JPS6176643A - 磁気デイスク用アルミニウム基板 - Google Patents
磁気デイスク用アルミニウム基板Info
- Publication number
- JPS6176643A JPS6176643A JP6474285A JP6474285A JPS6176643A JP S6176643 A JPS6176643 A JP S6176643A JP 6474285 A JP6474285 A JP 6474285A JP 6474285 A JP6474285 A JP 6474285A JP S6176643 A JPS6176643 A JP S6176643A
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- JP
- Japan
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- substrate
- magnetic disk
- aluminum
- inclusions
- amounts
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は磁気ディスク用アルミニウム基板に関し、特に
基板材質内に存在する非金属介在物や型置間化合物を少
なくし、かつ微小分散化させて、表面の千ｍ件や清浄度
を同上させ、信頼性のある高冨匣用磁気テイスク基板を
得ることを図ったものである、 電子計ｎ機に用いられる記録装置の一種として磁気ディ
スクが用いられているが、この磁気ディスクはアルミニ
ウム合金からなる基板の表面に磁性体を被覆した構成を
なし、この磁性体被覆を磁化させることにより信号を記
録、するものである。
基板材質内に存在する非金属介在物や型置間化合物を少
なくし、かつ微小分散化させて、表面の千ｍ件や清浄度
を同上させ、信頼性のある高冨匣用磁気テイスク基板を
得ることを図ったものである、 電子計ｎ機に用いられる記録装置の一種として磁気ディ
スクが用いられているが、この磁気ディスクはアルミニ
ウム合金からなる基板の表面に磁性体を被覆した構成を
なし、この磁性体被覆を磁化させることにより信号を記
録、するものである。
この磁気ディスク用基板はアルミ合金基板の表面を機械
加工して所定の厚さにした後、表面を研磨したものであ
り、一般に磁気ディスク用基板として次のような特性が
要求される。
加工して所定の厚さにした後、表面を研磨したものであ
り、一般に磁気ディスク用基板として次のような特性が
要求される。
（１） 磁気ヘッドの安定な浮上と、記録特性の安定
性を得るために研磨後の表面精度（アラサやウネリなど
）が良好なこと。
性を得るために研磨後の表面精度（アラサやウネリなど
）が良好なこと。
（２）基板の表面に形成さ八る磁性被覆の欠陥の原因と
なる凸起や穴状の凹みがないこと。
なる凸起や穴状の凹みがないこと。
（３）基板を作成する過程におけろ機械加工や研磨、或
いは、使用時の高速回転に充分に耐えうる機械的強度を
有すること。
いは、使用時の高速回転に充分に耐えうる機械的強度を
有すること。
（４）軽量で且つ耐食性があり、しかもある程度の耐熱
性を有することなどである。
性を有することなどである。
従来このような特性を調たす磁気ディスク用基板として
第１表に示す組成のＡＡ規格５０８６アルミニウム会金
が多く用いられている。
第１表に示す組成のＡＡ規格５０８６アルミニウム会金
が多く用いられている。
しかるＶＣ磁気ディスク用基板として上記組成のＡＡ５
０８６合金を用いたものはその表面精度には限度があり
、早期にその高精度化が期待されていた。すなわち近年
、磁気ディスクは大容量化、高密度化の６５勢Ｖｃあり
、このため１ビット当りの磁化領域は益々微小化される
と共に、磁性被核の薄膜化、磁気ヘッドと磁気ディスク
との間の間隔の減少化などが会費となジ、このような傾
向にあって良好な表面精度を有する磁気ディスク用アル
ミニウム基板の開発が要望されていた。
０８６合金を用いたものはその表面精度には限度があり
