JPS6182811A - 廃液処理モジユ−ル - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は溶解金属を含む溶液の廃液処理１％にメッキ溶
液の廃液処理の方法に関し、触媒化された発泡体の充填
材を含む金匡角生モジュールに関するものである。

メッキの出来る溶液は技術的に十分に知られている。最
も一般的に使用されているメッキ溶液には７ＩＬ解及び
無電解の溶液があり、後者は電気を使用せずにメッキ出
来るものである。最もよく使用される無電解メッキ溶液
は銅及びニッケルメッキの溶液であるがこれら溶゛敵は
一般に水に４つの主成分を溶解したものから成り立って
いる。即ちこれらの組成は（１１メツキ用金属イオン源
、（２）溶液中に前記イオンを保持出来る１つ又はそれ
以上の錯化剤、（３）触媒表面で前記金属イオン貴金属
の形に還元出来る還元剤、（４）所定範囲内に溶液のｐ
Ｈを保持するｐＨ調整剤からなる。

電気メッキの溶液は種々なる金属のメッキに使用され、
又無電解メッキ溶液とかなり類似したものである。電気
メッキの特徴としてはメッキに際して１′・１元剤が不
要であり又多くの場合醋化剤を必要としない。

主たるメッキ溶液の成分はよく知られてお）代表的なＳ
−乱：解ニッケル及び銅メツキ溶液は米国特言干／１６
　λ　３２９，５１２；３，３８３２２４；３、６５０
．７７７　；　３６７４．５１６　；　３．９１５７１
５；及び４，０３α６５１に開示されており、いずれも
公知のメッキ溶液の組成である。これらの特許の内容は
実施例に記載した。代表的な電解メッキ浴Ｄｉｒｅｃｔ
ｏｒｙ、Ｍｅｔａｌｓ　　ａｎｄ　ｐｌａｓｔｉｃｓ　
　ｐｕｂｌｉｃａ−１０ｎｓ社、　　Ｈａｃｋｅｎｓａ
ｃｋ、　Ｎ、Ｊ、　］　９７６．　１７７から３３８頁
に記載されている。又ノ・ンドプツクのこの部分の内容
も同様に実施例に記載した。無電解メッキ液を使用する
に際し、溶液の神々なる組成の禽莫量は消費されていく
ことは当然であり、例えば無電解溶液中でメッキが進め
られると金属及び侍元剤の濃度が減少していく。溶液の
寿命をのばす為に消費した組成の追加或は液の補充によ
ってメッキ溶液が再生されることは又公知である。

これには新しい元の金属塩と還元剤の水溶液からなる補
充組成液を加えるのが一般的である。このことはメッキ
溶液の液量を増加する結果となり、しばしば過剰の液を
廃棄処理せねはならない。

メッキ溶液の寿命は補充によってのばすことが出来るか
つまるところ使用不可能となり、投棄が必夫となり、結
局は使用済溶液は廃液処理をせねｄ”ならなくなる。

メッキ作業に於けるもう一つの副生物として１つの処理
から他の処理へうつる場合の水洗工程の水先液がある。

これら洗浄液は溶解金属及び他の混入物を含んでおり、
又しばしは、こ五ら洗浄水　・は廃棄物処理をせねばな
らない。かくの如く、廃液処理を必要とするメッキ作業
から出る数多くの溶液がメッキ溶液、使用済溶液、洗浄
溶液から排出する。従って、定義として、ここに使用す
るメッキ溶液という言葉は広義では溶解金属の溶液であ
り、無電解メッキの場合にはメッキ溶液、洗浄水、或い
はメッキ工程から生ずる洗浄液や種々の混合液廃液の中
にある錯化剤を含むものと矩ムされる。使用前と後のい
くつかの典型的メン、キの溶液の組成について説明の目
的で下記に示す。使用後の組成Ｌｐ度は上記に述べた如
く溶液の履歴により非常に広い使用範囲となるので成る
範囲として示した。従ってここに言う使用範囲は説明す
る為のものであって本発明の範囲を限定するものではな
い。

