JPS6157053A - 光学的記録媒体 - Google Patents
光学的記録媒体Info
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- JPS6157053A JPS6157053A JP17758784A JP17758784A JPS6157053A JP S6157053 A JPS6157053 A JP S6157053A JP 17758784 A JP17758784 A JP 17758784A JP 17758784 A JP17758784 A JP 17758784A JP S6157053 A JPS6157053 A JP S6157053A
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- JP
- Japan
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- layer
- optical recording
- recording medium
- corrosion
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/241—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material
- G11B7/252—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers
- G11B7/254—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of protective topcoat layers
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/241—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material
- G11B7/252—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers
- G11B7/258—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of reflective layers
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、光ビームにより記録・再生を行うことが可能
な光学的記録媒体に関するものである。
な光学的記録媒体に関するものである。
従来より、光ディスクに用いられる光学的記録媒体とし
ては粍土類−遷移金属の合金薄膜、非晶質から結晶質へ
の相転移を利用したカルコゲン化合物等の還元性酸化物
薄膜、ヒートモード記録奴体、サーモプラスチック記録
媒体等が知られている０例えば、希土類−遷移金属の合
金薄膜で形成される光磁気記録媒体としては１ＭｎＢ１
． ｌ１ｎＣｕＢｉなどの多結晶薄膜、ＧｄＣｏ、 Ｇ
ｄＦｅ、 ＴｂＦｅ、 ＤｙＦｅ。
ては粍土類−遷移金属の合金薄膜、非晶質から結晶質へ
の相転移を利用したカルコゲン化合物等の還元性酸化物
薄膜、ヒートモード記録奴体、サーモプラスチック記録
媒体等が知られている０例えば、希土類−遷移金属の合
金薄膜で形成される光磁気記録媒体としては１ＭｎＢ１
． ｌ１ｎＣｕＢｉなどの多結晶薄膜、ＧｄＣｏ、 Ｇ
ｄＦｅ、 ＴｂＦｅ、 ＤｙＦｅ。
ＧｄＴｂＦｅ、 ＴｂＤｙＦｅ、 ＧｄＦｅＣｏ、 Ｔ
ｂＦｅＣｏ、 ＧｄＴｂＣｏなどの非晶質薄膜、 Ｇｄ
１ＧなどのＣＤ結晶が５膜なとが知られている。
ｂＦｅＣｏ、 ＧｄＴｂＣｏなどの非晶質薄膜、 Ｇｄ
１ＧなどのＣＤ結晶が５膜なとが知られている。
これらの薄膜のうち、大面積の薄膜を室温近傍の温度で