、早期にその高精度化が期待されていた。すなわち近年
、磁気ディスクは大容量化、高密度化の６５勢Ｖｃあり
、このため１ビット当りの磁化領域は益々微小化される
と共に、磁性被核の薄膜化、磁気ヘッドと磁気ディスク
との間の間隔の減少化などが会費となジ、このような傾
向にあって良好な表面精度を有する磁気ディスク用アル
ミニウム基板の開発が要望されていた。
このように良好な表面精度が得られない原因について、
本発明者等は種々研究を行った結果、従来合金の磁気デ
ィスク用基板においては、その金属組織中に直径７μ以
上の金属間化合物（例えばＡ４−Ｍｎｂ ＡＬ−Ｍｎ
−Ｆｅ、 Ａ４− Ｆｅ、 Ａ４−Ｐｅ−８ｉ、Ｍｇ−
８ｉ、Ａｊ−ＣｒＳ ＡＪ−Ｍｎ−ｃｒ 、ＡＪ−−Ｔ
ｉ など）および非金属介在物（例えｕ Ａ４ｚＣ＋
３． ＭｇＯ、Ａ４ｚＱ３− ＭｇＱ ｆｌど）が多数
存在し、こｎが研磨後の基板の表面状態に悪影響を及は
していることを見い出した。即ちこのような直径の大き
な金属間化合物や非金属介在物が基板マトリックス中に
多数存在すると、機械加工工程や研磨工程においてこれ
ら介在物が基板の表面に凸起として残ったり、或いは脱
落してその後に穴状の凹みを生ずるため、十分な研磨を
行っても良好な表面状態が得られなかったためである。
本発明者等は種々研究を行った結果、従来合金の磁気デ
ィスク用基板においては、その金属組織中に直径７μ以
上の金属間化合物（例えばＡ４−Ｍｎｂ ＡＬ−Ｍｎ
−Ｆｅ、 Ａ４− Ｆｅ、 Ａ４−Ｐｅ−８ｉ、Ｍｇ−
８ｉ、Ａｊ−ＣｒＳ ＡＪ−Ｍｎ−ｃｒ 、ＡＪ−−Ｔ
ｉ など）および非金属介在物（例えｕ Ａ４ｚＣ＋
３． ＭｇＯ、Ａ４ｚＱ３− ＭｇＱ ｆｌど）が多数
存在し、こｎが研磨後の基板の表面状態に悪影響を及は
していることを見い出した。即ちこのような直径の大き
な金属間化合物や非金属介在物が基板マトリックス中に
多数存在すると、機械加工工程や研磨工程においてこれ
ら介在物が基板の表面に凸起として残ったり、或いは脱
落してその後に穴状の凹みを生ずるため、十分な研磨を
行っても良好な表面状態が得られなかったためである。
本発明はかかる知見に基づいて、金属間化合物と非金属
介在物を生成する元素の含有量を低く抑えて、その生成
量を少なくすると共に微細化して、研磨後の基板表面の
精度（アラサやウネリ）と清浄度（表面の凸起や凹みな
ど微少な表面欠陥の容度）を高めて記録の大容量化と高
密度化に適した磁気ディスク用アルミニウム基板を開発
したものである。
介在物を生成する元素の含有量を低く抑えて、その生成
量を少なくすると共に微細化して、研磨後の基板表面の
精度（アラサやウネリ）と清浄度（表面の凸起や凹みな
ど微少な表面欠陥の容度）を高めて記録の大容量化と高
密度化に適した磁気ディスク用アルミニウム基板を開発
したものである。
即ち本発明はマグネシウム３．０〜６．０％（以下チは
重ｆｆ１％を示す）、マンガン０．０１％以下、クロム
０．０１％以下、鉄０．１％以下、シリコン０．２％以
下、チタン０．０２％以下、残部アルミニウムと前記以
外の不可避的に含まれる不純物とからなる磁気ディスク
用アルミニウム基板を要旨とするものである。
重ｆｆ１％を示す）、マンガン０．０１％以下、クロム
０．０１％以下、鉄０．１％以下、シリコン０．２％以
下、チタン０．０２％以下、残部アルミニウムと前記以
外の不可避的に含まれる不純物とからなる磁気ディスク
用アルミニウム基板を要旨とするものである。
以下本発明の詳細な説明する。
先ず本発明の磁気ディスク用アルミニウム基板を構成す
るアルミニウム合金の各組成成分の添加理由について説
明する。
るアルミニウム合金の各組成成分の添加理由について説
明する。
マグネシウムは本発明基板の機械的強度を高める上で最
も有効な作用をなし、３．０〜６．０％の範囲内におい
てこのマグネシウムはアルミニウムマトリックス中に殆
んど固溶し、金属間化合物を作っても多用で且つ微細で
あυ、その影響は問題とならない。
も有効な作用をなし、３．０〜６．０％の範囲内におい
てこのマグネシウムはアルミニウムマトリックス中に殆
