JPH02159339A - 鏡面加工性に優れた磁気ディスク基板用アルミニウム合金 - Google Patents

鏡面加工性に優れた磁気ディスク基板用アルミニウム合金

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JPH02159339A
JPH02159339A JP31348488A JP31348488A JPH02159339A JP H02159339 A JPH02159339 A JP H02159339A JP 31348488 A JP31348488 A JP 31348488A JP 31348488 A JP31348488 A JP 31348488A JP H02159339 A JPH02159339 A JP H02159339A
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JP
Japan
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alloy
magnetic disk
regulated
less
aluminum alloy
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JP31348488A
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English (en)
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Kunihiko Kishino
邦彦 岸野
Motohiro Nanbae
難波江 元広
Kinya Ohara
欽也 大原
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Furukawa Aluminum Co Ltd
Original Assignee
Furukawa Aluminum Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は磁気ディスク基板用アルミニウム合金に関し、
特にその切削、研削による鏡面加工性に優れるものであ
る。
〔従来の技術〕
電子計算機の記録装置に用いられる磁気ディスクには、
一般にアルミニウム合金からなる基板の表面に磁性体を
被覆したものが用いられている。
このような磁気ディスクは基板を所定の厚さに加工した
後、表面を鏡面研磨してから磁性体粉末と樹脂粉末の混
合物を塗布し、しかる後加熱処理して磁性体膜を形成す
ることにより作られている。
近年磁気ディスクは大容量化、高密度化が要請されるよ
うになり、磁気ディスクの1ビット当りの磁気領域は益
々微小化されていると共に、磁気へンドと磁気ディスク
との間隙も減少させることが必要となり、磁性体膜にも
薄肉化と耐摩耗性の改善が望まれるようになった。この
ため基板を所定の厚さに加工した後、表面を鏡面加工し
てから磁性体被覆のための下地処理としてクロメート処
理、ジンケート処理、無電解メツキあるいはアルマイト
処理等を施し更に研摩した後スパッタリング又はメツキ
により磁性体、例えばCo−N1−2合金を被覆しjこ
磁気ディスクが提案されている。
このような磁気ディスクの基板には次のような特性が要
求されている。
(1)非熱処理型で種々の加工および使用時の高速回転
に耐える十分な強度を有すること。
(2)軽量で切削研磨により良好な鏡面が得られ、ビッ
ト等の表面欠陥が現われないこと。
(3)下地処理である無電解メツキの密着性および表面
平滑性が優れ、メツキ後もビット等の欠陥が現われない
こと。
このような特性を満たす磁気ディスク用基板として、J
ISA5086合金(M g3.5〜4.5prt%、
Fe50.50wt%、SiS2.40wL%、Mn0
.20〜0.7wt%、Cr 0.05〜0.25wt
%、Cu≦0.10wt%、TiS2.15wt%、Z
n≦0.25wt%、A!残部)又はJ I SA50
86合金の不純物であるFeやSt等あるいは添加元素
であるMnやC「を規制してマトリックス中に生成する
金属化合物を小さくした合金が用いられている。
〔発明が解決しようとする課題〕
しかしながら上記J I SA5086合金からなる基
板は、Fe、St等による金属間化合物によるビット不
良が発生しやすいという問題があった。
即ち金属間化合物は切削あるいは研削による鏡面加工時
に脱落してピット欠陥を生成する。このビットは前記下
地処理後残存する場合が多い。このため磁気ディスクの
ビット欠陥の減少の為に主としてその基板用アルミニウ
ム合金の金属間化合物数を減らし、大きさも小さくする
ことが強く望まれ、Fe、Siの不純物を低く規制する
対策が講じられてきたがこれら不純物元素を低減させる
と切削による鏡面加工に用いる工具寿命を低下させると
いう問題が有った。これまでその理由については明確で
はなかった為にとくに対策がとれずにいた。
〔課題を解決するための手段〕
本発明はこれに鑑み種々検討の結果得られたものである
。即ち鏡面加工という極微小領域の切削においては工具
刃先先端部の形状、状態および被切削材料の微小領域で
の変形挙動が切削後の表面状態に大きな影廖を与える。
ここで問題となっている工具寿命に関しては、一定の切
削条件の範囲内に於いて目的とする被削材の表面状1!