実治例Ｉ　（無電解ｆＡ浴溶液 硫酸銅・４水和物（ｇｍ）　　　　１０　　　　２−１
０パラホルムアルデヒビ（ｇｍ）　　　　　　９．３　
　　　２−１０水酸化ナトリウム（ｇｍ）　　　’　　
２５　　　　５−２５ペンタハイドロオキシプロピル　
　　　　　２０　　　　　　４−２０ジエチレン　トリ
アミン（ｇｍ） ・＝ミ　米国特許／７６．３，３８ａ２２４の実施例１
実施例２４冑無電解ニッケル溶液） 硫酸ニッケル（ｇｍ）　　　　　　　２０　　　２−２
０次亜リン１１・とナトリウム（ｇｍ）　　　３０　　
　３−３０ハイドロオキ／酢酸（ｍｅ）　　　　　　　
３３　　　　３−３０米国特許ｚｆｂ、　３９７　？：
　８８４の実施例４４”　ｔＪｕ　例３　（パラジウム
−アルカリ電解溶液）硝酸アンモニウム（ｏｚ）　　　
　　　　　　　１２　　２−１５亜硝酸アンモニウム（
ｏｚ）　　　　　　　　　　１．５　０．３−１．５ア
ンモニア水で　　　　　　　　　　　　　９　７−１０
２８６頁 上記の組成からみて、使用後の溶液は投棄されるにして
もかなシの金嬌及び錯化剤をもっていることは明らかで
あ□る。微少の場合は別として連館金属を直接放流する
ことは連邦又は各州の法律で禁止されているので問題と
なる。

更に使用済溶徹の溶解金属の富有゛量が許容範囲まで減
少してもその中の錯化剤はしはしはそのまＸ、残存し、
その為溶液中の錯化剤は投棄点までポンプで送る際に接
触する種々なる金属と錯化合物を作る。その結果、溶解
金属をｉ原告する処理を行うにしても金属を溶解する活
性錯化剤により溶解金属が規制以上の高濃度となり、そ
れを防ぐ為に投ジ（前に錯化剤の不活性化或は分解処理
が望ましい。溶解金属や錯化剤を含むメッキ溶液の廃液
処理の方法は米国特許／１６４２６０．４９３に記載さ
れており、又参考として本文中に記載する。この特許に
於ける好ましき方法は触媒となる物質で処理し分散層中
で無電解メッキの触媒となる広い表面積をもつ分散微粒
子（前記特許中では”５ｅｅｄｅｒ”活性種）と称すの
層にメッキ溶液を接触させ金属を除去する方法である。

好ましくは金属除去を行う際、処理溶液は錯化剤を分解
し不活性とすべくハイボクロリネーション処理を行う。

従って引用特許による溶液からの溶解金属の好ましき除
去方法は使用済み溶液を広い表面積をもった微粒子状多
孔性・物質、例へば濾過助剤（粒状カーボンを営む）を
溶解金属析出の触媒となる物質、好ましくはコロイド状
触媒の溶液に浸漬してそれてよって作られる“５ｅｅｄ
ｅｒ”　（活性種）で処理することよりなる。バラ／ラ
ムは好ましき触媒であるが他の高価な金属、金、銀など
の高価な金属も無電解金属の析出用触媒として知られて
いる他の金属と同様使用出来る。パラジウムをコロイド
状とし、還元作用の強い第１錫及びパラジウムとの強酸
性コロイド゛水溶液としたＣＡＴＡＬＹＳＴ　　６ｐの
使用済廃液はこれを微粒子体に浸漬することにより好適
な材料となることがその中に記載されている。触媒とな
る物質は多孔性微粒子物［有］、に吸着され無電解メッ
キ溶液中の金属を析出する微粒子状触媒となる。変数と
なる、例えば触媒溶液に微粒子状物ａを接触させる時間
の如キ夾因は微粒子状物質の多孔性や表面積及び彪雇中
の触媒４闇に依存する。

典型的例として術粒子状物鷺を少くとも５分間、好まし
くは１０分以上触媒となる物質と接触させる。

よシＰ＋埃性ある結果にはＣＡＴＡＬＹＳＴ　６Ｆの如
きパラジウム触媒の耕しい溶液が好ましく、これを通常
ｉ’Ｅ’ｋ　度の２０％以下に希釈することが好塘しい
、更に好ましくは溶液１００萬部当り１００部以下のパ
ラジウムへイー釈することか記述されている。希釈する
ことは処理溶液に“５ｅｅｄｅｒ’　（活性種）を加え
る時溶液の“Ｔｒｉｇｇｅｒｉｎｇ”　（分解の引き金
となること）をさけるにある。”Ｔｒｉｇｇｅｒｉｎｇ
”とはコントロール出来ない偶発的な分解が起る溶液に
関する言葉である。’Ｔｒｉｇｇｅｒｉｎｇ’　（コン
トロール出来ない分解）の結果の１つは溶液から分離が
むづかしい金属微粉体が生成されることであり、又他の
結果としては時として必要とする析出金属が使用済み溶
液を含む反応器の壁に沈澱し、除去が困難となる場合で
ある。