んど固溶し、金属間化合物を作っても多用で且つ微細で
あυ、その影響は問題とならない。
また本発明においてマグネシウムの添加量を上記範囲に
限定した理由は、３φ未、ｆ４では磁気ディスク用基板
として製造成いは使用する過程において充分な機械的強
度が得られず、また６チを越えて添加するとＡＪ−Ｍｇ
金属間化合物が生成されろと共に、溶解、鋳造および加
熱時の高温酸化によｆ）ＭｇＯなど非金属介在物の生成
が促進されるからである。
限定した理由は、３φ未、ｆ４では磁気ディスク用基板
として製造成いは使用する過程において充分な機械的強
度が得られず、また６チを越えて添加するとＡＪ−Ｍｇ
金属間化合物が生成されろと共に、溶解、鋳造および加
熱時の高温酸化によｆ）ＭｇＯなど非金属介在物の生成
が促進されるからである。
またマンガン、クロム＋ 鉄ｒ シリコン、チタンはＡ
、Ａ−Ｍｎ ｒ ＡＪ、−Ｍｌ−Ｐｌｅｒ ｋｌ −Ｃ
ｒ ＋ ＡＩ−−Ｃｒべく少ない方が好ましく、その含
有紮がマンガン０．４％、りＣ７ムＱ、０３％、鉄０．
ＩＬｙ６１．）、す’ｔンｏ、２係、チタン０．０２％
を夫々越えると直径７μを越える粗大な金属間化合物を
生成し易くなる。またマンガンとクロムから生成されろ
Ａ、Ｌ −Ｍｎ −Ｆｅ、Ａ２− Ｃｒ 、 Ａｉ−
Ｃｒ −Ｍｎなどの金属間化合物は粗大で且つ硬いため
基板の表面精度と清浄度に特に悪影響を及ぼし易い。こ
のためマンガンとクロムのうち、クロムの＝に＝１重量
をＯ，０１％以下におさえると表面精度と清浄度の向上
に効果があり、更にマンガンとクロムの活量を夫々０．
０１ 多収下に低く抑えることにより一段と効果を向
上させろことができる。
、Ａ−Ｍｎ ｒ ＡＪ、−Ｍｌ−Ｐｌｅｒ ｋｌ −Ｃ
ｒ ＋ ＡＩ−−Ｃｒべく少ない方が好ましく、その含
有紮がマンガン０．４％、りＣ７ムＱ、０３％、鉄０．
ＩＬｙ６１．）、す’ｔンｏ、２係、チタン０．０２％
を夫々越えると直径７μを越える粗大な金属間化合物を
生成し易くなる。またマンガンとクロムから生成されろ
Ａ、Ｌ −Ｍｎ −Ｆｅ、Ａ２− Ｃｒ 、 Ａｉ−
Ｃｒ −Ｍｎなどの金属間化合物は粗大で且つ硬いため
基板の表面精度と清浄度に特に悪影響を及ぼし易い。こ
のためマンガンとクロムのうち、クロムの＝に＝１重量
をＯ，０１％以下におさえると表面精度と清浄度の向上
に効果があり、更にマンガンとクロムの活量を夫々０．
０１ 多収下に低く抑えることにより一段と効果を向
上させろことができる。
なおアルミニウム合金中に不可避的に含まれる上記以外
の不純物、例えば銅や亜鉛はアルミニウムマトリックス
中に固溶し、金属間化合物を生成しないため基板の表面
状態に悪影響を及ぼすことが少ない。
の不純物、例えば銅や亜鉛はアルミニウムマトリックス
中に固溶し、金属間化合物を生成しないため基板の表面
状態に悪影響を及ぼすことが少ない。
しかして上記組成範囲にあるアルミニウム合金で形成さ
れた磁気ディスク用アルミニウム基板は金属間化合物や
非金属介在物の生成能が少なく、しかもこれら介在物の
直径がほとんど７μ以下と微細であり、特に基板表面に
分散する直径７μ以上の介在物の数が１ ｍｍ２当！Ｉ
１１個以下で、かつ３μ以上の介在物についてみてもそ
の数がきわめて少ない場合に、研磨後において優れた表
面精度と清浄度とが得らｎ、信頼性の高い高密度用磁気
ディスク基板が得られる。
れた磁気ディスク用アルミニウム基板は金属間化合物や
非金属介在物の生成能が少なく、しかもこれら介在物の
直径がほとんど７μ以下と微細であり、特に基板表面に
分散する直径７μ以上の介在物の数が１ ｍｍ２当！Ｉ
１１個以下で、かつ３μ以上の介在物についてみてもそ
の数がきわめて少ない場合に、研磨後において優れた表
面精度と清浄度とが得らｎ、信頼性の高い高密度用磁気
ディスク基板が得られる。
また上記組成のアルミニウム合金からなる板材を皮材と
し、これと異なる組成のアルミニウム合金を芯材とし、
この芯材の片面または両面にクラッドした磁気ディスク
用アルミニウム基板でも良い。この基板の製造方法とし
ては皮材と、面側した芯材とを重ね合わせてこれを熱間
