JPS62117301A - 抵抗体を有する電子回路基板 - Google Patents

抵抗体を有する電子回路基板

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JPS62117301A
JPS62117301A JP60255847A JP25584785A JPS62117301A JP S62117301 A JPS62117301 A JP S62117301A JP 60255847 A JP60255847 A JP 60255847A JP 25584785 A JP25584785 A JP 25584785A JP S62117301 A JPS62117301 A JP S62117301A
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JP
Japan
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resistor
glass
electronic circuit
resistance element
circuit substrate
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JP60255847A
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昌志 深谷
信介 矢野
進 西垣
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Narumi China Corp
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Narumi China Corp
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は集積回路等に実装するために使用する低温焼成
基板、殊に、同時焼成によって形成される抵抗体を有す
る電子回路基板に関するものである。
(従来技術とその問題点) 従来、低温焼成基板に抵抗体を同時焼成によって形成す
る場合、抵抗体と基板材料(絶縁体)の焼成収縮の不一
致或は抵抗体に使用するガラスと基板材料(絶縁体)に
使用するガラスとの間に生ずる成分の拡散又は反応の様
な化学変化によって反りや泡の発生が避けられなかった
また、基板材料(絶縁体)と同一組成のガラスを抵抗体
に使用すると抵抗の重要な特性の一つである温度係数(
TCR)及び抵抗体の反りを広い抵抗シートの範囲で所
望の設定範囲に納めるととは不可能であった。
(発明の目的) 本発明は反りが少なく、温度係数(TCR)の小さい同
時焼成によって形成される抵抗体を有する電子回路基板
を提供することを目的とするものである。
(問題点を解決するだめの手段) 本発明は、アルミナ及びガラスからなる絶縁体層と、ル
テニウム化合物及びガラス/アルミナを主成分とするフ
リットからなる抵抗体とを有する低温焼成セラミック電
子回路基板の抵抗体のフリット成分と絶縁体層のボウ酸
(B206)の含有量の差を0.5〜30重t /、O
−セントとし、反り及び温度係数(TCR)の小さい電
子回路基板を得るものである。
(実施例) まず1本発明に使用する絶縁体層及び抵抗体の材料につ
いて説明する。
絶縁体層はアルミナとガラスを主成分としており、ガラ
スはMgO又はc a o  s + 02  A12
03−B2O3系で、その組成が重量パーセントで、 
Mo (但1〜。
M:Ca、Mg):10〜55チ、5I02:45〜7
0チ、AIO:O〜30チ、 B2O3: 0〜30チ
のものを使用する。このガラスには重縫、p−十ントで
10%までの不純物を含むことがある。
そして、このガラス粉末40〜65 重量”−セントに
A120360〜35重量パーセントを混合して使用す
る。
また、抵抗体はルテニウム化合物及びガラス/アルミナ
を主成分としており、ガラスは、 MgO、XはCaO
−5in2−A1203− B20.系で、その組成が
重量パーセントでMo (世し、、 M: Ca 、M
g ): 10〜55係、Sio2: 45〜70%、
 A1203: 0〜3旧hB203: 1〜50チの
ものを使用1−7.こノ1−に所定届のAl2O3を混
合し7ても良い。なお、このガラスには。
重fit /?−セントで10%″thでの不純物を含
むことがある。
この〃ラスフリットにルテニウム(Ru )化合物とし
て、無定形又は結晶形RLIO,,或←1一般に・ぐイ
ロBaRu0  IHa RuO、5rRuO* Ca
Ru0  * Co2Rub41LaRu0 1 Li
Ru0  、又はAg B + Ru 20 b等を重
叶ノや一セストでRu系化合物10〜70f)に対し、
ガラスフリット90〜130チを混合して使用する。
この抵抗体ハ、エチルセルロース、ポリビニールブチラ
ール或はメタクリル樹脂等の有機重合体及びテルピネオ
ール、ブチルカルピトール或はアセテート等の溶剤を用
いてペースト化して用いる。
そして、前記抵抗体に使用するガラス(フリット成分)
には絶縁体層に使用するガラスよりB2O3を多くする
ことが必要でその量は の式に基づいて算出されるB2O3の合計の差が0.5
〜30重量パ重量パーマント必要がある。なおり203
の含量の差が0.5チ以下では反りが大きくな9、また
、30%以上になるとガラスの作成が困難となり気泡の
発生が多く不適である。
次に基板の製作及び反り、温度係数の測定結果について
説明する。
まず1重量ノ?−セントでCaO: 25%h S+0
2 ’62チ、AIO:6%1B203=7チからなる
平均粒度2μmのガラス62重量部に対して、平均粒度
1.5μmのアルミナを38重量部混合し、ポリメチル
メタクレートを結合剤として常法によりテープ厚さ0.
5 mmのグリーンテーゾを作成した。
このグリーンテーゾを常温から900℃までの昇温2時
間、900℃で20分間ポール!−“、 900℃から
常温゛までの冷却時間1時間で焼成した。
焼成したグリーンテーゾを35w角に切断して。
この上面に30胡四方に第1表に示すQ fii類の組
成の異なる11(抗体波−ストを印刷して焼成した。
以下余白 第1表に19種類の組成の異なる抵抗体ペーストと夫々
の焼成後のシート抵抗、温度係数及び反りの測定結果で
ある。
なお1反り=: i−t、焼成品全平板上に置き、平板
から最十部壕での最大距離(見掛厚さ)の測定値と局部
測定による真の厚みの測定値の差で表示している。
第1表かられかる通り、温度係数は9種の実施例がいず
れもO土380 PP・■を以内に納まりまた反りは9
種の実施例中7例がOI最大でも400μと小さく押え
ることができた。
(発明の効果) 以上の通り1本発明によれば、絶縁体層に対し抵抗体の
B2O3含有量を増やすことによりガラスのぬれ性を改
善して、抵抗体の同時焼成による反りを少くすると共に
、温度係数(TCR)は負荷側に移行して零に近い値に
することが可能となった。
手続補正書(自発) 昭和67年9月/り目

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1)アルミナ及びガラスからなる絶縁体層と、ルテニウ
    ム化合物及びガラス/アルミナを主成分とするフリット
    からなる抵抗体とを有する低温焼成セラミック電子回路
    基板において、抵抗体のフリット成分と絶縁体層のB_
    2O_3の含有量の差が0.5〜30重量パーセントで
    あることを特徴とする抵抗体を有する電子回路基板。
JP60255847A 1985-11-16 1985-11-16 抵抗体を有する電子回路基板 Expired - Lifetime JPH0658841B2 (ja)

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JPS62117301A true JPS62117301A (ja) 1987-05-28
JPH0658841B2 JPH0658841B2 (ja) 1994-08-03

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03211801A (ja) * 1990-01-17 1991-09-17 Sumitomo Metal Mining Co Ltd 厚膜用抵抗ペーストの製造方法

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5817651A (ja) * 1981-07-24 1983-02-01 Hitachi Ltd 多層回路板とその製造方法

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5817651A (ja) * 1981-07-24 1983-02-01 Hitachi Ltd 多層回路板とその製造方法

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JPH03211801A (ja) * 1990-01-17 1991-09-17 Sumitomo Metal Mining Co Ltd 厚膜用抵抗ペーストの製造方法

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