上記特許は溶液を攪拌させ、部分的に°５ｅｅｄｅｒ“
（活性種）が高濃度になることをさけパラジウム触媒の
溶液を通常製置よシうすめ使用済み溶液が過浄に触媒化
されることをさけることにより“Ｔ　ｒ　ｉ　ｇ、ｇｅ
　ｒ“　（コントロール出来ない偶発的分解）の問題を
解決した。使用済み溶液に”５ｅｅｄｅｒ”（活性４．
ｆｆ　）を接触させる時間は１０分間から３時間以上と
し、しかるのち溶液から”５ｅｅｄｅｒ”　（活性種）
を除去することか必要で、例えば濾過袋による濾過など
がある。好ましい方法として特に運続処理の栃合、オー
バーフローする分離タンクを使用し、このタンクは”５
ｅｅｄｅｒ’　（活性種）と接触する段階と分離とを１
つにしたものである。

別の方法としては攪拌をとめ“θｅｅｄｅｒ“　（活性
種）を沈着させ、傾斜方法によりとり除く法がある。こ
れらの問題点として濾過が必要であり、又”Ｔｒｉｇｇ
ｅｒ’　　（コントロール出来ない偶発的分解）の可能
性が常に存在する。その上に、処理ラインは一定期間と
めるか又は使用済み液の分解に対し分泌タンクが必要と
なる。“５ｅｅｄｅｒ”　（活性種）の再利用には発端
工程で金属メッキに対する“５ｅｅｄｅｒ“（活性種）
の能力を失なわず、又廃液中の有用金属を所定の値まで
還元するに充分な触媒能を有しているか留意せねばなら
ない。又新しい“５ｅｅｄｅｒ”　（活性種）の貯蔵又
は輸送に際しては空気の如き酸化剤によるメッキ能の消
失についての留意が必要となる。

参考に記載した１９８１年２月２３日登録の米国応用特
許通し７％　２３６．、７７６に前記特許“Ｂｅθｄｅ
ｒ″（活性種）を充填した垂直モジュールとモジュール
を［要用する際のｐＨ’Ｊ’Ｊ整液について開示されて
いる。モジュールはメッキ処理ラインの反応タンクに連
結し過剰な液は重力又はポンプでモジュールへ流す。モ
ジュールが飽和すれば新しいモジュールと交換する。飽
和モジエールは金属の再生とモジュールに再充填を行う
施設へおくシこまれる。

前記のモジュールは前記特許に示した如（”５ｅｅｄｅ
ｒ“（活性種）の使用によって改良されているがしかし
まだ不満足な面が残る、例えば’５ｅｅｄｅｒ”　（活
性種）床を通って流れる溶液の道筋はモジュールが最初
に開発された時には問題でないと思われていたが実際は
溶解金属の除去が不充分の為に一定の道筋の出来ること
がわかった。又、次々とメッキは先ずモジュールから遊
離した部分に発生し、これがメッキ金属で満たされる前
に結果を生ずる。

更に”５ｅｅｄｅｒ“（活性種）は使用前に乾燥されれ
は不活性となり、従って船積みには湿潤状態及び活性種
−液層界面で適当とするｐＨに保った液で充満して輸送
せねはならない。

最後に触媒活性のロスを防ぐ為には５ｅｅｃｔｅｒ’（
活性種）はその製造に際し加えられる銅で部分的にコー
ティングの必要なことがわかった。

本発明の要約 本発明の主題は先に記述したモジュールに使用された微
細な”５ｅｅｄｅｒ”　（活性種）の代わりに触媒作用
を付与した柵状或は開放セルを有する合成発ｉ説体から
なる廃水処理用モジュールに関するものである。

本触媒化された発泡体の使用はモジュール円に一定の道
筋が出来たシ、或は析出金属か飽和する前に詰るといっ
た問題をおこさず、有用なる溶解金属を効率よく除去す
る方法である。更に微細なる”５ｅｅｄｅｒ“　（活性
種）の代わシに触媒化発泡体を使用することにより本モ
ジュールは使用者へ乾漂状態で船積み出来、又簡単な構
造になりえる。

又１５（ツ放セル発泡体は９７％まで多孔部分からなり
、従って従来の５ｅｅｄｅｒ″（活性種）よりも実質容
積は少なく、除去する金属の６二を増加することが出来
る。更に触媒化発泡体は金属で飽和した時は、これをと
うにすし、ｌ’ｉ出媒出発化発泡体りかえ神柳すること
が出来る。もう一つの有利な面はメッキ溶液をメッキタ
ンクとモジュールの間で循環させ、再びメンキタンクへ
もどすならば微粒金属を除去するに際し本発泡体はメッ
キ溶液内の微細金属に対するフィルターとして作用する
。

従って、ここに言うモジュールは溶解金属を含む廃溶液
処理に対するモジエールであシ、触媒化された開放セル
発泡体床よシなるモジュールへ処理溶液を通することに
よって前記溶解金属を除去し、別処理や再生成は放流に
際し廃水処理液中の　　　　　　　□どのような金属も
除去され清浄な流水としてモジュールより排出される。

