JPS62110775A - 塗布装置 - Google Patents

塗布装置

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JPS62110775A
JPS62110775A JP25076585A JP25076585A JPS62110775A JP S62110775 A JPS62110775 A JP S62110775A JP 25076585 A JP25076585 A JP 25076585A JP 25076585 A JP25076585 A JP 25076585A JP S62110775 A JPS62110775 A JP S62110775A
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JP
Japan
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resin
coating
carrier jig
semiconductor devices
nozzle
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Application number
JP25076585A
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English (en)
Inventor
Kazuhisa Takashima
高島 一寿
Takatoshi Hagiwara
孝俊 萩原
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 本発明は半導体装置等の部品に対して樹脂等を塗布する
ための装置に関し、特に取り付けが完了された半導体素
子ペレット上にポリイミド等の樹脂を均一にしかも全自
動的に塗布することのできる塗布装置に関するものであ
る。
〔背景技術〕
半導体装置の製造工程、なかでもパッケージ上に取り付
けた半導体素子ペレット上にポリイミド樹脂を塗布して
半導体装置を完成させるための工程として、従来種々の
方式が用いられている。例えば、多連リードフレーム方
式の組付は工程では、多連に構成したリードフレームに
複数個の半導体素子を搭載し、これら複数の半導体装置
に対して順序的にかつ自動的にポリイミド樹脂を塗布し
ている。しかしながら、各パソケージカ月個1個独立し
て構成されているセラミック型のパッケージでは、各半
導体装置は一つ一つ独立した部品として製造に付される
ことになるため、半導体装置を各半導体製造装置の所定
の位置に一つずつセットした上で樹脂の塗布作業を行う
ように構成しなければならない。このため、多数個の半
導体装置に対して連続的に樹脂を塗布するには、搬送用
の治具上に載置されている複数個の半導体装置を、治具
から一つずつ取り出してこれを製造装置の所定位置にま
で移動させ、ここで塗布を行った後に再び半導体装置を
治具へ戻す必要がある。したがって、前の工程から次の
工程への半導体装置の搬送はいわゆる一括型の搬送とな
り、各工程間における搬送のタイムラグが原因して個々
の半導体装置を一貫して連続処理することが難しくなる
又、これまでの半導体製造装置では、塗布ノズルから所
定量の樹脂を滴下させる際に、塗布ノズルに加える圧力
や時間等を予め設定した所定値に基すいて制御している
のみであるため、外気の温度やノズル内での樹脂量及び
樹脂粘度等の変化によってノズルから吐出される樹脂量
が一定せず、均一な樹脂の塗布を行うことが難しいとい
う問題もある。
〔発明の目的〕
本発明の目的は、夫々独立したパンケージ構造の半導体
装置に対して連続した状態で樹脂塗布することかでき、
かつこの塗布を均一にしかも自動化することのできる塗
布装置を捉供することにある。
本発明の前記ならびにそのほかの目的と新規な特徴は、
本明細書の記述および添付図面からあきらかになるであ
ろう。
〔発明の概要〕
本願において開示される発明のうち代表的なものの概要
を簡単に説明すれば、下記のとおりである。
即ち、本発明の半導体装置の塗布装置は、塗布する樹脂
における温度、量、塗布圧力、塗布状態等の各種条件を
