JPS59193239A - 磁気デイスク基板用Ａｌ合金 - Google Patents
磁気デイスク基板用Ａｌ合金Info
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- JPS59193239A JPS59193239A JP6678883A JP6678883A JPS59193239A JP S59193239 A JPS59193239 A JP S59193239A JP 6678883 A JP6678883 A JP 6678883A JP 6678883 A JP6678883 A JP 6678883A JP S59193239 A JPS59193239 A JP S59193239A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、高硬度および高強度を有し、かつ素地中に
金属間化合物が均一微細に存在し、さらに非金属介在物
がほとんど存在しない、特にこれらの特性が要求される
磁気ディスクの基板として用いた場合に、磁気ディスク
の高記録密度化を可能にするＭ合金に関するものである
。
金属間化合物が均一微細に存在し、さらに非金属介在物
がほとんど存在しない、特にこれらの特性が要求される
磁気ディスクの基板として用いた場合に、磁気ディスク
の高記録密度化を可能にするＭ合金に関するものである
。
従来、磁気ディスクとして、例えばＭ合金製基板の表面
に磁気記録媒体の皮膜を形成したものが知られており、
通常、前記基板としてはＡＡ規格５０８６Ｍ合金（Ｍｎ
： ０．２０−０．７０％、Ｍｇ：３、５−４．５％、
Ｏｒ： ０．０５〜０．２５％２Ｍおよび不可避不純
物：残シ）が使用されている。
に磁気記録媒体の皮膜を形成したものが知られており、
通常、前記基板としてはＡＡ規格５０８６Ｍ合金（Ｍｎ
： ０．２０−０．７０％、Ｍｇ：３、５−４．５％、
Ｏｒ： ０．０５〜０．２５％２Ｍおよび不可避不純
物：残シ）が使用されている。
一方、近年、磁気ディスクの記憶容量の増大。
アクセス時間の短縮、１ピッＭｌの価格の低減。
小型化、および軽量化に対する要求が強くなされるよう
になっており、これらの要求を満足させるためには、磁
気ディスクの磁気記録の高密度化が不可欠の要件である
。
になっており、これらの要求を満足させるためには、磁
気ディスクの磁気記録の高密度化が不可欠の要件である
。
このような磁気記録の高密度化をはかるためには、磁気
記録媒体に欠陥がなく、かつその表面が平滑で、しかも
磁気記録媒体の膜厚が薄く均一であることが必要である
。
記録媒体に欠陥がなく、かつその表面が平滑で、しかも
磁気記録媒体の膜厚が薄く均一であることが必要である
。
しかし、磁気記録媒体を薄くした場合、基板の素地に大
きな金属間化合物や非金属介在物が存在すると、これが
ビット落（情報の一部が記録されない現象）などの欠陥
の原因となることから、大きな金属間化合物や非金属介
在物の存在しない基板が必要となるが、上記の５０８６
Ｍ合金においては、溶湯濾過などによシ非金属介在物が
著しく低減した状態にすることができるが、金属間化合
物が比較的大寸の状態で存在することから、磁気記録媒
体の薄膜化にも限度があるものである。
きな金属間化合物や非金属介在物が存在すると、これが
ビット落（情報の一部が記録されない現象）などの欠陥
の原因となることから、大きな金属間化合物や非金属介
在物の存在しない基板が必要となるが、上記の５０８６
Ｍ合金においては、溶湯濾過などによシ非金属介在物が
著しく低減した状態にすることができるが、金属間化合
物が比較的大寸の状態で存在することから、磁気記録媒
体の薄膜化にも限度があるものである。
また、磁気ディスク表面の平滑さは、と９もなおさず基
板表面の平滑さによるものであり、したがって基板には
鏡面仕上げが施されるが、上記の５０８６Ｍ合金は、こ
れらの研磨を容易とするほどの十分満足する硬さをもつ
ものではない。
板表面の平滑さによるものであり、したがって基板には
鏡面仕上げが施されるが、上記の５０８６Ｍ合金は、こ
れらの研磨を容易とするほどの十分満足する硬さをもつ
ものではない。
さらに、基板の強度が高いほど磁気ディスクの小型化、
軽量化、および薄肉化がはかれることになるが、同様に
上記５０８６Ｍ合金は、これらを実現するのに十分な高
強度をもつものではない。
軽量化、および薄肉化がはかれることになるが、同様に