本発明の有用なる具体例として触媒化発泡体を充填した
垂直モジュールをメッキ処理ライン中の過剰溶液貯蔵タ
ンクに連結し過剰な溶液はモジュールへ、好ましくは定
＃ポンプを用いて送り込む。モジュールが飽和になった
際は新しいモジュールで置きかえるか又は溶解金属で飽
和した発泡体はとり除き新しい発泡体を充填する。又別
の方法としては析出金属で飽和した発を包体を含むモジ
ュールは金属の再生及び発泡体の再充填の出来る再生施
設に搬送することも出来る。

図１は本発明による廃水処理設備の概略図でモジュール
の前のメッキタンクとモジュールの後の適当とするキレ
ート分解タンクである。

図２は本発明の主体となる有用金属の除去に対するモジ
ュールの説明である。

上記典型的なメッキ溶液（実施例１から３）の処決から
生ずる、廃水処理される溶液は有用なかなりの溶解金属
を含んでいる。一般に上記に述べた如く、溶解金属の量
は処理する溶液の状態でかなり大きく変化する、例えば
洗浄水はしばしば廃水処理前の使用済メッキ溶液と混合
しており、この様な混合溶液も本発明め節回にある。洗
浄水と混合した溶液はメッキ能が予測出来なくなった為
にそれ以上使用出来なくなった多での処理−溶液と比較
して溶解金属が錯化剤の量は少ない。説明の目的だけで
言えば、本発明により処理される一般的１；（敲の金ｂ
Ｊ’＋の′ｇＩｉ、：は１リットル当！１１１０．１と
５０．９の間にあり、最も典型的な例としては１１Ｊッ
トル９ｐ２ｇから２５１の間にある。図１は溶解金属を
含む溶液の廃水処理に本発明を使用した設備の楯、略図
である。図１で、メッキ溶液の補充追加によって増大す
る溶液の廃水処理に適したシステムを説明する。設備は
メッキ槽１０、廃水処理モジュール１１、場合によって
廃水タンク１２より構成される。

メッキタンク１０はメッキ槽１３と増大する溶液の処理
の為のオーバーフロ一槽１４よシ構成される。必要なら
ばオーバーフローは濾過袋１５の如きフィルターを通す
。メッキタンク１０は、上述いずれかの無電解メッキ溶
液を満すものである。

処理溶液はオーバーフロータンク１４から導管１６を通
り、好ましくは定量４：ｙプ１７を使用して排出する。

自然落下か又は通常のポンプを使用してもよいがモジュ
ール１１を通して注意深く液の流れをコントロールする
には計量ポンプが望ましい。液流はモジュール１１に入
シ、好ましくはモジュールの下部より入り連結管１８を
通シモジュール１１を上部へ、次に詳細を説明する触媒
化発泡体１６の固定床を経て流れる。

溶解金属はモジュールを上部へ流れる時発泡体の多孔部
分内に析出する。処理液は出口管１９を経てモジュール
１１から出る。処理工程に於けるこの時点で本質的に全
ての金属は溶液から除去され、溶液は必然的に透明な水
となる。溶液はライン２０を通って更に処理されるか又
はパルプ２１を開き、パルプ２２を閉じることによりタ
ンク１２に入れ、しかるのち導管２３から流出させる。

しばしば、本発明によって処理されるタイプの溶液は周
囲の環境へ溶液の流出の出来ない成分を営んでいる。例
えはこの様な溶液はしばしば再処理を必要とする錯化合
物を含んでおり、この処理はタンク１２で行う。これら
の処理の後、溶液は線管２４を経て放流される。

図２はモジュール１１の部分図である。溶解金にバを含
む溶液は供給ライン１６と連結管１８を辿ってモジュー
ル１１へ入る。空間部分２４はモジール１１の底部にス
に一す−２５（空間付与器具）によって作られるがこの
スに一す−は環状くさび型であってモジュールの底部へ
接触させるか又は挿入したものである。触媒化開放セル
発泡体２６はモジュールｌｌ内におく。これは多孔板２
７で保持される。処理液は板２７を通り定量ポンプ１７
によって加圧され触媒化発泡体の固定床２６をｊｔＩ′
Ｉり上部へＰＪされる。溶解金属は触媒化発泡体２６の
セル壁面で同様に通過する際メッキされる。モジュール
１１の頂点で第２の多孔板２８がある。溶液はこの多孔
板を通りモジュールの底部のス浸−サー２５と同様構造
のスペーサー３０による開放空間部分２９に流れる。

電解メッキ溶液を廃水処理する除には、上記同４３Ｔ・
要１１？を使用せねばならぬが溶液がモジュールを通過
する際無電解メッキ溶液として作用する為には１′割元
剤、錯化剤、ｐＨ調整剤などを加える設備が必要となる
。