検出する検出手段と、前記樹脂の温度、量等を直接変化
させるヒータ、吐出圧力系、樹脂供給系等のアクチュエ
ータと、前記検出手段の出力に基すいて前記アクチュエ
ータを制御するコントローラとを備えることにより、常
に一定又は好適な量の樹脂の吐出を実現し、これにより
均一な塗布を達成することができる。
〔実施例〕
第1図は本発明の塗布装置を半導体製造装置に適用した
一実施例であり、第2図は本発明が適用されるセラミッ
クパッケージ型半導体装置を示す。
この半導体装置4はフレーム1、ベース2で構成した構
体上に半導体素子ベレット3を固着しており、キャリア
治具5上に平面X、Y方向に配列された状態で搭載され
、この搭載された状態のままで半導体装置4上の半導体
素子ペレット3上にポリイミド樹脂が塗布されるように
構成している。
即ち、前記キャリア治具5は、第3図のように、長方形
の金属板を打ち抜き形成しており、複数本の溝35を平
行に形成して全体を格子状に構成し、各格子36には夫
々複数対の突起38を対向方向に一体形成し、夫々2個
ずつの対をなすこれら突起38間に、同図のように前記
半導体装置4のベース2を支承するように支持できる。
前記格子36は本例では6本形成し、かつ突起38は7
対形成しており、これにより半導体装W4をX方向(図
示横方向)に7個、Y方向(図示縦方向)に7個の計4
9個(7X 7)搭載支持できる。また、このキャリア
冶具5の周辺部には、等間隔で小孔40.42を開設し
、キャリア治具5の位置決め用及び移動送り用に利用さ
れる。
このキャリア治具5に半導体装置4を配列搭載させるた
めのハンドリング機構34は、第4図のように前工程に
おける半導体装置の移送用シュートに続くベルトコンベ
ア44と、更にこれに続く搭載シュート46を有し、こ
れらベルトコンベア44と搭載シュート46に隣合って
ブツシャ48を配設している。前記ブツシャ48はモー
タ50によって回動されるチェーン52によって搭載シ
ュート46に沿って移動され、この搭載シュート上の半
導体装置4を前進移動させる。一方、前記キャリア治具
5が積層貯蔵された位置からこの搭載シュート46にま
で亘って直角方向にレール54が敷設され、搬送機56
が往復移動される。この搬送機56に対して移載機構5
8が付設され・、この移載機構58によってキャリア治
具5を搬送機56に搭載させ、かつこの搬送機56は搭
載したキャリア治具5を前記搭載シュート46の近傍位
置に設けた搭載ステーション60上にまで搬送する。こ
の搭載ステーション60には、モータ62及びチェーン
64によって前記搭載シュート46と直角方向に延設し
たレール65に沿って往復移動されるフィンガ支持体6
7を有し、このフィンガ支持体67には内蔵したシリン
ダ手段によって上下に往復移動されるフィンガ66を対
向配置している。このフィンガ66は7本の指68を有
するとともに、各先端には真空吸着孔70を形成し、前
記フィンガ支持体67をレール65に沿って左右に移動
させながらフィンガ66によって搭載シュート4Gを移
動されてくる半導体装置4を各相68に1個づつ、計7
個を指68に真空吸着支持させた一部で、下動し、更に
キャリヤ治具を後に述べる方法によってY方向左にずら
すことにより各相68の半導体装N4をキャリア治具5
上に搭載させる。これを7回繰り返すことにより、キャ
リア治具5」二に49個の半導体装置4を搭載できる。
この間、搭載ステーション60はモータ72により軸転
されるねじ74によって搭載シュート46の方向、つま
りキャリア治具5をそのY方向に移動させ、フィンガ6
6に対するキャリア治具5泣置を変化させ、搭載を容易
にする。更に、この搭載ステーション60の背後にはブ
ツシュロッド76を配置し、キャリア治具5を背後のス
トッカ部に移動させる。
前記塗布装置は、第1図のように、X方向の搬送ライン
ベルトコンベア84及びX方向シュート86と、このX
 方向ヘルドコンベア84に夫々直交するY方向の搬送
ラインベルトコンベア88及び90と、前記のX方向シ
ュート86の略中間に位置する塗布ステーション92に
対向位置した塗布機構94とを有している。前記X方向
ベルトコンベア84はモータ96によって駆動され、か