製作する際の成ｎり性、信号を小さな光熱エネルギーで
書き込むための書き込み効率、および古さ込まれた信号
をＳ／Ｎ比よく読み出すための読み出し効率等を勘案し
て、最近では前記非晶質薄膜が光磁気記録媒体用として
優れていると考えられている。特に、ＧｄＴｂＦｅはカ
ー回転角も大きく、 １５０°Ｃ前後のキューリ一点を
持つので、光磁気記録媒体用として最適である。
製作する際の成ｎり性、信号を小さな光熱エネルギーで
書き込むための書き込み効率、および古さ込まれた信号
をＳ／Ｎ比よく読み出すための読み出し効率等を勘案し
て、最近では前記非晶質薄膜が光磁気記録媒体用として
優れていると考えられている。特に、ＧｄＴｂＦｅはカ
ー回転角も大きく、 １５０°Ｃ前後のキューリ一点を
持つので、光磁気記録媒体用として最適である。
しかしながら、 ＧｄＴｂＦｅあるいはＧｄＴｂＦｅＣ
ｏをはじめとして、一般に非晶質磁性体は＃腐食性が劣
り、湿気を有する雰囲気中では腐食されて磁気特性の劣
化を生じるという欠点がある。特に、Ｓ／Ｎ比を向上さ
せる目的で磁気記録層の裏面に反射層を設けたり、ある
いは、干渉層と反射層を設けた構成においては、ファラ
デー効果をイ１効に利用する必要から、磁気記録層の厚
ごが５００Å以下に制限されるため、耐腐食性がいっそ
う悪化する。また、このような酸化による記録特性の劣
化は、光磁気記録媒体に限らず、光学的記録媒体に共通
の欠点であった。
ｏをはじめとして、一般に非晶質磁性体は＃腐食性が劣
り、湿気を有する雰囲気中では腐食されて磁気特性の劣
化を生じるという欠点がある。特に、Ｓ／Ｎ比を向上さ
せる目的で磁気記録層の裏面に反射層を設けたり、ある
いは、干渉層と反射層を設けた構成においては、ファラ
デー効果をイ１効に利用する必要から、磁気記録層の厚
ごが５００Å以下に制限されるため、耐腐食性がいっそ
う悪化する。また、このような酸化による記録特性の劣
化は、光磁気記録媒体に限らず、光学的記録媒体に共通
の欠点であった。
このような欠点を除くために、従来から光学的記録層の
しに各種の保護層を設けたり、あるいは不活性カスによ
って磁気記録層を封じ込めたエアーサントイクチ構造や
貼合わせ＋＋Ｓａのディスク状光学的記録媒体が提案さ
れているが、いずれも、記録層が酸化され易い材料から
成る場合１例えば厚さ ５００八以下の磁性膜から成る
場合は保護効果が不十分であった。
しに各種の保護層を設けたり、あるいは不活性カスによ
って磁気記録層を封じ込めたエアーサントイクチ構造や
貼合わせ＋＋Ｓａのディスク状光学的記録媒体が提案さ
れているが、いずれも、記録層が酸化され易い材料から
成る場合１例えば厚さ ５００八以下の磁性膜から成る
場合は保護効果が不十分であった。
本発明の目的は、従来の記録媒体に比べ更に耐腐食性に
優れた光学的記録媒体を提供することにある。
優れた光学的記録媒体を提供することにある。
〔発明の開示〕
本発明の目的は、以下の光学的記録媒体によって達成さ
れる。
れる。
すなわち、基板」二に少なくとも光学的記録層と１反射
層とを共備する光′７的記録媒体において、前記反射層
が金属の４１晶質１１りであることを特徴とする光学的
記録媒体である。
層とを共備する光′７的記録媒体において、前記反射層
が金属の４１晶質１１りであることを特徴とする光学的
記録媒体である。
反射層を形成する金属材料としては、耐食性のものか適
しており、特には、不働態皮膜を形成するものが好まし
い、このような金属は１例えば、Ｃｒ、 Ｔｉ、 Ｍｏ
、 Ｗ、 Ｔａなどを単独で、アルイハ、これらと、Ａ
Ｉ、 Ｃｕ、 Ｎｉ、 Ｃｏ、 Ｓｉ、 Ｂ、 Ｃ：な
どの合金などである。
しており、特には、不働態皮膜を形成するものが好まし
い、このような金属は１例えば、Ｃｒ、 Ｔｉ、 Ｍｏ
、 Ｗ、 Ｔａなどを単独で、アルイハ、これらと、Ａ
Ｉ、 Ｃｕ、 Ｎｉ、 Ｃｏ、 Ｓｉ、 Ｂ、 Ｃ：な