圧延して接合することにより得られる。磁気ディスク用
アルミニウム基板Ｉｔｉｍ述の如く表層部の状態が、磁
気ディスクとしての性能に大きく影響するが上記の如き
組成のアルミニウム合金を皮材として表層部にのみ用い
ることによｆ）経済的に基板を製造することができる。
し、これと異なる組成のアルミニウム合金を芯材とし、
この芯材の片面または両面にクラッドした磁気ディスク
用アルミニウム基板でも良い。この基板の製造方法とし
ては皮材と、面側した芯材とを重ね合わせてこれを熱間
圧延して接合することにより得られる。磁気ディスク用
アルミニウム基板Ｉｔｉｍ述の如く表層部の状態が、磁
気ディスクとしての性能に大きく影響するが上記の如き
組成のアルミニウム合金を皮材として表層部にのみ用い
ることによｆ）経済的に基板を製造することができる。
次に本発明の実施例について説明する。
実施例１
第２表の合金Ｅおよび合金Ｆに示す組成のアルミニウム
合金を溶解し、この溶湯を間隙１０μ以下のフィルター
に通過させて粗大な介在物を除去した後、造塊し、両面
について面側して３５ＱｍｍＸ １０００ｍｍ Ｘ ２
０００ｍｍの鋳塊とし、次いでこしを４５０Ｃで５時間
加熱処理し、更にこれを５５０Ｃで１２時間加熱処理し
て添加元素と不純物を固溶１分散させる。次にこの鋳塊
を熱間圧延して板厚５ ｍｍ とした後、更に板厚２
ｍｍまで冷間圧延これを３６０Ｃで４時間焼鈍して磁気
ディスク用アルミニウム基板（Ｎｃｌ〜ＮＱ２）を得た
。
合金を溶解し、この溶湯を間隙１０μ以下のフィルター
に通過させて粗大な介在物を除去した後、造塊し、両面
について面側して３５ＱｍｍＸ １０００ｍｍ Ｘ ２
０００ｍｍの鋳塊とし、次いでこしを４５０Ｃで５時間
加熱処理し、更にこれを５５０Ｃで１２時間加熱処理し
て添加元素と不純物を固溶１分散させる。次にこの鋳塊
を熱間圧延して板厚５ ｍｍ とした後、更に板厚２
ｍｍまで冷間圧延これを３６０Ｃで４時間焼鈍して磁気
ディスク用アルミニウム基板（Ｎｃｌ〜ＮＱ２）を得た
。
このようにして得られた基板の片面を切削加工した後、
更にパフ研磨して仕上げ、この表面の精度（アラサ）と
清浄度（介在物の数）を測定した。
更にパフ研磨して仕上げ、この表面の精度（アラサ）と
清浄度（介在物の数）を測定した。
またこの基板の引張強さ、１ＩＩＩ′１′力、伸び、硬
さなど機械的性能についても夫々測定し、これらの測定
結果と、これに基づく総合判定を夫々第３表に示した。
さなど機械的性能についても夫々測定し、これらの測定
結果と、これに基づく総合判定を夫々第３表に示した。
なお表面の精度についてはアルミニウム合金基板の表面
を、酸化アルミニウム粉を研磨粉として、通常のバフ研
磨をした後、表面アラサ計を用いて、最大の表面アラサ
（Ｒｍａｘ、μ）を測定した。また表面の清浄度につい
ては上記研ｌＩ！後の表面を顕微鏡で観察した。評価の
方法は４００倍の倍率で１ｍｍ２の視野内に存在する介
在物を３μ、５μ、７μ。
を、酸化アルミニウム粉を研磨粉として、通常のバフ研
磨をした後、表面アラサ計を用いて、最大の表面アラサ
（Ｒｍａｘ、μ）を測定した。また表面の清浄度につい
ては上記研ｌＩ！後の表面を顕微鏡で観察した。評価の
方法は４００倍の倍率で１ｍｍ２の視野内に存在する介
在物を３μ、５μ、７μ。
１０μ以上の４種類に発句して、それぞれの個数をカウ
ントしたものである。尚介在物の大きさは、その最大径
を粒径として測定した。又測定精度向上のため１つの基
板表面について、２０点測定し、介在物各粒径の個数を
２０ケ所の最小、最大値の範囲で表示した。また磁気デ
ィスク用アルミニウム基板の特性についての総合判定は
、表面Ｍ度。
ントしたものである。尚介在物の大きさは、その最大径
を粒径として測定した。又測定精度向上のため１つの基
板表面について、２０点測定し、介在物各粒径の個数を
２０ケ所の最小、最大値の範囲で表示した。また磁気デ
ィスク用アルミニウム基板の特性についての総合判定は
、表面Ｍ度。
清浄度および機械的性能のいずれも良好なものを１−○
」、やや良好なものを［△］、それ以外のものを１’−