つ長さ方向3箇所のスリットにおいて分離されている搬
送ベルト98.9B、98.98は連結ベルト100,
100,100によって一体的に回動される。又、ロー
ダ側のY方向ベルトコンベア88及びアンローダ側のY
方向ベルトコンベア90は夫々前記X方向ベルトコンベ
ア84のスリット内に位置しており、モーター06,1
0Bによって回動されるとともにエレベータ102,1
04によって上下動できる。このとき、上動されたとき
には、X方向ベルトコンベア84よりも上方に位置し、
下動されたときにはそれよりも下方に位置される。各搬
送路には適宜必要に応じて製品検査センサが取り付けら
れている。この検知センサは製品を搬送する状態を制御
する制御部につなかれている。
前記X方向シュート86は、Y方向に延設した一対のレ
ール110,110上に搭載したYテーブル112に固
定している。このYテーブル112は図外のモータによ
って軸転されるねしく図示せず)に螺合され、このモー
タの回動によって前記レール110,110に沿ってY
方向に往復移動できる。又、Yテーブル112にはX方
向に延設したタイミングベルト118を設け、このタイ
ミングベルト118をモーター20で回動させる。
このタイミングベルト118の一部には送りピン122
を一体に設け、かつこの送りピン122は上下動ソレノ
イド124によって上下に41> 置移動でき、上動し
た時にはXシュート86−ヒに載置したキャリア治具5
の送り用の孔に嵌入できる。このタイミングベルト11
8と上下動ソレノイド124の協動によって、送りピン
122は矩形運動を行い、キャリア治具5を間欠送りす
る。
前記塗布ステージ3フ92位置の」1方には、前記塗布
機構94の塗布ノズル152を配置し、ノズルからポリ
イミド樹脂を滴下させる。第5図のように、この塗布ノ
ズル152には、チューブ154を通してポリイミド系
樹脂Rを入れた樹脂タンク156に連接し、このチュー
ブ154の途中に配設したバルブ158の開閉によって
ノズル152内に樹脂Rを供給できる。また、ノズル1
52には温度センサ159を、その周囲にはヒータ16
0を夫々配設し、ノズル内の樹脂温度を検出し、かつ樹
脂を加熱してその粘度を変化調整できる。更に、ノズル
152の上部には液面センサ162を配設し、ノズル内
の樹脂の上面位置を検出する。そして、前記ノズル15
2の内部空間にはパイプ164を通して空気圧源166
に接続し、このパイプ164の途中に設けた電磁弁16
日及び減圧弁170によって所望の圧力の空気をノズル
152内に導入できる。この電磁弁168にはタイマ1
72及びD/Aコンバータ174を接続し、又減圧弁1
70には減圧弁コントローラ176を接続している。
しかる上で、前記バルブ】58、温度センサ159、ヒ
ータ160、液面センサ162、D/Aコンバータ17
4、M圧弁コントローラ176等を制御部としてのマイ
コン178に接続し、このマイコン178によってこれ
らを夫々制御するように構成している。
また、前記塗布ノズル152の近傍にはTVカメラ18
0を配設して樹脂の塗布状態をモニタできるようにして
いる。このTVカメラ180も前記マイコン178に接
続している。
また、リニアセンサ181が配設されノズル先端の滴下
される樹脂の形状又は量を計測できるようにしている。
このリニアセンサ181も前記7イコン178に接続し
ている。
なお、前記X方向シュート86の下流側一部にはモータ
130によって回動されるヘルドコンヘア構造の移送部
132が一体に構成しである。また、図中134はYテ
ーブル112の後端に立設してY方向ベルトコンヘア8
8を移動されてくるキャリア治具5に当接可能なストッ
パである。
この塗布装置では、」1流の工程装置から移動されてく
る半導体装置4を搭載したキャリア治具5は、X方向ベ
ルトコンヘア84によってX方向に移動され、この半導
体装置4が樹脂塗布の対象となるものである場合には、
キャリア冶具5は図外のストッパによってY方向ヘル]
・コンベア81q置で停止される。すると、エレベータ
1()2によってY方向ベルトコンベア88が上動され
、−トヤリア治具5をこのコンベア88によってX方向
シュート86位置まで移動させる。この時、キャリア治