どの合金などである。
」二足金属を、スパッタリング法、真空ノに着などの方
法により、非晶質となるような条件を選んで薄膜とする
０例えば、基板を十分冷却して低温に保った状態でその
上に速い堆積速度で成ＩＱする、あるいは、非晶質合金
となりやすい合金組成を選んで反射層とするなどの条件
である。
法により、非晶質となるような条件を選んで薄膜とする
０例えば、基板を十分冷却して低温に保った状態でその
上に速い堆積速度で成ＩＱする、あるいは、非晶質合金
となりやすい合金組成を選んで反射層とするなどの条件
である。
反射層の膜厚は５００人〜５０００人が好ましい。
非晶質金属は、結晶金属の特性である結晶粒界、転移、
積層欠陥を含まないので、末完１！１１の非晶質金属の
反射層は、従来の金属（Ｃｕ、 ＡＩ、 Ｎｉτ）の反
射層に比へ耐食性に優れる。
積層欠陥を含まないので、末完１！１１の非晶質金属の
反射層は、従来の金属（Ｃｕ、 ＡＩ、 Ｎｉτ）の反
射層に比へ耐食性に優れる。
本発明においては、反射層以外の補助層も必要に応じ設
けることができる。また、エアーサントイクチ構造や貼
合わせ構造にすることもできる。
けることができる。また、エアーサントイクチ構造や貼
合わせ構造にすることもできる。
例えば光学的特性の変化を起こすための加熱を、赤外線
などによる輻射線加熱による場合には、各科の無機ある
いは有機材料例えばＧｄ−Ｔｂ・Ｆｅの合金 カーボン
・ブラック等の一機顔料、ニグロシン等の有機染料、ア
ジ系の有機顔料などよりなる発Ｑ層を、没けてもよい。
などによる輻射線加熱による場合には、各科の無機ある
いは有機材料例えばＧｄ−Ｔｂ・Ｆｅの合金 カーボン
・ブラック等の一機顔料、ニグロシン等の有機染料、ア
ジ系の有機顔料などよりなる発Ｑ層を、没けてもよい。
また、誘電体層や、インデックスマークやトラッキング
マークを；Ｉ：き込んだ層など種々の補助層を設けるこ
ともできる。
マークを；Ｉ：き込んだ層など種々の補助層を設けるこ
ともできる。
本発明の光学的記録媒体の構成例の略断面図を第１図に
示す、プラスチック又はガラス等からなる透光性基板ｌ
−ヒに、光学的記録層２を設け、その１−に反射層３を
設け、接着層４を介して保護用ノ、（板５と貼り合わせ
る。
示す、プラスチック又はガラス等からなる透光性基板ｌ
−ヒに、光学的記録層２を設け、その１−に反射層３を
設け、接着層４を介して保護用ノ、（板５と貼り合わせ
る。
反射層３を非晶質金属で形成すると、その強い耐腐食性
によって、たとえ接着剤が吸湿しても、記録層の腐食を
防止することが可能である。
によって、たとえ接着剤が吸湿しても、記録層の腐食を
防止することが可能である。
さらに１種々の補助層を設ける場合に複数のクーゲー７
トを持つスパッタ装置を用いて、各層を連続してｒ（空
を破ることなく形成することにより更に耐腐食性を向上
させることができる。
トを持つスパッタ装置を用いて、各層を連続してｒ（空
を破ることなく形成することにより更に耐腐食性を向上
させることができる。
本発明を具体的に説明するために、以下に実施例を示す
。
。
実施例１
第２図に示した構造の光学的記録媒体を次のようにして
製作した。
製作した。
直径２００＋ａｍ、厚さ１．１ｍｍの青板ガラスを基板
ｌとし、その上に高周波スパッタ装置を用いてスパッタ
リングによりＧｄＴｂＦｅを膜厚１５０人に成膜し、磁
性膜より成る記録Ｒ２を形成した。その上にひきつづき
同じ装置の中でＳｉのターゲットを用いＡｒとＮ２の混
合ガスを使って反応性スパッタリングにより厚さ３６０
０Ａの窒化硅素膜を誘電体層６として形成した。その後
この基板を真空ノヘ着装置にセットして反射層３として
Ｃｕ −Ｃｒ非晶質合金層を３０００人真空蒸若により
形成した。この際基板を２０℃に水冷しておき、Ｃｕと
Ｃｒをそれぞれ別のポートに入れてｆ（Ｃ積速度３０人
