体の
製法を要旨とする。
以下に、この発明を、その1実施例を表す図面を参照し
ながら詳しく説明する。
構造を模式化してあられした第1図にみるように、この
発明の無機層状多孔体の製法によって得られる無機層状
多孔体Aは、無機層状化合物の層1.1間に、無機化合
物2が挿入固定されている。そのため、その眉間の空隙
3が30〜600人に保持されている。
膨潤性層状化合物としては、Na−モンモリロナイト、
Ca−モンモリロナイト酸性白土、3−八面体合成スメ
クタイトおよび合成雲母(Naフッ素四ケイ素雲母)等
が挙げられるが、膨潤性層状化合物でありさえすれば、
これらに限られるものではない。Ca−モンモリロナイ
トおよび酸性白土等のような膨潤性層状化合物を主材と
して用いる場合には、強い剪断力を加えないと膨潤しに
くいので、膨潤時は混練する必要がある。
無機化合物となる反応物としては、あらかじめフッ素処
理を施したコロイド状無機化合物に、陽イオン性無機化
合物あるいは金属アルコラートを反応させたものが用い
られる。コロイド状無機化合物としては、S iOz 
+  Sbz Owl +  l’;’e203、A1
□O1およびZrO2などが挙げられ、これらが単独で
、あるいは、複数で用いられる。
このようなコロイド状無機化合物をフッ素処理する方法
も特に限定はされないが、たとえば、前記コロイド状無
機化合物をフッ酸と混合して反応させる等の方法が挙げ
られる。以上のように、コロイド状無機化合物をフッ素
処理するのは、このコロイド状無機化合物と、前記陽イ
オン性無機化合物、あるいは、金属アルコラートとの反
応を円滑に行うためである。すなわち、このようなコロ
・イド状無機化合物は、通常、その表面がマイナスに帯
電しており、それによってコロイド状態が破壊される恐
れがあるため、Na”やNH4”等を配合して前記コロ
イド状無機化合物を有効に単分散させ、コロイド状態の
安定化をはかつている。ところが、このようなコロイド
状無機化合物では、その表面付近にある前記N a ゛
やNH4”が障害となって、前記陽イオン性無機化合物
や金属アルコラートとの反応を円滑に進行させることが
できない。そこで、この発明では、このようなNa”や
N[(4°等を、フッ酸等によって〕・ノ素処理するこ
とで、NaFやNHaF等として除去しておいてから、
あらためて、前記陽イオン性無機化合物や金属アノトコ
ラードと反応させるようにすることで、この反応を円滑
に進行させるようにしたのである。陽イオン性無機化合
物としては、TiCl4などのチタン系化合物、  Z
r0CIzなどのジルコニウム系化合物、ハフニウム系
化合物、リン系化合物、ホウ素系化合物などが挙げられ
る。
金属アルコラートとしては、Si  (OR) 4− 
Ti  (C)R) 4 、  Zr (OR) 4 
、  PO(OR) 3、B (OR):lなどが挙げ
られる。そして、これらが単独であるいは複数で用いら
れる。
つぎに、この無機層状多孔体の製法について、そのl実
施例を模式化して表した図面に基づいて詳しく説明する
膨潤性粘土鉱物のような物質は、第2図に示すように、
膨潤性層状化合物AIの集まりでできている。主材たる
この化合物A1を水などの溶媒と混合(必要に応じ混練
)して、第3図にみるように、層1,1間に溶媒4を含
ませてあらかじめ膨潤させておく。溶媒としては、一般
に水が用いられるが、それ以外の極性溶媒、たとえば、
メタノール、DMF、DMSOを単独で、あるいは、混
合して用いるようにしても構わない。つぎに、あらかじ
め、前述したような方法でフッ素処理しておいたコロイ
ド状無機化合物と、陽イオン性無機化合物または金属ア
ルコラートとを反応させる。
この反応によって、陽イオン性無機化合物または金属ア
ルコラート中の陽イオンにより表面が正電荷に帯電した