具5はストッパ134に当接することにより、Y方向ベ
ルトコンヘア88による送り位置が規制される。
なお、キャリア治具5に搭載されている半導体装置4が
この塗布装置での工程の対象に相当しない場合には、Y
方向ベルトコンベア88は上動せず、したがってキャリ
ア治具5はX方向ベルトコンベア84によって更に下流
の塗布装置或いは他の装置に向かって搬送される。
X方向シュート86に移動されたキャリア治具5は、そ
の送り用の小孔40.42に送りピン122が嵌合し、
モータ120及びタイミングベルト118によってX方
向に移動される。この場合、モータ120の電流を制御
することにより、任意の送す量に設定できる。そして、
キャリア治具5の先端が塗布ステーション92の所定位
置に達すると、キャリヤ治具5上の先端の一つの半導体
装置4に対して塗布機構94によって塗布ノズル152
から樹脂が滴下され塗布が実行される。
この塗布に際し、この塗布装置ではノズル152内での
樹脂Rの温度、液面高さ、内部空気圧力等を検出すると
ともに、リニアセンサ181で滴下される樹脂の量又は
形状を測定し、TVカメラ180で樹脂の塗布状態を観
察し、これらの情報に基づいてマイコン178がバルブ
158を開閉制御して樹脂源156から供給される樹脂
量を制御して樹脂液面が常に所定の高さ範囲に入るよう
ニジ、又、ヒータ160の通電量を制御してノズル15
2内の樹脂温度、即ちその粘度を制御し、更に電磁弁1
68や減圧弁170を制御してノズル内空気圧を変化さ
せて樹脂のポツティング量を制御すること等によって、
樹脂が常に安定した状態で半導体装置4上に塗布できる
ように制御する。
最初の半導体装置4への所定の塗布が完了されると、モ
ータにより回動されるねじによってYテーブル112が
Y方向に微少量移動され、キャリア治具5もこれととも
に移動される。このため、今度はキャリア治具上におけ
る隣りの半導体装置4が塗布ノズル152の直下に位置
され、前述と同様にしてこの半導体装置4が樹脂塗布さ
れる。
そして、Y方向の1列の半導体装置4の樹脂塗布が完了
すれば、モータ120及びタイミングベルト118によ
ってキャリア治具5はX方向に更に少し移動され、次の
列の半導体装置が樹脂塗布されることになる。以下、こ
れを繰り返すことにより、キャリア治具5−トの全部の
半導体装置4の樹脂塗布が完了できる。
全部の半導体装M4の処理が完了すると、X方向シュー
ト86に沿ってキャリア治具5は移動され、Y方向ベル
トコンバフ90位置で停止される。
そして、ここでY方向ベルトコンベア90がエレベータ
104によって上動されると、キャリア治具5はY方向
ヘルドコンベア90に移載される。
このコンヘア90によってキャリア冶具5はX方向ベル
トコンベア84位置にまで移動され、この位置でY方向
ヘルドコンベア84が下動されることによりキャリア治
具はX方向へルトコンヘア84に移ii1され、このコ
ンベア84によって下流装置に向けて搬送される。
樹脂の塗布が完了した後は、キャリア治具5上に半導体
装W4を搭載した状態のままで、隣接したアンローダ部
に移動され、ここでラック6に夫々収納され、以後ラン
ク単位で移送されることになる。そして、更tこ樹脂ベ
ーク部にキャリア冶具を移動させ、ここで所定のベータ
を実行する。
E効果〕 (1)塗布する樹脂における温度、量、塗布圧力、塗布
状態等の各種条件を検出する検出手段と、前記樹脂の温
度、量等を直接変化させるヒータ、吐出圧力系、樹脂供
給系等のアクチュエータと、前記検出手段の出力に基ず
いて前記アクチュエータを制御するコントローラとを備
えることにより、樹脂の状態や環境等の条件の相違に関
わらず常に好適な量の塗布を行うことができ、均一な品
質の塗布を行うことができる。
(2)平面x、y方向に半導体装置を配列して搭載した
なキャリア治具を平面X、 Y方向に移動させてこのキ
ャリア冶具に搭載した複数個の半導体装置を順序的に一
つずつ塗布位置に設定させ、この位置設定された半導体
装置に対して樹脂の塗布工程を行うようにしているので
、半導体装置が夫々個別に構成されている場合でも、半
導体装置をキャリア治具に搭載したままの状態で樹脂塗