(平滑性、表面粗さ等)が得られなくなった状態をもっ
て寿命とすることが殆どである。そこで本発明者らはこ
の工具寿命に至った工具とその際に所定の表面状態が得
られなかった被削材を詳細に検討した結果、工具寿命は
刃先先端部の微量の構成刃先と刃先角の摩耗による微小
変化によるものであることを見いだした。そして本知見
に基づき被削材の金属組織と切削中の工具刃先との相互
作用についてさらに詳細に検討を加えた結果、まず前記
Fe、Siと工具寿命との相関について以下の様な知見
を得るに至った。即ちFe、Stの不純物はその多くが
比較的粗大なAj!−Fe系あるいはAl−Fe−3i
系等の不溶性金属間化合物を生成し前述の様にピット欠
陥の原因となるが、極微細な折出物(最大径が数μm未
満のもの)も生じる。これら微細な析出物には工具刃先
の清浄作用を有し、構成刃先を生じにくくする。さらに
これら析出物が存在すると被削材の工具先端近傍におけ
る塑性変形領域の前段変形抵抗が減少し刃先の摩耗が低
減する効果も奏する。そこでこれらの新たな知見に基づ
き種々の合金組成およびその金属組織について検討した
結果、ピット欠陥は生じずかつ工具寿命の長い鏡面加工
生に優れたアルミニウム合金を発明するに至ったもので
ある。即ち本発明合金の第1は、Mg1〜8wt%、N
 i  0.005〜0.2wt%を必須元素として含
有し、不純物元素として、S i  0.1wt%以下
、F e 0.1wt%以下に規制し、残部がその他の
不可避的不純物とAlからなることを特徴とする鏡面加
工性に優れた磁気ディスク基板用アルミニウム合金であ
り、第2は、Mg1〜8wt%、N t 0.005〜
0.2wt%を必須元素として含有し、さらにMn 0
.005〜1.0wt%、Cr0.005〜0.2wt
%、Z r 0.001〜0.1wt%、Ti0.00
1〜0.05wt%の内1種又は2種以上の元素を選択
的に含有し、不純物元素として、S i0.l wt%
以下、F e 0.1wt%以下に規制し、残部がその
他の不可避的不純物とAIlからなることを特徴とする
鏡面加工法に優れた磁気ディスク基板用アルミニウム合
金であり、第3は、Mg1〜8111%、N i  0
.005〜0.2wt%を必須元素として含有し、さら
にCu 0.001〜2.0wt%、Z n 0.00
1〜2.0wt%の内1種又は2種の元素を選択的に含
有し、不純物元素として、S i 0.1wt%以下、
Fe0.1wL%以下に規制し、残部がその他の不可避
的不純物とAlからなることを特徴とする鏡面加工性に
優れた磁気ディスク基板用アルミニウム合金であり、第
4は、Mg1〜8wt%、N i  0.005〜0.
2wt%を必須元素として含有し、さらにM n 0.
005〜1.0wt%、Cr 0.005〜0.2wt
%、Z r 0.001〜0.1wt%、T l 0.