ｘＪとして表示した。
」、やや良好なものを［△］、それ以外のものを１’−
ｘＪとして表示した。
比較例１
第２表の合金Ａ１合金Ｂ、合金Ｇ〜金合金に示す、本発
明に規定する範囲外の組成のアルミニウム合金について
も、上記実施例と同様の方法で中空円板状の磁気ディス
ク用アルミニウム基板（（３〜嵐１０）を製造した。こ
の基板についても切削加工、研磨加工して表１ｍを仕上
げた後、上記実施例と同様に各種の特性を測定し、その
結果を第３表に囲ｎ己した。
明に規定する範囲外の組成のアルミニウム合金について
も、上記実施例と同様の方法で中空円板状の磁気ディス
ク用アルミニウム基板（（３〜嵐１０）を製造した。こ
の基板についても切削加工、研磨加工して表１ｍを仕上
げた後、上記実施例と同様に各種の特性を測定し、その
結果を第３表に囲ｎ己した。
従来例１
第２表に示す従来のＡＡ５０８６合金を用いて上記実施
例と同様の方法で磁気ディスク用基板（虫］１）を製造
し、これについても研磨後の各種特性を測定してその結
果を第３表に併記した。
例と同様の方法で磁気ディスク用基板（虫］１）を製造
し、これについても研磨後の各種特性を測定してその結
果を第３表に併記した。
上表の結果から明らかな如く本発明品はアラブが０．０
３ｚｚ以下と表面精度にきわめて優れ、しかも介在物の
直径が７μ以上のものが基板１ ｍｍ２当り】個以下、
３μ以上のものでも３〜７個以下と欠陥がきわめて少な
く清浄度に優れ、しかも機械８′、Ｉ特性も従来のＡＡ
５０８６を用込たものと同等以上でろジ、神々の優れた
特性を有することが確認さ才ｔた。
３ｚｚ以下と表面精度にきわめて優れ、しかも介在物の
直径が７μ以上のものが基板１ ｍｍ２当り】個以下、
３μ以上のものでも３〜７個以下と欠陥がきわめて少な
く清浄度に優れ、しかも機械８′、Ｉ特性も従来のＡＡ
５０８６を用込たものと同等以上でろジ、神々の優れた
特性を有することが確認さ才ｔた。
また比較列において、マンガンとクロムが夫々本発明に
規定する範（用を越えるＮＱ３．％４のものは表ｕｊ精
度＋ ’６２ Ｌ争度とも本発明品より劣っている。
規定する範（用を越えるＮＱ３．％４のものは表ｕｊ精
度＋ ’６２ Ｌ争度とも本発明品より劣っている。
、またマグネ７ウムが少ない克５のものは機械的′−７
・特性が劣ジ、またマグネンウム、鉄、シリコン。
マンガン、クロムが夫々本発明に規定する範囲を越える
猶６〜％１０のものは表面精度、清浄度とも何れも本発
明品より著しく劣っている。史に従来のＡＡ５０８らを
用いたＮＱｌｌのものは充分な表面精度が得られないと
共に、加熱工程において介在物が成長し粗大化すること
が１１、ｇめられた。
猶６〜％１０のものは表面精度、清浄度とも何れも本発
明品より著しく劣っている。史に従来のＡＡ５０８らを
用いたＮＱｌｌのものは充分な表面精度が得られないと
共に、加熱工程において介在物が成長し粗大化すること
が１１、ｇめられた。
以上説明した如く本発明によれは、粗大な非金属介在物
を除去し金属間化合物と非金属介在物を生成する元素の
含有量を低く抑えて、その生成量を少ン２くすると共に
微細化し一方ではＭｇの量を制御すること罠よシ、機械
的強度をそこなわないようにし研磨後の表面精度と清浄
度を高めて、磁性体被覆形成後の欠陥のきわめて少ない
磁気ディスク基板が得られるという顕著な効果を有する
ものである。
を除去し金属間化合物と非金属介在物を生成する元素の
含有量を低く抑えて、その生成量を少ン２くすると共に
微細化し一方ではＭｇの量を制御すること罠よシ、機械
的強度をそこなわないようにし研磨後の表面精度と清浄
度を高めて、磁性体被覆形成後の欠陥のきわめて少ない
磁気ディスク基板が得られるという顕著な効果を有する
ものである。
Claims (1)
- マグネシウム３．０〜６．０重量％マンガン０．０１重
量％以下、クロム０．０１重量％以下、鉄０．１重量％
以下、シリコン０．２重量％以下、チタン０．０２重量
％以下、残部アルミニウムと前記以外の不可避的に含ま
れる不純物とからなる磁気ディスク用アルミニウム基板