布を G 行うことができ、これにより高い効率で半導体装置の塗
布を行うことができる。
(3)複数個の半導体装置を搭載した状態のままで、キ
ャリア治具を樹脂塗布装置の前後の工程間で移動させて
半導体装置を順序的に塗布位置に位置設定しているので
、半導体装置をキャリア治具に搭載したままで塗布工程
およびその前後の工程を行うことができ、製造工程を全
自動的に実行できる。
以上本発明者によってなされた発明を実施例にもとづき
具体的に説明したが、本発明は上記実施例に限定される
ものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可
能であることはいうまでもない。
例えば、検出手段やアクチュエータには前記し以外の他
の構成のものを利用することもできる。
また、塗装置の調整は加圧をパルス状に行いそのパルス
数によって調整してもよい。また、樹脂を塗布するため
の構成は、樹脂を塗布ノズルから滴下する構成に限られ
るものではない。また、ボリア 1 θ イミド樹脂以外の樹脂にも適用できる。
〔利用分野〕
以上の説明では主として本発明者によってなされた発明
をその背景となった利用分野である半導体装置のポリイ
ミド樹脂の塗布装置に適用した場合について説明したが
、それに限定されるものではなく、半導体素子ペレット
上以外への樹脂塗布装置としても適用できる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明を適用した塗布装置の要部の構成を示す
斜視図、 第2図は半導体装置の斜視図、 第3図はキャリア治具の平面図、 第4図はハンドリング機構の斜視図、 第5図は塗布装置の要部の構成図である。 1・・・フレーム、2・・・ベース、3・・・半導体素
子ペレット、4・・・半導体装置、5・・・キャリア冶
具、6・・・ラック、34・・・ハンドリング機構、3
6・・・格子、40.42・・・小7L、44・・・ベ
ルトコンベア、46・・・搭載シュート、48・・・ブ
ツシャ、56・・・搬送機、58・・・移載機構、60
・・・搭載ステーション、67・・・フィンガ支持体、
68・・・指、70・・・真空吸着孔、74・・・ねじ
、76・・・ブツシュロッド、80・・・棚部、82・
・・駆’l1JJ部、84・・・X方向ベルトコンベア
、86・・・X方向シュート、88.90・・・Y方向
ベルトコンベア、92・・・塗布ステーション、94・
・・塗布機構、98・・・搬送ベルト、100・・・連
結ベルト、102.104・・・エレベータ、110・
・・レール、112・・・Yテーブル、118・・・タ
イミングベルト、122・・・送りピン、124・・・
上下動ソレノイド、132・・・移送部、134・・・
ストッパ、152・・・塗布ノズル、154・・・チュ
ーブ、156・・・樹脂タンク、158・・・バルブ、
159・・・温度センサ、160・・・ヒータ、162
・・・液面センサ、166・・・空気圧源、168・・
・電磁弁、170・・・減圧弁、176・・・減圧弁コ
ントローラ、178・・・マイコン(制御部)、180
・・・TVカメラ。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、塗布する樹脂における温度、量、塗布圧力、塗布状
    態等の少なくともいずれか1つの条件を検出する検出手
    段と、前記樹脂の温度、量等を直接変化させるヒータ、
    吐出圧力系、樹脂供給系等の少なくともいずれか1つの
    アクチュエータと、前記検出手段の出力に基ずいて前記
    アクチュエータを制御する制御部とを備えることを特徴
    とする塗布装置。 2、吐出圧力系は、空気源と塗布ノズルとの通路に減圧
    弁を介挿し、この減圧弁をコントローラで制御して吐出
    圧力を変化制御してなる特許請求の範囲第1項記載の塗
    布装置。 3、制御部をマイコンで構成してなる特許請求の範囲第
    1項記載の塗布装置。
JP25076585A 1985-11-11 1985-11-11 塗布装置 Pending JPS62110775A (ja)

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