上記５０８６Ｍ合金は、これらを実現するのに十分な高
強度をもつものではない。
そこで、本発明者等は、上述のような観点から、高硬度
および高強度を有し、非金属介在物が存在しないことは
勿論のこと、素地中に分布する金属間化合物が微細な組
織を有するＭ合金を開発すべく研究を行なった結果、 Ｏｕ：Ｏ、３−２，０％ 、 Ｍｇ：３．０〜５．０％、 Ｚｎ：０．５〜３．０係、 Ｍｎ ： ０．１〜０．５％、 を含有し、さらに必要に応じて、 Ｚｒ：０．０２〜０．５係、 を含有し、かつ不可避不純物としてのＳｉ、 Ｆｅ、
Ｏｒ。
および高強度を有し、非金属介在物が存在しないことは
勿論のこと、素地中に分布する金属間化合物が微細な組
織を有するＭ合金を開発すべく研究を行なった結果、 Ｏｕ：Ｏ、３−２，０％ 、 Ｍｇ：３．０〜５．０％、 Ｚｎ：０．５〜３．０係、 Ｍｎ ： ０．１〜０．５％、 を含有し、さらに必要に応じて、 Ｚｒ：０．０２〜０．５係、 を含有し、かつ不可避不純物としてのＳｉ、 Ｆｅ、
Ｏｒ。
Ｎｉ、およびＴ１の含有量が、それぞれ、Ｓｉ：０．２
０％以下、 Ｆｅ：Ｑ、５Ｑ％以下、 Ｏｒ：０．０５％以下、 Ｎｉ：０．０４％以下、 Ｔｉ：０．０１チ以下、 であり、残りがＭとその他の不可避不純物からなる組成
（以上重量％、以下チは重量％を示す）を有するＭ合金
は、上記の特性をすべて兼ね備え、したがってこのＭ合
金を磁気ディスクの基板として用いた場合には磁気ディ
スクにおける磁気記録の高密度化が可能となるという知
見を得たのである。
０％以下、 Ｆｅ：Ｑ、５Ｑ％以下、 Ｏｒ：０．０５％以下、 Ｎｉ：０．０４％以下、 Ｔｉ：０．０１チ以下、 であり、残りがＭとその他の不可避不純物からなる組成
（以上重量％、以下チは重量％を示す）を有するＭ合金
は、上記の特性をすべて兼ね備え、したがってこのＭ合
金を磁気ディスクの基板として用いた場合には磁気ディ
スクにおける磁気記録の高密度化が可能となるという知
見を得たのである。
この発明は、上記知見にもとづいてなされたものであっ
て、以下に成分組成範囲を上記の通りに限定した理由を
説明する。
て、以下に成分組成範囲を上記の通りに限定した理由を
説明する。
（ａｌ ０ｕ
Ｃｕ成分には、大きな金属間化合物を形成することなく
、合金の強度および硬さを向上させ、さらに％ −Ｍｇ
系金属間化合物の粗大化を抑制する作用があるが、その
含有量が０．３％未満では前記作用に所望の効果が得ら
れず、一方２．０ ％ ｋ越えて含有させると、圧延加
工性および鋳造性が劣化するようになると共に、耐食性
も低下するようになることから、その含有量を０．３〜
２．０％と定めた。
、合金の強度および硬さを向上させ、さらに％ −Ｍｇ
系金属間化合物の粗大化を抑制する作用があるが、その
含有量が０．３％未満では前記作用に所望の効果が得ら
れず、一方２．０ ％ ｋ越えて含有させると、圧延加
工性および鋳造性が劣化するようになると共に、耐食性
も低下するようになることから、その含有量を０．３〜
２．０％と定めた。
（ｂ） Ｍｇ
１化成分に（は、合金の硬さおよび強度を著しく向上さ
せる作用がちるが、その含有量が３０％未満では所望の
高硬度および高強度を確保することができず、一方５．
０％全越えて含有させると、圧延加工が困難になると共
に、大きなＭｌ −Ｍｇ系の金属間化合物が形成される
ようになることから、その含有量全３．０〜５．０％と
定めた。
せる作用がちるが、その含有量が３０％未満では所望の
高硬度および高強度を確保することができず、一方５．
０％全越えて含有させると、圧延加工が困難になると共
に、大きなＭｌ −Ｍｇ系の金属間化合物が形成される
ようになることから、その含有量全３．０〜５．０％と
定めた。
（ｃ） Ｚｎ
Ｚｎ成分には、大きな金属間化合物を形成することなし
に、合金の強度および硬さ金白」ニさせる作用があるが
、その含有量が０．５％未満で（は前記作用に所望の向
上効果が得られず、一方３．０％を越えて含有させると
、鋳造性および圧延加工性が劣化するようになることか
ら、その含有量を０．５〜３０％と定めた。
に、合金の強度および硬さ金白」ニさせる作用があるが
、その含有量が０．５％未満で（は前記作用に所望の向
上効果が得られず、一方３．０％を越えて含有させると
、鋳造性および圧延加工性が劣化するようになることか
ら、その含有量を０．５〜３０％と定めた。
（ｄ） ｍｎ
Ｍｎ成分には、不可避不純物たるＦｅおよびＳｌによっ