モジュールは船積され顧客はすぐ使用出来る。

モジュール（は一旦、析出金属で飽和されたならば、好
ましくはボルト３２によって、モジュールに取９付けら
れているカバー３１をはずし、分角１する。

工程を単純化する為に、定ｇ＜ポンプ１７はカバー３１
からと９はずし出来るように取付は又供給ライン１６は
可撓性のホースの如く可撓性に富んだものとする。

カバー３１をはずしたならば飽和発泡体をモジュール１
１から引き上げ、新しい発泡体を挿入する。場合によっ
ては飽和発泡体を除去するにはモジュールの側面を軽く
たたくことが必要である。

カバー３１を元どおシとシつけ、ライン１６を接続すれ
はモジュールは連続的に使用出来る。

、触媒化された発泡体は耐薬品性であり、液体が通るこ
との出来る閉状、或は開放セルの発泡体から作られる。

この様な材質は技術的には公知であり、ＡＢＳ１アセタ
ール　フェニレン　オキサイド、ナイロン、ポリカーボ
ネー・ト、ホリエステル、ポリプロピレン、ポリスチレ
ン、ポリスルホン及びｄ　リ塩化ビニルの如き樹脂の発
泡体がある。好ましい発泡体は弾力性に富み、そして高
い開放セルＷ７　Ｔｊ　Ｌ、そのセルは好１しくは９０
％以上、より好ましくは９５％以上の量である。

触媒化発泡体は開放セル発泡体を米国特許、（＝３．　
ｏ　ｔ　Ｌｑ　ｚｏに開示されているような錫−）ξラ
ジウム系触媒の如きメッキ触媒の溶液に浸漬して製造す
る。触媒は発泡体の壁面に吸収されるパラジウムで発泡
体の多孔部に作られ、発泡体の壁面が無電解メッキの金
属を析出する触媒となる。

一般的な浸漬時間は約１０分位でよい。必をならば触媒
は使用済溶液でも又は所定の完全濃度（１００ｐｐ１１
０パラジウム）の新しい触媒溶液でもよく、或は触媒溶
液１部に酸性にした水９部で希釈したものでもよい、し
かるのち発泡体は触媒溶液からとり出し触媒を発泡体か
ら排出し、望むならば（促進）工程へ移行する。これは
前述特許に述べられている如く促進化剤の溶液に発泡体
を浸漬することよりなる、しかるのち触媒化発泡体は洗
浄及び乾燥し、モジュール内に装填して使用する。

触媒化発泡体の別の形成方法は未処理発泡体をモジュー
ルへ装填し通常のメンキラインかう触媒溶液をある一定
時間、例えば１０分間モジュールへ通し発泡体を触媒化
し有用な溶解金属を含む溶液の廃水処理に適当なものと
する。望むならば同様なメツキラインより促進剤を触媒
化されたモジュール内へ通す。周囲の環境の中へ溶解金
属を放出するに際して法規に照らして充分溶解金属を除
去出来る触媒化発泡体に苅して溶解金属を含む使用済＃
Ｈは無−電解メッキ溶液として作用するものでなくては
ならない、丸って溶液へ還元剤とｐＨ調整剤を加えるこ
とが必要となる。更に１．使用済′溶液はメッキ溶液に
対し相反する例えはサイアナイドやその他の溶液に有害
となる組成を含んではならない。

無′ｉｌＩも解メッキ溶液として作用するべく、溶解金
属を宮む使用済み液の調整を容易にするにはモジュール
１１は適宜その前に溶液をメッキに適する温度まで加熱
するヒーターと添加される娠元剤とｐＨ８整剤を均一に
攪拌するミキサーをそなえた製造タンク（図示なし）を
置き、好ましくは還元剤は溶ｌ夜に含まれる溶解金属に
対して理論量より過剰に加え、更に好ましくは溶液１　
’Ｊットル当２１以上が一般的である。又金属は好まし
くは、使用済溶液となる前の耕しいメッキ溶液に通常使
用される条件で触媒化発泡体にメッキされる。例えば加
温されてメッキされる溶液は触媒化発泡体にメッキにす
る為にも加熱されねばならない。除去金属はアルカリ注
鋼メッキ溶液からの銅であるならばホルムアルデヒドが
一般的に還元剤として使用され、溶液は好ましくは水酸
化ナトリウムによってｐＨを１２以上に調整する。

使用済メッキ溶液の如き溶解金犀を含む溶液の場合には
、モジュール１１のＭｌのタンクはモジュールｔｉを使
用して金属を除去する為の洗剤、キレート化されたアル
カリ性クリーナー及びアルカリ性エツチング剤の調製の
為に使用される。