反応物2′が得られる。こうしてできた反応物2′をあ
らかじめ膨潤させておいた膨潤性層状化合物と混合して
、第4図に示すように層状化合物のN1.1間に挿入す
る。この挿入によって、反応物2′の表面正電荷がN1
,1間のN a ”などの陽イオンとイオン交換して層
1表面のマイナス部分と電気的に結合して、層1,1間
を押し広げたまま保持することができると考えられる。
混合時の温度は30〜90℃の範囲、特に70°C前後
で行うことが望ましい。この混合物を遠心分離して脱水
を行ったのち、第5図にみるように、ヘラなどで板状に
配向させる。この板状材を60〜70℃で熱して乾燥し
たのち、200〜600°C1好ましくは450〜55
0°Cで焼成すると、層間に無機化合物2が挿入された
板状の無機層状多孔体を得ることができる。
この発明において、反応物2′の挿入は、膨潤性層状化
合物の膨潤と同時、すなわち膨潤性層状化合物を膨潤さ
せつつ行ってもよい。また、焼成をせず乾燥だけで成形
体を得るようにしても構わない。しかしながら、焼成ま
で行う方が構造の安定が得られるので好ましい。
つぎに、実施例を詳しく説明する。
(実施例1) コロイド状無機化合物としてコロイダルシリカ(日照化
学工業Im製:平均粒径50人、20重1%水溶液)を
用い、これにフン酸を加えて混合し、フッ素処理を行っ
た。なお、このとき、フ・ノ酸の添加量は、シリカゾル
中のNaイオンと等モルになるようにした。つぎに、フ
・ノ素処理が終了した前記シリカゾルに対し、陽イオン
性無機化合物として塩化チタン(牛丼化学薬品■製特級
)4モル/l水溶液を反応させて反応物を得た。この反
応物をあらかじめ水で膨潤させておいたNa−モンモリ
ロナイト (クニミネ工業面製りニピアF)。
に加え、約60℃で混合反応させた。その後、この混合
物を遠心分離して水分を除去し、残った固形物を配向さ
せて60〜70℃の温度で熱風乾燥を行った。これをさ
らに、450〜500℃で2時間焼成し、無機層状多孔
体からなる厚み3曙璽の板状成形体試料を得た。
なお、Na−モンモリロナイト、水、コロイダルシリカ
、塩化チタンの配合比は、モル比で1=7000:10
:1であった。
(実施例2) 金属アルコラートとしてのT j (OCx Hl)4
 〔チタン酸テトライソプロピル〕を塩化チタンのかわ
りに用いるようにした以外は、実施例1と同様の操作を
行い、板状成形体試料を得た。
(実施例3) コロイド状無機化合物として、平均粒径の異なるコロイ
ダルシリカ(平均粒径130人)を用いた以外は、実施
例1と同様の操作を行い、板状成形体試料を得た。
(実施例4) 膨潤性無機層状化合物として、Na−モンモリロナイト
のかわりに、合成雲母を用いた以外は、実施例1と同様
の操作を行い、板状成形体試料を得た。
(実施例5) コロイド状無機化合物として、平均粒径の異なるコロイ
ダルシリカ(平均粒径130人)を用いた以外は、実施
例4と同様の操作を行い、板状成形体試料を得た。
(比較例1) コロイド状無機化合物としてコロイダルシリカ(平均粒
度130人、20重量%水溶液)を、膨潤性層状化合物
としてNa−モンモリロナイト(クニミネ工業(構製ク
ニピアF)を、それぞれ使用し、これを水溶性高分子化
合物であるポリエチレンオキサイド(明放化学(復製ア
ルコックスE75、平均分子量150万〜220万)お
よび水とともに70℃で40分間混合した。この混合物
をベラなどで板状に配合させ乾燥後、400℃、2時間
の焼成を行い、板状成形体試料を得た。
なお、Na−モンモリロナイト、水、コロイダルシリカ
、ポリエチレンオキサイドの配合比は、重量比で1:1
0:3:0.1であった。
これら実施例で得られた成形体試料の開花率。
層間距離6密度、熱伝導率を測定し、その結果を、公知