て形成されるＭ−ＦｅおよびＭ −Ｆｅ −Ｓｉの金属
間化合物全微細化する作用があるが、その含有量が０．
１係未満では前記作用に所望の効果が得られず、一方０
５％を越えて含有させると、Ｍｎ自体が金属間化合物を
形成する場合が生ずることから、その含有量−１ｏ、１
〜０．５％と定めた。
て形成されるＭ−ＦｅおよびＭ −Ｆｅ −Ｓｉの金属
間化合物全微細化する作用があるが、その含有量が０．
１係未満では前記作用に所望の効果が得られず、一方０
５％を越えて含有させると、Ｍｎ自体が金属間化合物を
形成する場合が生ずることから、その含有量−１ｏ、１
〜０．５％と定めた。
（ｅ） Ｚｒ
Ｚｒ成分には、合金の結晶粒および金属間化合物を微細
化する作用があるので必要に応じて含有されるが、その
含有量が０．０２％未満では所望の微細化効果が得られ
ず、一方０５％を越えて含有させると、大きなＡＡ−Ｚ
ｒ系金属間化合物が形成されるようになることから、そ
の含有量−ｉｏ、０２〜０．５％と定めた。
化する作用があるので必要に応じて含有されるが、その
含有量が０．０２％未満では所望の微細化効果が得られ
ず、一方０５％を越えて含有させると、大きなＡＡ−Ｚ
ｒ系金属間化合物が形成されるようになることから、そ
の含有量−ｉｏ、０２〜０．５％と定めた。
（ｆ） 不可避不純物としてのＳｉ、 Ｆｅ、 ｃｒ
、 Ｎ１．およびＴ１ これらの成分には、いずれも金属間化合物を形成する作
用があり、しかもその含有量が下記の許容値を越えると
、いずれの場合も大きな金属間化合物を形成するように
なることから、それぞれ、その含有量を、Ｓｉ：０．２
０％す、下、Ｆｏ：０．５０％以下、Ｃｒ：０．０５％
以下、Ｎｉ：０．０４％以下、およびＴｊ、：０．０１
φ以下と定めた。
、 Ｎ１．およびＴ１ これらの成分には、いずれも金属間化合物を形成する作
用があり、しかもその含有量が下記の許容値を越えると
、いずれの場合も大きな金属間化合物を形成するように
なることから、それぞれ、その含有量を、Ｓｉ：０．２
０％す、下、Ｆｏ：０．５０％以下、Ｃｒ：０．０５％
以下、Ｎｉ：０．０４％以下、およびＴｊ、：０．０１
φ以下と定めた。
つぎに、この発明のＭ合金を実施例により具体的に説明
する。
する。
実施例
市販の純度 ９９．７φ以上を有するＭ地金を溶解し、
これに合金元素を添加して、それぞれ第１表に示される
成分組成をもったＭ合金溶湯に調製した後、塩素ガスを
吹き込んで脱ガスし、沈静処理全行ない、さらに非金属
介在物を除去するために耐火物製フィルタにて濾過して
から、直接冷却連続鋳造法にて幅 ］、 ０００ ｍｍ
Ｘ長さ ２５００咽×厚さ ６００ｍｍの寸法をもっ
た鋳塊とし、ついで、この鋳塊に５００〜５４０℃の範
囲内の温度に１２時間保持後放冷の熱処理を施した後、
この鋳塊の上下両面を厚さ１５咽に亘って面側して厚さ
：５７０＋＋＋＋ｎの鋳塊とした状態で、５．００℃に
加熱して熱間圧延を施して板厚ニア、５ｍｍの熱延板と
し、引続いて、この熱延板に冷間圧延を施して板厚：２
聴の冷延板とし、さらにこの冷延板より直径：２００ｍ
＋＋の円板をプレスにて打抜くことによって、本発明Ｍ
合金１〜１２および従来の５０８６Ｍ合金の円板をそれ
ぞれ製造した。
これに合金元素を添加して、それぞれ第１表に示される
成分組成をもったＭ合金溶湯に調製した後、塩素ガスを
吹き込んで脱ガスし、沈静処理全行ない、さらに非金属
介在物を除去するために耐火物製フィルタにて濾過して
から、直接冷却連続鋳造法にて幅 ］、 ０００ ｍｍ
Ｘ長さ ２５００咽×厚さ ６００ｍｍの寸法をもっ
た鋳塊とし、ついで、この鋳塊に５００〜５４０℃の範
囲内の温度に１２時間保持後放冷の熱処理を施した後、
この鋳塊の上下両面を厚さ１５咽に亘って面側して厚さ
：５７０＋＋＋＋ｎの鋳塊とした状態で、５．００℃に
加熱して熱間圧延を施して板厚ニア、５ｍｍの熱延板と
し、引続いて、この熱延板に冷間圧延を施して板厚：２
聴の冷延板とし、さらにこの冷延板より直径：２００ｍ
＋＋の円板をプレスにて打抜くことによって、本発明Ｍ
合金１〜１２および従来の５０８６Ｍ合金の円板をそれ
ぞれ製造した。
つぎに、この結果得られた本発明Ｍ合金１〜１２および
５０８６Ｍ合金の円板に、３５０℃の温度に２時間保持
の加圧焼鈍を施した後、荒研磨を行ない、さらにパフ研
磨を施して、その表面を鏡面仕上げした。なお、研磨式
は０．２ ｖａｎであった。
５０８６Ｍ合金の円板に、３５０℃の温度に２時間保持
