JPS62113416A - 電解コンデンサ用アルミニウム箔のエツチング方法 - Google Patents
電解コンデンサ用アルミニウム箔のエツチング方法Info
- Publication number
- JPS62113416A JPS62113416A JP25404585A JP25404585A JPS62113416A JP S62113416 A JPS62113416 A JP S62113416A JP 25404585 A JP25404585 A JP 25404585A JP 25404585 A JP25404585 A JP 25404585A JP S62113416 A JPS62113416 A JP S62113416A
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- Japan
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- aluminum foil
- etching
- electrolytic capacitor
- etching method
- etched
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は、電解コンデンサの電極に使用されるアルミニ
ウム箔のエツチング方法に関するものである。
ウム箔のエツチング方法に関するものである。
［従来の技術］
一般に５電解コンデンサにおいては′電極に使用される
アルミニウム箔の表面積を拡大するためにエツチング実
験を施している。エツチング方法としては、直流電源を
使用した直流エツチング方法、交流電源を使用した交流
エツチング方法、パルス電源を使用したパルスエツチン
グ方法あるいはこれらを組合せた複合エツチング方法な
どがある。
アルミニウム箔の表面積を拡大するためにエツチング実
験を施している。エツチング方法としては、直流電源を
使用した直流エツチング方法、交流電源を使用した交流
エツチング方法、パルス電源を使用したパルスエツチン
グ方法あるいはこれらを組合せた複合エツチング方法な
どがある。
これらエツチング方法のうち、交流エツチング方法とし
て、例えば特公昭５４−４３１７７号ｒ電解蓄′准器用
アルミニウム箔の交流エツチング方法１が良く知られて
いる。
て、例えば特公昭５４−４３１７７号ｒ電解蓄′准器用
アルミニウム箔の交流エツチング方法１が良く知られて
いる。
［発明が解決しようとする問題点］
交流エツチングに用いられる交流波形は正弦波が主流で
あり、特公昭５４−４３１７７号においても周ｍ数が３
〜３０Ｈｚの正弦波が使用されている。ところで、正弦
波はその電圧勾配が逐次変化するものである。即ち、第
３図を参照して分かるように、電位か負の電（ヴから正
の電位に変る瞬間（図中のＡ点）に電圧勾配が最大とな
り、波高値（図中のＢ点）に向うに従って小さくなる。
あり、特公昭５４−４３１７７号においても周ｍ数が３
〜３０Ｈｚの正弦波が使用されている。ところで、正弦
波はその電圧勾配が逐次変化するものである。即ち、第
３図を参照して分かるように、電位か負の電（ヴから正
の電位に変る瞬間（図中のＡ点）に電圧勾配が最大とな
り、波高値（図中のＢ点）に向うに従って小さくなる。
種々のエツチング実験の結果、交流波形のこのような特
徴がアルミニウム箔のエツチング進行過程において、大
きく関与していることが判明した。
徴がアルミニウム箔のエツチング進行過程において、大
きく関与していることが判明した。
即ち、Ａ点では急激な電流の変化が起こるためにエツチ
ング槽中のカーボン電極から印加される電流がアルミニ
ウム箔の全面にわたって均一に分散する航にアルミニウ
ム箔の表面の特定箇所に集中してしまい、これが周期的
に繰返されることによりアルミニウム箔の表面には粗い
海面状構造のエツチングが進行することになる。
ング槽中のカーボン電極から印加される電流がアルミニ
ウム箔の全面にわたって均一に分散する航にアルミニウ
ム箔の表面の特定箇所に集中してしまい、これが周期的
に繰返されることによりアルミニウム箔の表面には粗い
海面状構造のエツチングが進行することになる。
したがって、正弦波を利用した交流エツチング方法では
アルミニウム箔の表面積をより一層拡大することの可能
な微細な海綿状構造のエツチド・アルミニウム箔を得る
ことは困難なものであった。