／ｓｅｃ以」二で２元蒸着をし、非晶ｒｊ ｎｌＪとし
た。膜中のＣ「は８原子％であった。このようにしてで
きた記録層つき基板を接着層４としてシリコン接着剤（
商品名： ＣＹ５１−０１９ＲＴＶ、製造元：東しシリ
コーン）を用いて、保護用基板の青板ガラスと接着した
。
ｌとし、その上に高周波スパッタ装置を用いてスパッタ
リングによりＧｄＴｂＦｅを膜厚１５０人に成膜し、磁
性膜より成る記録Ｒ２を形成した。その上にひきつづき
同じ装置の中でＳｉのターゲットを用いＡｒとＮ２の混
合ガスを使って反応性スパッタリングにより厚さ３６０
０Ａの窒化硅素膜を誘電体層６として形成した。その後
この基板を真空ノヘ着装置にセットして反射層３として
Ｃｕ −Ｃｒ非晶質合金層を３０００人真空蒸若により
形成した。この際基板を２０℃に水冷しておき、Ｃｕと
Ｃｒをそれぞれ別のポートに入れてｆ（Ｃ積速度３０人
／ｓｅｃ以」二で２元蒸着をし、非晶ｒｊ ｎｌＪとし
た。膜中のＣ「は８原子％であった。このようにしてで
きた記録層つき基板を接着層４としてシリコン接着剤（
商品名： ＣＹ５１−０１９ＲＴＶ、製造元：東しシリ
コーン）を用いて、保護用基板の青板ガラスと接着した
。
この記録媒体のＩｆＦＪ腐食性を調べるため、８５℃、
相対湿度８５％の恒温＋５湿槽に１０００時間放置し、
外観の肉眼的観察と保磁力の変化を調べた。
相対湿度８５％の恒温＋５湿槽に１０００時間放置し、
外観の肉眼的観察と保磁力の変化を調べた。
比較のために、反射層３をＣｕの結晶金属膜を基板温度
４０〜６０°Ｃ１堆積速度１０八／ｓｅｃで蒸着により
３ｏｏｏ Ａ厚に形成した他は、実施例１と同様に形成
した記録媒体についても同時に耐腐食性を調べた。
４０〜６０°Ｃ１堆積速度１０八／ｓｅｃで蒸着により
３ｏｏｏ Ａ厚に形成した他は、実施例１と同様に形成
した記録媒体についても同時に耐腐食性を調べた。
外観の肉眼的ａ察を行なったところ、比較例では、ピン
ホール状の腐食が発生していたが、実施例１は、腐食は
認められず肉眼的変化はなかった。保磁力は、比較例で
は初期値の７０％に低下したが、実施例１では低下は初
期値の１０％以内であった。
ホール状の腐食が発生していたが、実施例１は、腐食は
認められず肉眼的変化はなかった。保磁力は、比較例で
は初期値の７０％に低下したが、実施例１では低下は初
期値の１０％以内であった。
実施例２
実施例１の反射層３をＣｕ−Ｃｒ−１４ｏの非晶質合金
にて形成した他は実施例１と同様にして記録媒体を作成
した。非晶質合金膜中のＣｒは１０原子％、ＭＯは３原
子％であった。
にて形成した他は実施例１と同様にして記録媒体を作成
した。非晶質合金膜中のＣｒは１０原子％、ＭＯは３原
子％であった。
この記録媒体について、実施例１と同様に１ＩＩＦＪｆ
ｉｆ食性を調べたところ、肉眼的観察によっては腐食は
認められず、保磁力の低下も１０％以下であった。
ｉｆ食性を調べたところ、肉眼的観察によっては腐食は
認められず、保磁力の低下も１０％以下であった。
実施例３
実施例１と同様に基板の上に記録層をスパッタリングで
形成したのち、ひきつづき同じ装置の中でＡＩのターゲ
ットを用いＡｒとＮ２の混合ガスを使って反応性スパッ
タリングにより厚さ４０００ＡのＡＩＮ膜を誘電体層と
して形成した。ひきつづき同じ装置の中で、 ＡＩとＣ
ｒのターゲットを同時にスパッタしてＡｌ−Ｃｒの非晶
質合金膜を３００ＯＡ厚に反射層として形成した。形成
条件は、基板温度２０℃、堆積速度２０人／ｓｅｃであ
る。 Ｃｒの含有Ｉヨは１５原子％であった０次に実施
例１と同じシリコン接着剤を用いて、保護用基板の青板
ガラスと接着した。
形成したのち、ひきつづき同じ装置の中でＡＩのターゲ
ットを用いＡｒとＮ２の混合ガスを使って反応性スパッ
タリングにより厚さ４０００ＡのＡＩＮ膜を誘電体層と
して形成した。ひきつづき同じ装置の中で、 ＡＩとＣ