の加圧焼鈍を施した後、荒研磨を行ない、さらにパフ研
磨を施して、その表面を鏡面仕上げした。なお、研磨式
は０．２ ｖａｎであった。
それぞれの円板に要したパフ研磨時間を測定すると共に
、鏡面仕上げ面の表面粗さを測定し、また鏡面仕上げ面
における金属間化合物の最大寸法を測定した。さらに、
上記本発明Ｍ合金１〜１２および５０８’６Ａｊ！合金
について、機械的性質も測定した。これらの測定結果を
第２表に示した。
、鏡面仕上げ面の表面粗さを測定し、また鏡面仕上げ面
における金属間化合物の最大寸法を測定した。さらに、
上記本発明Ｍ合金１〜１２および５０８’６Ａｊ！合金
について、機械的性質も測定した。これらの測定結果を
第２表に示した。
第２表に示される結果から、本発明Ｍ合金１〜１２は、
いずれも従来の５ ｏ ８６Ｍ合金に比して、高強度お
よび高硬度を有し、このことはよシ短かいパフ研磨時間
で表面粗さのより良好な鏡面に仕上げることができるこ
とからも明らかであり、また素地中に存在する非金属介
在物のザイズも著しく小さいものである。
いずれも従来の５ ｏ ８６Ｍ合金に比して、高強度お
よび高硬度を有し、このことはよシ短かいパフ研磨時間
で表面粗さのより良好な鏡面に仕上げることができるこ
とからも明らかであり、また素地中に存在する非金属介
在物のザイズも著しく小さいものである。
なお、この発明のＭ合金は、例えば上記の５０８６Ｍ合
金等の市販のＭ合金とのクラツド材として用いてもよく
、この場合磁気記録媒体の皮膜が形成されるのは、この
発明のＭ合金の表面」二でちることは勿論である。
金等の市販のＭ合金とのクラツド材として用いてもよく
、この場合磁気記録媒体の皮膜が形成されるのは、この
発明のＭ合金の表面」二でちることは勿論である。
」二連のように、この発明のＭ合金は、高硬度をもつの
で、これを磁気ディスクの基板として用いる場合には、
比較的短かいパフ研磨時間で、表面全きわめてすぐれた
鏡面に仕上げることができるばかシでなく、素地中に存
在する金属間化合物が微細にして均一であり、しかも非
金属介在物が溶湯濾過などの手段により除去されている
ので、磁気記録媒体の膜厚を薄くすることができること
から、磁気記録の高密度化をはかることができ、さらに
高強度を有するので、磁気ディスクの小型化および軽量
化が可能となるなど工業上有用な特性を有するのである
。
で、これを磁気ディスクの基板として用いる場合には、
比較的短かいパフ研磨時間で、表面全きわめてすぐれた
鏡面に仕上げることができるばかシでなく、素地中に存
在する金属間化合物が微細にして均一であり、しかも非
金属介在物が溶湯濾過などの手段により除去されている
ので、磁気記録媒体の膜厚を薄くすることができること
から、磁気記録の高密度化をはかることができ、さらに
高強度を有するので、磁気ディスクの小型化および軽量
化が可能となるなど工業上有用な特性を有するのである
。
出願人 三菱アルミニウム株式会社
代理人 富 １）和 夫 外１名
Claims (2)
- （１） Ｃ！ｕ ： ０．３〜２．０％、Ｍｇ：３．
０〜５．０％、 Ｚｎ：０．５〜３０係、 Ｍｎ： ０．１〜０．５ ％、 を含有し、残シがＭと不可避不純物からなる組成（以上
重量％）を有し、かつ不可避不純物としてのＳｉ、 Ｆ
ｅ、 Ｏｒ、 Ｎｉ、およびＴＩの含有量が、同じく重
量％で、 Ｓｉ、：０．２０％以下、 Ｆｅ：０．５０％以下、 Ｏｒ：０．０５％以下、 Ｎｉ：０．０４％以下、 Ｔｉ：０．０１％以下、 であること全特徴とする磁気ディスク基板用Ｍ合金。 - （２） ｃｕ： ０．３−２．０ ％、Ｍｇ：３．Ｏ
〜５．０％、 Ｚｎ：０．５〜３．０％、 Ｍｎ： ０．１〜０．５ ％、 を含有し、さらに、 Ｚｒ：０．０２〜０．５％、 全含有し、残りがＭと不可避不純物からなる組成（以上
重量％）を有し、かつ不可避不純物としてのＳｉ、、
Ｆｅ、 Ｏｒ、 Ｎｉ、およびＴ１の含有量が、同じ〈