もしも処理、′ｄ液が使用済無電解メッキ溶液であるな
らば溶液中の錯化剤の濃度に依存するのでキレート分解
タンク１２中で＃液を更に処理することが望ましい。タ
ンク１２は３７％当なる組成物を完全にＥ２拌すべきミ
キサー（図示なし）をそなえたものであや、錯化剤を完
全に分解又は不活性にする好ましき方法は参考として記
ｉ１５〈した米国特許廟４、４２　Ｑ　４０１に開示さ
れている。特許中の好ましき方法は錯化剤を含む溶液を
／・ロゲ／と接触することよシなる。錯化剤を不活性に
する為の好ましきハロゲンは塩素であシ、又塩素を加え
ることによる最も効果的方法はアルカリ又はアルカリ土
金属の次亜塩素酸塩、最も好ましくは次亜塩素酸ナトリ
ウムの水＃液である。

希釈を伴う場合は、ｐＨ調整か必要であるが錯化剤の不
活性化にはｐＨ依存性は重要ではなく　ｐＨの広領域に
わたって達成することが出来る。

この観点からｐＨは約２．０と１２．５の間でよい。

しかし乍ら次亜塩素酸塩とアンモニアを酸性で接触させ
ると爆発性ガス混合物の生成することが知られている。

尚、法規では廃液の放流に対しｐＨ領域６５から９．０
以内か必要であり、従って好ましきｐ）１の領域は７か
ら１０であり又最も好ましき領域は９からｉｏの間で、
反応が進行するとｐＨは低めになることが知られている
。

使用するハロゲンの濃度は全ての錯化剤を確実に不活性
にするに必要な量とする。好ましくはノ・ロゲンの濃度
はモル比で錯化剤の′６″５度より過剰とし、好寸しく
は錯化剤１モル当り１から２５モルのハロゲンを使用し
、更に好ましくは錯化剤１モル当り約５から２０モルを
使用する。

使用済溶液とハロゲンの接触時間は錯化剤を不活性にす
るに必要な時間とする。反応は急漱ではなく、一般的に
は１０分以上の接触時間が必要である。反応は温度に依
存し昇温は接触時間を下げうるが接触時間は少くとも１
時間とし通常は２から４時間を必要とする。

他の不活性処理にかかわる条件は限界的ではなく、温度
は好ましくは室温であるが絶対的ではない。

又溶液温度が発熱の結果として室温以上になっても反応
に悪影響を及はさない。好ましくは廃液と・・ロゲンを
接触させる間は攪拌を行う。

使用済溶液中の錯化剤の不活性化の後、溶液のｐＨは周
辺の放流に対する許容レベルまでの調整が必要である。

現在の法規ではｐＨ領域が６．５から９．５までの放流
が認められている。従って不活性工程を所定のｐＨ領域
内で行なうならば溶液は更にｐＨ調整を行なわずに放流
してもよい。

モジュール１１は流入と排出・ξイブの接続及び取はす
しを容易にし又すぐに船積することの出来る完全なユニ
ットとした。例えばモジュール１１は約５ガロンを入れ
る完全な容器よりなり、もしも再利用が予習されるなら
ばモジュール１１に再／−ル出来るカバーを適宜そなえ
つければよい。

ここに言うモジュール１１及び使用するパイプは好まし
くは処理溶液に対して不活性な材質よりなり、好ましき
セ質はポリエチレンである。パイプ１６及びパイプ１９
Ｈモジユール１１に接続され、各々のパイプは船積の為
にシールされ又、そのどの本発明の処理工程で使用する
際開封又は適宜接続するような取付具をそなえ、る。

本発明に促うモジュール１１の使用に除し本モジュール
は、メッキ用タンク及び処理ｆｄ　液を入れたタンクへ
モジュールをつなぐ為のパイプｌの間に近接して取付け
る。溶液はしかるのち溶液速度をモジュールの大きさに
応じた割合として、モジュール１１へ流入する。１５ガ
ロンの容量をもつモジュールに対しては溶（′ｆＬは好
ましくは１時間当り約２０から６０ガロン割合でモジュ
ールへ流入。

し、更に好ましくは１時間当り約３５ガロンの割合とす
る。

約１５ガロンの容量のモジュールでは処理浴ｉ（ｔが標
準的な銅メツキ溶液の溢流（オーバーフロー）水である
時４．　ＯＯＯガロ／がモジュールを通過定；１；され
た後にモジュールの能力は限界となる。モジュールが能
カ一杯まで飽和された時モジュールの側面をハンマーで
たたきモジュールの壁面から触媒化発泡体をゆるめ、し
かるのちモジュールをひつくり返し発泡体を除去する。