ｒのターゲットを同時にスパッタしてＡｌ−Ｃｒの非晶
質合金膜を３００ＯＡ厚に反射層として形成した。形成
条件は、基板温度２０℃、堆積速度２０人／ｓｅｃであ
る。 Ｃｒの含有Ｉヨは１５原子％であった０次に実施
例１と同じシリコン接着剤を用いて、保護用基板の青板
ガラスと接着した。
この記録媒体について、実施例１と同様に耐腐食性を調
べたところ、肉眼的観察によっては腐食は認められず、
保磁力の低下は３％以下と非常にＩＩＩＰｌ腐食性に優
れていた。
べたところ、肉眼的観察によっては腐食は認められず、
保磁力の低下は３％以下と非常にＩＩＩＰｌ腐食性に優
れていた。
実施例４
第３図のようにトラ−、キング用の案内溝を形成した。
ＰＭＭＡ！！！ディスク基板７を用いて光磁気記録デ
ィスクを作成した。まずスパッタ装置で窒化硅素膜８を
１００ＯＡ厚に形成し、その上にひきつづきＧｄＴｂＦ
ｅＣｏの非晶質磁性合金膜を２００Ａ厚に記録層２とし
て形成した。ひきつづき窒化硅素膜を誘電体層６として
３６００ Ａ形成した０次に真空蒸着装置を用い１反射
層３としてＣｕ−Ｃｒ−５ｉの非晶質合金層を形成した
。この際基板を２０℃に冷却しておき、堆積速度は２０
Ａ ／ｓｅｅにて形成した。膜厚は３０００人、 Ｃ
ｒ含有峻は８原子％、Ｓｉ含右贋は５原子％であった。
ィスクを作成した。まずスパッタ装置で窒化硅素膜８を
１００ＯＡ厚に形成し、その上にひきつづきＧｄＴｂＦ
ｅＣｏの非晶質磁性合金膜を２００Ａ厚に記録層２とし
て形成した。ひきつづき窒化硅素膜を誘電体層６として
３６００ Ａ形成した０次に真空蒸着装置を用い１反射
層３としてＣｕ−Ｃｒ−５ｉの非晶質合金層を形成した
。この際基板を２０℃に冷却しておき、堆積速度は２０
Ａ ／ｓｅｅにて形成した。膜厚は３０００人、 Ｃ
ｒ含有峻は８原子％、Ｓｉ含右贋は５原子％であった。
このようにして作成したディスク基板を２枚記録層を内
側にして実施例１と同じシリコン接着剤で貼合わせた。
側にして実施例１と同じシリコン接着剤で貼合わせた。
この光磁気ディスクを記録再生装置で評価した０回転数
１８０Ｏｒｐｍ 、記録レーザパワー７ｍＷ、再生レー
ザパワー２＋ａＷ、波長８３０ｎｍで、で、 Ｃ／Ｎ比
は４ＭＨｚで４５ｄＢであった。このディスクを、４５
℃、相対湿度８５％恒温恒湿槽に１０００時間放ｉ！を
後再び評価したところＣ／Ｎ比は４３ｄＢであった。外
観を肉眼観察したところ、腐食は認められなかった。
１８０Ｏｒｐｍ 、記録レーザパワー７ｍＷ、再生レー
ザパワー２＋ａＷ、波長８３０ｎｍで、で、 Ｃ／Ｎ比
は４ＭＨｚで４５ｄＢであった。このディスクを、４５
℃、相対湿度８５％恒温恒湿槽に１０００時間放ｉ！を
後再び評価したところＣ／Ｎ比は４３ｄＢであった。外
観を肉眼観察したところ、腐食は認められなかった。
比較のために、反射層３をＣｕの結晶金属膜を３００Ｏ
Ａ厚に形成した他は、実施例４と同様に形成した光磁気
ディスクについても同様に評価した。
Ａ厚に形成した他は、実施例４と同様に形成した光磁気
ディスクについても同様に評価した。
初期のＣ／Ｎ比は４６ｄＢと実施例１と同等であったが
、４５℃、相対湿度９５％の恒温恒湿槽に１０００時間
放置後のＣ／Ｎ比は３４ｄＢと低下し、外観を肉眼観察
したところ、腐食部分の変色が認められた。
、４５℃、相対湿度９５％の恒温恒湿槽に１０００時間
放置後のＣ／Ｎ比は３４ｄＢと低下し、外観を肉眼観察
したところ、腐食部分の変色が認められた。
実施例では、光学的記録層と反射層の間に誘電体層など
の補助層を設けたが、光学的記録層の上に１反射層を直
接形成しても良く、この場合には、更に耐食性を向上さ
せることができる。
の補助層を設けたが、光学的記録層の上に１反射層を直
接形成しても良く、この場合には、更に耐食性を向上さ
せることができる。
第１図〜第３図は、本発明の光学的記録媒体の略断面図
である。 １・・・フ、（板 ２・・・光学的記録層３