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6474285A JPS6176643A (ja) | 1985-03-28 | 1985-03-28 | 磁気デイスク用アルミニウム基板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6474285A JPS6176643A (ja) | 1985-03-28 | 1985-03-28 | 磁気デイスク用アルミニウム基板 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP247278A Division JPS5495912A (en) | 1978-01-13 | 1978-01-13 | Aluminum substrate for magnetic disc and manufacture thereof |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6176643A true JPS6176643A (ja) | 1986-04-19 |
| JPS6348940B2 JPS6348940B2 (ja) | 1988-10-03 |
Family
ID=13266909
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6474285A Granted JPS6176643A (ja) | 1985-03-28 | 1985-03-28 | 磁気デイスク用アルミニウム基板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6176643A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63216953A (ja) * | 1987-03-05 | 1988-09-09 | Sumitomo Light Metal Ind Ltd | 磁気デイスク用ａ１合金基板の製造法 |
| CN104894442A (zh) * | 2015-05-05 | 2015-09-09 | 山东南山铝业股份有限公司 | 一种车用铝合金板材及其制备方法 |
| JP2020087485A (ja) * | 2018-11-15 | 2020-06-04 | 株式会社神戸製鋼所 | 磁気ディスク用アルミニウム合金板、磁気ディスク用アルミニウム合金ブランクおよび磁気ディスク用アルミニウム合金サブストレート |
-
1985
- 1985-03-28 JP JP6474285A patent/JPS6176643A/ja active Granted
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63216953A (ja) * | 1987-03-05 | 1988-09-09 | Sumitomo Light Metal Ind Ltd | 磁気デイスク用ａ１合金基板の製造法 |
| JPH0364596B2 (ja) * | 1987-03-05 | 1991-10-07 | Sumitomo Light Metal Ind | |
| CN104894442A (zh) * | 2015-05-05 | 2015-09-09 | 山东南山铝业股份有限公司 | 一种车用铝合金板材及其制备方法 |
| JP2020087485A (ja) * | 2018-11-15 | 2020-06-04 | 株式会社神戸製鋼所 | 磁気ディスク用アルミニウム合金板、磁気ディスク用アルミニウム合金ブランクおよび磁気ディスク用アルミニウム合金サブストレート |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6348940B2 (ja) | 1988-10-03 |
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