重量係で、 Ｓｊ、：０．２０チ以下、 Ｆｅ：Ｑ、５Ｑチ以下、 Ｏｒ：０．０５φ以下、 Ｎｉ：０．０４条以下、 Ｔｉ：ｏ、ｏｉ係以下、 であること全特徴とする磁気ディスク基板用Ｍ合金。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6678883A JPS59193239A (ja) | 1983-04-15 | 1983-04-15 | 磁気デイスク基板用Ａｌ合金 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6678883A JPS59193239A (ja) | 1983-04-15 | 1983-04-15 | 磁気デイスク基板用Ａｌ合金 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59193239A true JPS59193239A (ja) | 1984-11-01 |
| JPS6151018B2 JPS6151018B2 (ja) | 1986-11-07 |
Family
ID=13325943
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6678883A Granted JPS59193239A (ja) | 1983-04-15 | 1983-04-15 | 磁気デイスク基板用Ａｌ合金 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59193239A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61179842A (ja) * | 1985-02-04 | 1986-08-12 | Sumitomo Light Metal Ind Ltd | メツキ性にすぐれた磁気デイスク用アルミニウム合金 |
| JPS6372848A (ja) * | 1986-09-16 | 1988-04-02 | Kobe Steel Ltd | 磁気デイスク用アルミニウム基合金板 |
| JPH01188654A (ja) * | 1988-01-21 | 1989-07-27 | Kobe Steel Ltd | メッキ性に優れ歪の小さいディスク用アルミニウム合金板の製造方法 |
| CN104046856A (zh) * | 2014-07-01 | 2014-09-17 | 张家港市佳晟机械有限公司 | 一种铝铜镁系硬铝合金 |
| JP2020087485A (ja) * | 2018-11-15 | 2020-06-04 | 株式会社神戸製鋼所 | 磁気ディスク用アルミニウム合金板、磁気ディスク用アルミニウム合金ブランクおよび磁気ディスク用アルミニウム合金サブストレート |
-
1983
- 1983-04-15 JP JP6678883A patent/JPS59193239A/ja active Granted
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61179842A (ja) * | 1985-02-04 | 1986-08-12 | Sumitomo Light Metal Ind Ltd | メツキ性にすぐれた磁気デイスク用アルミニウム合金 |
| JPH024672B2 (ja) * | 1985-02-04 | 1990-01-30 | Sumitomo Light Metal Ind | |
| JPS6372848A (ja) * | 1986-09-16 | 1988-04-02 | Kobe Steel Ltd | 磁気デイスク用アルミニウム基合金板 |
| JPH01188654A (ja) * | 1988-01-21 | 1989-07-27 | Kobe Steel Ltd | メッキ性に優れ歪の小さいディスク用アルミニウム合金板の製造方法 |
| CN104046856A (zh) * | 2014-07-01 | 2014-09-17 | 张家港市佳晟机械有限公司 | 一种铝铜镁系硬铝合金 |
| CN104046856B (zh) * | 2014-07-01 | 2016-04-27 | 张家港市佳晟机械有限公司 | 一种铝铜镁系硬铝合金 |
| JP2020087485A (ja) * | 2018-11-15 | 2020-06-04 | 株式会社神戸製鋼所 | 磁気ディスク用アルミニウム合金板、磁気ディスク用アルミニウム合金ブランクおよび磁気ディスク用アルミニウム合金サブストレート |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6151018B2 (ja) | 1986-11-07 |
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