下記実施例は本発明の詳細な説明するに好適である。

実施例４ ・ド実施クリは引きつづき説明される実施例である使用
６゛（溶液の処理に使用される触媒発泡体に関するもの
である。

本実が１１例に於ける発泡体は開放セルのポリエステル
発泡体であって発泡体の約９７％が空孔容積でインチ当
り約３０から８０の空孔数をもっている。

触媒化発泡体の製造の第一段階は商品名ＣＡＴＡＬＹＳ
Ｔ９Ｆとして販売されているパラジウム触媒に浸漬する
ことであり、その触媒はパラジウム含有量が１リッター
当９０．０Ｏ０４Ｎになるよう塩酸と第一錫の酸性溶液
で希釈し本市販品の効力の約０．０２％とする発泡体は
触媒溶液に約１０分間保持しその時間の後にとり出し触
媒を排出する。発泡体はしかるのち水に浸漬し乾燥する
。

実施・例５ 不実ＷＡ９１Ｊは銅メッキの使用済溶液の処理方法に関
するものである。処理ｅ、は閤品名Ｃｐ−７８として市
販されているものの廃液で廃液処理前の溶液接法は下記
の辿りである。

桐（硫ルで鋼４水和物として）　　　　　　７ＥＩ／１
ホルムアルデヒド（遊離ホルムアルデヒ）’）　　　２
．５１１／１水酸化ナトリウム　　　　　　　　　　　
　５．８　Ｎ　／　１水　　　　　　　　　　　　　全
体をｌｌ！とする。

溶液には又他の特有な附加物が若干量含まれているがこ
れらは今まで述べてきた廃液処理方法にも含まれていす
、又量的にも微少なので本開示法に対して絶対的なもの
ではない。

上ＧＣ：の処決は各成分の濃度がメッキ溶液として適切
に機能するには処決として不充分であり、ｐＨ調整剤と
還元剤の添加が必要である。従ってホルムアルデヒ）’
１１１及び水酸化ナトリウム２．９を攪拌し上記処決に
加える。溶液の温度はｃｐ−７８のメッキ溶液の使用に
際しての推奨温度である約９０°Ｆまで除々に上昇する
。

上記記載モジュールは−とシはずし出来るカバー、定量
ポンプ及び容器の底から入り上部よシ排出するようにし
た５ガロンのポリエチレン容器の実施例４の方法で調製
した触媒化発泡体を加えることによって製造する。

溶液は１時間当り約４０ガロンの割合でモジュールへ流
し、モジュールを出た溶液の銅濃度は溶液ｉｏｏ萬部中
２部以下となる。

実施例６ 実施例５の方法は下記の如き処決よりなる無電解メッキ
溶液に対しても同様使用することが出来る。

砧酸ニッケル　６水和物　　　　　　　１２＆次亜リン
酸ナトリウム　ｌ水和物　　　１５ｇハイドロオキ７酢
酸　　　　　　　　　２４ｇ水酸化アンモニウム　　　
　　　ｐ　Ｈ４，５に調整に水　　　　　　　　　　　
全体で１ｇにするメッキ溶液を活性化する為に、処理前
にｐＨは約９又はそれ以上とし、除々に次亜リン酸塩を
カロえて活性化メッキ溶液を作ることか必要である。

モジュールは実施例５に配縁したモジュールと同等のも
のを使用し、処理溶液の温度に好ましくは約５０℃に調
ｆする。力旧晶口に性の無電解ニッケルメッキ１曹はｐ
ｋ−１を８から９のアルカリ圀とし、比較８′り低温、
例えは８０℃から９０℃でメッキを行４、　（１７ｊ面
の簡単な説明〕 第１図は本発明による廃水処理設備の概略図でモジュー
ルの前のメッキタンクとモジュールの後の適当とするキ
レート分解タンクである。

第２図は本発明の主体となる有用金属の除去に対するモ
ジュールの説明である。

（外５名） 手続補正Ｄ（方式） 昭和６０年１０月Ｒ日 昭和６０年　：Ｉ［う願第　　／２１’り７３号３、補
正をする者 事件との関係　　　出　願　人 住所 名　（オ、　し、γレー・カフｌ−一−インコー寸６レ
ーデノト４、代理人