の方法で得た無機層状多孔体からなる成形体試料1石膏
ボードおよび砂の成形体の3つの比較例の結果と併せて
第1表に示す。なお、開孔率はつぎのような式 によって得られる。比表面積は窒素吸着法におけるBE
Tの方法、平均層間距離(細孔分布)は窒素吸着法にお
けるci法を用いて得た。窒素吸着装置はカンタクロー
ム社のオートソーブ6を用いた。熱伝導測定は、キセノ
ンフラッシュ法による熱伝導率測定装置を用いた。
〔発明の効果〕
この発明の無機層状多孔体の製法は、以上のように構成
されているため、無機化合物によって全体の25%以上
が層間隔を30〜600人の保持されて開孔率が25%
以上になっており、低熱伝導率であって断熱材等に有用
な断熱性に非常にすくれ、かつ、経年劣化も少ない無機
層状多孔体を確実に得ることができるようになる。
【図面の簡単な説明】
第1図は無機層状多孔体の模式的側面図、第2図は膨潤
性層状化合物の模式的側面図、第3図はその膨潤に至る
状態を説明する説明図、第4図は溶液中における無機化
合物の挿入途中の状態を説明する説明図、第5図は無機
層状多孔体を配向させ板状にした状態を説明する説明図
である。 A・・・無機層状多孔体 A、・・・膨潤性態a層状化
合物 1・・・層 2′・・・反応物 3・・・空隙代
理人 弁理士  松 本 武 彦 第1図 第2図 第3図 第4図 第5図 署f積す堅ネ往i正;)(自発 昭和61年 1月18日

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)膨潤させた膨潤性層状化合物の層間に、あらかじ
    めフッ素処理を施したコロイド状無機化合物と陽イオン
    性無機化合物および金属アルコラートのうちの少なくと
    も一方とを反応させて得られる反応物を挿入し、乾燥を
    行って前記層間に微細な空隙を形成するようにする無機
    層状多孔体の製法。
  2. (2)コロイド状無機化合物が、SiO_2、Sb_2
    O_3、Fe_2O_3、Al_2O_3およびZrO
    _2からなる群より選ばれた少なくとも1つである特許
    請求の範囲第1項記載の無機層状多孔体の製法。
  3. (3)陽イオン性無機化合物がチタン系化合物、ジルコ
    ニウム系化合物、ハフニウム系化合物、リン系化合物、
    および、ホウ素系化合物からなる群より選ばれた少なく
    とも1つの化合物である特許請求の範囲第1項または第
    2項記載の無機層状多孔体の製法。
  4. (4)金属アルコラートが、Si(OR)_4、Ti(
    OR)_4、Zr(OR)_4、PO(OR)_3、お
    よび、B(OR)_3からなる群より選ばれた少なくと
    も1つである特許請求の範囲第1項ないし第3項のいず
    れかに記載の無機層状多孔体の製法。
  5. (5)フッ素処理が、コロイド状無機化合物をフッ酸と
    混合し反応させるものである特許請求の範囲第1項ない
    し第4項のいずれかに記載の無機層状多孔体の製法。
  6. (6)膨潤性層状化合物が、Na−モンモリロナイト、
    Ca−モンモリロナイト、酸性白土、3−八面体合成ス
    メクタイトおよび合成雲母からなる群より選ばれた少な
    くとも1つである特許請求の範囲第1項ないし第5項の
    いずれかに記載の無機層状多孔体の製法。
  7. (7)空隙が30〜600Åである特許請求の範囲第1
    項ないし第6項のいずれかに記載の無機層状多孔体の製
    法。
  8. (8)乾燥を行ったのち、焼成を行う特許請求の範囲第
    1項ないし第7項のいずれかに記載の無機層状多孔体の
    製法。
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