アルミニウム箔の表面積をより一層拡大することの可能
な微細な海綿状構造のエツチド・アルミニウム箔を得る
ことは困難なものであった。
［問題点を解決するための手段］
しかるに、本発明はアルミニウム箔の表面積をより一層
拡大することが可能な微細な海綿状構造を存するエツチ
ド・アルミニウム箔を得ることを目的としたエツチング
方法を提供するもので、具体的には、三角波を利用した
交流エツチング方法を提供をするものである。
拡大することが可能な微細な海綿状構造を存するエツチ
ド・アルミニウム箔を得ることを目的としたエツチング
方法を提供するもので、具体的には、三角波を利用した
交流エツチング方法を提供をするものである。
三角波は第１図に示すように正弦波とは異なり、電圧勾
配が逐次変化することなく長期間にわたって一定であり
、エツチング槽中のアルミニウム箔に電流が均一に分散
し、これにより微細な海綿状構造のエツチド・アルミニ
ウム箔を得ることができるものである。
配が逐次変化することなく長期間にわたって一定であり
、エツチング槽中のアルミニウム箔に電流が均一に分散
し、これにより微細な海綿状構造のエツチド・アルミニ
ウム箔を得ることができるものである。
［実施例］
以下に、本発明に係るエツチング方法の一実施例につい
て述べる。
て述べる。
アルミニウム箔として純度が９９．９％以上で、０．１
ｍｍＰＪのものを試料とし、このアルミニウム箔を液温
か４５℃で、塩酸［）（ｃβ］が２モル、塩化アルミニ
ウム［Ａｌ２０１３］が０．３モル、硫酸［Ｈ２ＳＯ４
］が０．０１モルおよびリン酸［Ｈ，ＰＯ４］が０，０
５モルからなる塩化物を含む水溶液中に浸漬し、電流密
度が４００ｍ Ａ ／’ Ｃｍ ’であ７て、波形が三
角波の電流を周波数を３〜５０Ｈｚの範囲で変化させて
印加した。
ｍｍＰＪのものを試料とし、このアルミニウム箔を液温
か４５℃で、塩酸［）（ｃβ］が２モル、塩化アルミニ
ウム［Ａｌ２０１３］が０．３モル、硫酸［Ｈ２ＳＯ４
］が０．０１モルおよびリン酸［Ｈ，ＰＯ４］が０，０
５モルからなる塩化物を含む水溶液中に浸漬し、電流密
度が４００ｍ Ａ ／’ Ｃｍ ’であ７て、波形が三
角波の電流を周波数を３〜５０Ｈｚの範囲で変化させて
印加した。
このようにして得たエツチド・アルミニウム箔を所要の
化成液、例えばアジピン酸アンモニウム系水溶液にて１
００ｖの電圧を印加して化成し、静電容量を測定したと
ころ、第２図の実線にて示すような特性が得られた。特
に、三角波の周波数が１３Ｈｚで静電容量が最大の８．
３μＦ ／ ｃ ｍ２の箔を得ることができた。
化成液、例えばアジピン酸アンモニウム系水溶液にて１
００ｖの電圧を印加して化成し、静電容量を測定したと
ころ、第２図の実線にて示すような特性が得られた。特
に、三角波の周波数が１３Ｈｚで静電容量が最大の８．
３μＦ ／ ｃ ｍ２の箔を得ることができた。
なお、エツチング液の条件としては塩酸［Ｈｃβ］が１
〜２．５モル、塩化アルミニウム［ＡＡｃａｌ、］が０
０．１〜１．０モル硫酸［Ｈ２Ｓ。
〜２．５モル、塩化アルミニウム［ＡＡｃａｌ、］が０
０．１〜１．０モル硫酸［Ｈ２Ｓ。
４コｈ＜０．００５〜０．０ｓ（−ル、リンｖｉ［Ｈ２
ＳＯ４］が０．０１〜０．１モルの範囲で設定でき、ま
た液温も４０〜６０℃の範囲で設定できる。電流密度は
３００〜５００ ｍ Ａ ／ Ｃｍ ２の範囲で設定で
きる。
ＳＯ４］が０．０１〜０．１モルの範囲で設定でき、ま
た液温も４０〜６０℃の範囲で設定できる。電流密度は
３００〜５００ ｍ Ａ ／ Ｃｍ ２の範囲で設定で
きる。
［効宋］
従来の正弦波を利用したエツチング方法によって１１ら
れたエツチド・アルミニウム箔についての静電容量特性
を第２図中に破線にて従来例として併記し１本発明実施
例と比較する。第２図から分かるように、本発明実施例
によると、三角波の周波数が７〜２０Ｈｚの範囲におい
て、従来のエツチド・アルミニラ箔に比較し・て微細な
海綿状構造のエツチング構造となるために、エツチド・
アルミニウム箔に対して１００■以下の耐圧皮膜を形成
する場合、従来のエツチド・アルミニウム箔より高い静
電容量を呈するエツチド・アルミニラ！、箔を得ること
ができる。
れたエツチド・アルミニウム箔についての静電容量特性
を第２図中に破線にて従来例として併記し１本発明実施
例と比較する。第２図から分かるように、本発明実施例
によると、三角波の周波数が７〜２０Ｈｚの範囲におい