・・・反射層 ４・・・接７１層５・・・保護
用）１（板 ６・・・誘電体層７・・・案内構を右
するディスクツ、（板８・・・窒化硅素膜 第１図 第２図 第３図
である。 １・・・フ、（板 ２・・・光学的記録層３
・・・反射層 ４・・・接７１層５・・・保護
用）１（板 ６・・・誘電体層７・・・案内構を右
するディスクツ、（板８・・・窒化硅素膜 第１図 第２図 第３図
Claims (1)
- 基板上に少なくとも光学的記録層と、反射層とを具備す
る光学的記録媒体において、前記反射層が、金属の非晶
質膜であることを特徴とする光学的記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17758784A JPS6157053A (ja) | 1984-08-28 | 1984-08-28 | 光学的記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17758784A JPS6157053A (ja) | 1984-08-28 | 1984-08-28 | 光学的記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6157053A true JPS6157053A (ja) | 1986-03-22 |
Family
ID=16033589
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17758784A Pending JPS6157053A (ja) | 1984-08-28 | 1984-08-28 | 光学的記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6157053A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS644938A (en) * | 1987-06-26 | 1989-01-10 | Mitsubishi Chem Ind | Magneto-optical recording medium |
| JPH02302947A (ja) * | 1989-05-16 | 1990-12-14 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光磁気記録媒体 |
| US5093174A (en) * | 1989-07-04 | 1992-03-03 | Teijin Limited | Optical recording medium |
-
1984
- 1984-08-28 JP JP17758784A patent/JPS6157053A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS644938A (en) * | 1987-06-26 | 1989-01-10 | Mitsubishi Chem Ind | Magneto-optical recording medium |
| JPH0524572B2 (ja) * | 1987-06-26 | 1993-04-08 | Mitsubishi Chem Ind | |
| JPH02302947A (ja) * | 1989-05-16 | 1990-12-14 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光磁気記録媒体 |
| US5093174A (en) * | 1989-07-04 | 1992-03-03 | Teijin Limited | Optical recording medium |
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