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、溶解金属類を含む溶液から溶解金属を除去しそして
   モジュール内にその溶解金属を保持する工程に使用する
   モジュールにおいて、前記モジールは溶解金属の析出に
   対し触媒となる開放セル状発泡体を入れた容器からなり
   、前記触媒となる発泡体は網状の開放セル状発泡体で開
   放セルの壁面に貴金属を吸着せしめたものであり、前記
   容器は入口および出口並びに溶液を前記容器と前記発泡
   体に通すための手段を有するモジュール。 ２、前記発泡体が前記容器内の固定床である特許請求の
   範囲第１項記載のモジュール。 ３、発泡体の開放セルが発泡体全容積の少くとも９０％
   を有する特許請求の範囲第２項記載のモジュール。 ４、開放セルが発泡体全容積の少くとも９５％を有する
   特許請求の範囲第３項記載のモジュール。 ５、貴金属がコロイド状の貴金属である特許請求の範囲
   第２項記載のモジュール。 ６、貴金属がパラジウムである特許請求の範囲第２項記
   載のモジュール。 ７、発泡体が溶解金属を含む溶液に対して不活性である
   特許請求の範囲第６項記載のモジュール。 ８、発泡体がポリカーボネート、ポリエステル、アクリ
   ロニトリル、ブタジエン　スチレン共重合体、アセター
   ル　フェニレン　オキサイド、ポリプロピレン、ポリス
   チレン、ポリスルホン、又はポリ塩化ビニルの発泡体グ
   ループからなる群から選択される特許請求の範囲第６項
   記載のモジュール。 ９、発泡体がポリエステルからなる特許請求の範囲第８
   項記載のモジュール。 １０、該モジュールに於て容器内におさめられた発泡体
   の上下に空間部分を有する特許請求の範囲第６項記載の
   方法。 １１、モジュールの入口が下端に、出口が上端にあり、
   発泡体が前記出入口の間にくみ込まれた特許請求の範囲
   第６項記載のモジュール。 １２、入口と出口には空間を有する出入通路があり、前
   記発泡体が前記入出口の空間部分の間に設置された特許
   請求の範囲第１１項記載のモジュール。 １３、発泡体が前記入口及び出口の空間部分の間の容器
   全体を満たす特許請求の範囲第１２項記載のモジュール
   。 １４、溶液を容器と発泡体に通す手段はポンプである特
   許請求の範囲第６項記載のモジュール。 １５、ポンプが定量ポンプである特許請求の範囲第１４
   項記載のモジュール。 １６、モジュール内に溶解金属を保持しながら間に溶液
   から溶解金属を除去する工程に使用するモジュールであ
   つて、前記モジュールは溶解金属を析出する触媒となる
   開放セル状発泡体の入つた容器からなり、前記触媒化さ
   れた発泡体は網状でコロイド状パラジウムで触媒化され
   た開放セル発泡体でその全容積の少くとも９０％が開放
   セルよりなり、前記容器は入口は下端、出口は上端にあ
   り、前記出入口は前記容器内で空間を介してつながつて
   いる、前記触媒化された発泡体は前記空間の間の容器全
   体を満たし、前記容器と前記発泡体に溶液を通す手段か
   らなるモジュール。 １７、前記発泡体が前記容器内の固定床である特許請求
   の範囲第１６項記載のモジュール。 １８、開放セルが発泡体の全容積の少くとも９５％であ
   る特許請求の範囲第１６項記載のモジュール。 １９、発泡体がポリカーボネート、ポリエステル、アク
   リロニトリル、ブタジエン　スチレン共重合体、アセタ
   ール　フェニレン　オキサイド、ポリプロピレン、ポリ
   スチレン、ポリスルホン、又はポリ塩化ビニルの発泡体
   グループからなる群から選ばれた特許請求の範囲第１６
   項記載のモジュール。 ２０、発泡体がポリエステルからなる特許請求の範囲第
   １９項記載のモジュール。 ２１、溶液を容器と発泡体に通す方法としてポンプを使
   用する特許請求の範囲第１６項記載の方法。 ２２、ポンプが定量ポンプである特許請求の範囲第２１
   項記載のモジュール。 ２３、溶解した金属を含む使用済メッキ溶液の廃液処理
   のための方法であつて前記方法は使用済溶液から触媒表
   面上にメッキすることの出来る溶液のｐＨ及び溶液の還
   元剤濃度の調整を行う段階とメッキ溶液から金属を析出
   する触媒となる貴金属を発泡体のセル壁面に吸着した開
   放セル発泡体に前記使用済メッキ溶液を通す段階よりな
   る。 ２４、触媒化された発泡体が前記容器内の固定床である
   特許請求の範囲第２３項記載の方法。 ２５、貴金属がコロイド状のパラジウムである特許請求
   の範囲第２４項記載の方法。 ２６、溶解金属が銅及びニッケルの群から選ばれる特許
   請求の範囲第２５項記載の方法。 ２７、溶解金属が銅である特許請求の範囲第２６項記載
   の方法。 ２８、溶液を容器の下部から上部へ流す、即ち溶液が発
   泡体の中を上部へ流れる特許請求の範囲第２５項記載の
   方法。 ２９、溶液は容器の底部から空間部分に入り発泡体を通
   して上部へ流れて空間部分に入りそしてそれから容器を
   出る特許請求の範囲第２８項記載の方法。 ３０、発泡体が容器の入口と出口に存在する空間部分の
   間に充填されている特許請求の範囲第２９項記載の方法
   。