て、従来のエツチド・アルミニラ箔に比較し・て微細な
海綿状構造のエツチング構造となるために、エツチド・
アルミニウム箔に対して１００■以下の耐圧皮膜を形成
する場合、従来のエツチド・アルミニウム箔より高い静
電容量を呈するエツチド・アルミニラ！、箔を得ること
ができる。
次に、本発明によって得たエツチド・アルミニウム箔と
上記従来例によるエツチド・アルミニウム箔との折曲強
度の比較を第１表に示す。本発明実施例によると、従来
例より折曲強度の大きいエツチド・アルミニウム箔を得
ることができる。
上記従来例によるエツチド・アルミニウム箔との折曲強
度の比較を第１表に示す。本発明実施例によると、従来
例より折曲強度の大きいエツチド・アルミニウム箔を得
ることができる。
第１表 折曲強度
第１図は本発明に係るエツチング方法を説明するだめの
三角波形を示す図、第２図は静電容量特性図、第３図は
従来のエツチング方法を説明するための正弦波形を示す
図である。 特許出願人 エルナー株式会社 第１図 第２図 一衷哀［Ｈ＝）
三角波形を示す図、第２図は静電容量特性図、第３図は
従来のエツチング方法を説明するための正弦波形を示す
図である。 特許出願人 エルナー株式会社 第１図 第２図 一衷哀［Ｈ＝）
Claims (1)
- （１）アルミニウム箔を交流エッチングする方法におい
て、周波数が７〜２０Ｈｚの三角波によってアルミニウ
ム箔をエッチングすることを特徴とした電解コンデンサ
用アルミニウム箔のエッチング方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25404585A JPS62113416A (ja) | 1985-11-13 | 1985-11-13 | 電解コンデンサ用アルミニウム箔のエツチング方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25404585A JPS62113416A (ja) | 1985-11-13 | 1985-11-13 | 電解コンデンサ用アルミニウム箔のエツチング方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62113416A true JPS62113416A (ja) | 1987-05-25 |
Family
ID=17259466
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25404585A Pending JPS62113416A (ja) | 1985-11-13 | 1985-11-13 | 電解コンデンサ用アルミニウム箔のエツチング方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62113416A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0266925A (ja) * | 1988-09-01 | 1990-03-07 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | アルミニウム電解コンデンサ用電極箔のエッチング方法 |
| JPH04293800A (ja) * | 1991-03-19 | 1992-10-19 | Sumitomo Light Metal Ind Ltd | 電解コンデンサ用アルミニウム箔のエッチング方法 |
-
1985
- 1985-11-13 JP JP25404585A patent/JPS62113416A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0266925A (ja) * | 1988-09-01 | 1990-03-07 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | アルミニウム電解コンデンサ用電極箔のエッチング方法 |
| JPH04293800A (ja) * | 1991-03-19 | 1992-10-19 | Sumitomo Light Metal Ind Ltd | 電解コンデンサ用アルミニウム箔のエッチング方法 |
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