001〜0.05wt%の内1種又は2種以上の元素を
選択的に含有し、さらにCu0.001〜2.Owt%
、Z n 0.001〜2.0wt%の内1種又は2種
の元素を選択的に含有し、不純物元素として、S i 
 0.1wt%以下、F e 0.1wt%以下に規制
し、残部がその他の不可避的不純物とAlからなること
を特徴とする鏡面加工性に優れた磁気ディスク基板用ア
ルミニウム合金である。
〔作 用〕
以上の本発明合金において合金組成を上記の範囲に限定
したのは下記の理由によるものである(以下−【%を単
に%と略記する)。
Mgは主として強度を得るためのもので、その含有量を
1〜8%と限定したのは、1%未満では十分な強度が得
られず、8%を越えるとA2Mg金属間化合物を生成す
ると共に溶解鋳造時の高温酸化によりMgOなどの非金
属介在物の生成が著しくなりピット不良を発生させる原
因となるためである。
Niは組織中に微細なAn!sNiの金属間化合物を生
じ、工具刃先の清浄作用と被削材の剪断変形応力を減少
させる効果を有する。また切削中においては刃先−金属
界面において切削に伴う発熱に基づき刃先表面への金属
の凝着現象が生じ、これが構成刃先の生成原因となりか
つ刃先摩耗をもたらす要因ともなるが、添加されたNi
の一部はマトリックス中に固溶しこの凝着現象そのもの
を抑制する効果を有し、これにより工具寿命が著しく改
善される。Niの含有量を0.005〜0.2%と限定
したのは添加量が0.005%未満ではこれら効果が充
分ではなく、0.2%を越えると化合物が粗大化して上
記効果が低減すると共にピント不良の原因となるからで
ある。
本発明合金筒2、第4において、Mn、Cr、Z「、T
iは均質化処理時および/または熱間圧延、焼鈍時に微
細な化合物として析出し、再結晶粒を均一微細にしその
結果として工具摩耗を低減する効果があると同時に、そ
の一部はマトリックス中に固溶しその強度を向上させる
と同時にアルマイト処理後の表面の平滑性、無電解メツ
キの密着性等を向上させる作用がある。それぞれ前記範
囲の下限未満ではこの効果が不十分であり上限を越える
と鋳造時のフィルターによる溶湯処理において過剰の元
素が除去されて無駄となるばかりかネ■大な金属間化合
物が生成し、切削、研磨加工を施す際に脱落してピット
欠陥となる危険性が高いからである。
これらのMn、Cr、Zr、Tiは、単独で添加しても
よいが、目的に応じて2種以上を選択して添加する。
A/!−Mg−Ni系の本発明合金による磁気ディスク
基板に磁性体被覆の為の下地処理としてジンケート処理
等の前処理およびN1−P等の硬質非磁性金属の無電解
メツキを行う場合にはメツキ性を向上させるためZnま
たは/およびCuの添加が必要である。
本発明合金材3、第4において、Znは磁気ディスク基
盤の下地処理としてジンケート処理を施す場合に必要な
元素であり、その含有量を0.001〜2.0%と限定
したのは、0.001%未満ではジンケート処理による
効果が不十分となり、2.0%を越えると圧延加工性お
よび耐食性を低下し、特にジンケート処理後のメツキ処
理工程において、材料の耐食性が劣ることが原因で、メ
ツキの密着性や表面の平滑性が低下するためである。
又Cuの添加はジンケート処理を施す場合においてA2
溶解量を減少し、さらにジンケート皮膜を薄く、均−且
つ緻密に付着させその後の無電解メツキの表面千4性を
高める効果を有する。Cu含有量を0.001〜2.0
%と限定したのは、o、oot%未満ではジンケート処
理における上記効果が得られないためであり、2.0%
を越えると圧延加工性および耐食性を低下し、特にメツ
キ処理工程において材料の耐食性が劣ることにより、ジ
ンケート処理が不均一となり、メツキの密着性や表面の
平滑性が劣るようになるためである。
Zn、Cuは、1種又は2種添加する。
本発明合金第1〜第4において、不純物元素である、F
e、Stをそれぞれ0.1%以下に限定したのは前述の
ようにAl−Fe系、Al−Fe−5+系等の粗大な金
属間化合物を生じ、基板の切削・研磨又はジンケート処
理時あるいはアルマイト時等に脱落してピット欠陥とな
り易いためである。
又他の不可避的不純物元素は、それぞれ0.1%以下で
あれば本発明合金の特性に影響しない。
尚本発明合金はその組織中に含まれる種々の金属間化合
物については、その最大径を15μ−以下とすることが
望ましい。
又本発明合金は常法の板の製造プロセスにより製造する
ことが出来る。
〔実施例〕
市販の純度99.5%以上のAffi地金を熔解し、こ
れに合金元素を添加して第1表に示す成分組成の合金等
温に調製し、脱ガス、沈静処理した後、フィルターで濾
過してから水冷鋳造し、厚さ350mm、中11000
a、長さ2000m11の鋳塊を得た。
この鋳塊の両面を片面につきIonsずつ開削してから
480±30°Cの温度で約6時間均熱処理した後、常
法に従って熱間圧延と冷間圧延により厚さ1.5閣の板
材とした。
この板材から円板を打抜き、350’Cで2時間焼鈍し
た後、荒研削により外径268m5、内径100mのド
ーナッツ状円板として切削性試験に供した。
切削には天然の単結晶ダイヤモンドバイト使用し、回転
数2000rpm 、送り速度0.05w/rev、切
込み深さlOu鋼の条件にて切削を行い、切削した材料
の表面粗さを測定し、R+wax≧o、ttImとなっ
たときを工具寿命と判定し工具寿命にいたるまでの切削
距離により材料の切削性を評価した。なお切削性試験は
一つの組成に対して3回実施してその平均値を評価し、
その結果を第2表に記した。
平滑性については工具使用開始後切削距離1100k 
(約25枚)ごとに材料を抜き出し、光学顕微鏡にて表
面を観察しピット、スクラッチ等の微小欠陥が存在した
場合をX印、存在しなかったものをO印で表示した。
以上の結果より明らかな様に本発明合金材は本発明の範
囲を外れる比較材、あるいは従来材のJr SA508
6合金材と比較して事実上ピット等の表面欠陥不良が発
生しにくく、且つ工具寿命が優れた特性を有することが
確認された。
尚第1表の本発明合金No、、 3、Nn4(Zn、C
uを添加したもの)について、切削研磨後、ジンケート
処理、N1−Pのm電解メツキ処理を施した結果メツキ
性は良好であった。
〔発明の効果] このように本発明合金は、磁気ディスク基板に用いて、
特に切削、研削によるビット等の表面欠陥が発生しにく
く鏡面加工性に優れ、又工具ノY命が長く作業性が向上
する等の効果を有する。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)Mg1〜8wt%、Ni0.005〜0.2wt
    %を必須元素として含有し、不純物元素として、Si0
    .1wt%以下、Fe0.1wt%以下に規制し、残部
    がその他の不可避的不純物とAlからなることを特徴と
    する鏡面加工性に優れた磁気ディスク基板用アルミニウ
    ム合金。
  2. (2)Mg1〜8wt%、Ni0.005〜0.2wt
    %を必須元素として含有し、さらにMn0.005〜1
    .0wt%、Cr0.005〜0.2wt%、Zr0.
    001〜0.1wt%、Ti0.001〜0.05wt
    %の内1種又は2種以上の元素を選択的に含有し、不純
    物元素として、Si0.1wt%以下、Fe0.1wt
    以下に規制し、残部がその他の不可避的不純物とAlか
    らなることを特徴とする鏡面加工性に優れた磁気ディス
    ク基板用アルミニウム合金。
  3. (3)Mg1〜8wt%、Ni0.005〜0.2wt
    %を必須元素として含有し、さらにCu0.001〜2
    .0wt%、Zn0.001〜2.0wt%の内1種又
    は2種の元素を選択的に含有し、不純物元素として、S
    i0.1wt%以下、Fe0.1wt%以下に規制し、
    残部がその他の不可避的不純物とAlからなることを特
    徴とする鏡面加工性に優れた磁気ディスク基板用アルミ
    ニウム合金。
  4. (4)Mg1〜8wt%、Ni0.005〜0.2wt
    %を必須元素として含有し、さらにMn0.005〜1
    .0wt%、Cr0.005〜0.2wt%、Zr0.
    001〜0.1wt%、Ti0.001〜0.05wt
    %の内1種又は2種以上の元素を選択的に含有し、さら
    にCu0.001〜2.0wt%、Zn0.001〜2
    .0wt%の内1種又は2種の元素を選択的に含有し、
    不純物元素として、Si0.1wt%以下、Fe0.1
    wt%以下に規制し、残部がその他の不可避的不純物と
    Alからなることを特徴とする鏡面加工性に優れた磁気
    ディスク基板用アルミニウム合金。
JP31348488A 1988-12-12 1988-12-12 鏡面加工性に優れた磁気ディスク基板用アルミニウム合金 Pending JPH02159339A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1229140A1 (en) * 2001-02-01 2002-08-07 Ryobi Ltd. Aluminium alloy for high pressure die-casting
JP2002275568A (ja) * 2001-03-15 2002-09-25 Kobe Steel Ltd 磁気ディスク用アルミニウム合金及び磁気ディスク用基板
CN111850359A (zh) * 2020-07-30 2020-10-30 佛山金兰铝厂有限公司 一种应用于电动车充电的铝合金及其制备方法

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