JPS60197966A - 光学的記録媒体 - Google Patents

光学的記録媒体

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JPS60197966A
JPS60197966A JP59053480A JP5348084A JPS60197966A JP S60197966 A JPS60197966 A JP S60197966A JP 59053480 A JP59053480 A JP 59053480A JP 5348084 A JP5348084 A JP 5348084A JP S60197966 A JPS60197966 A JP S60197966A
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JP
Japan
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layer
optical recording
recording medium
light
substrate
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JP59053480A
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Hidekazu Fujii
英一 藤井
Ichiro Saito
一郎 斎藤
Yoichi Osato
陽一 大里
Kozo Arao
荒尾　浩三
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Original Assignee
Canon Inc
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は光ビームにより記録、再生を行うことが可能な
光学的記録媒体に関するものである。
従来より光ディスクに用いられる光学的記録媒体として
は希土類−遷移金属の合金薄膜、非晶質から結晶質への
相転移を利用したカルコゲン化合物等の還元性酸化物薄
膜、ヒートモード記録媒体、サーモプラスチック記録媒
体等が知られている。
例えば希土類−遷移金属の合金薄膜で形成される光磁気
記録媒体としては、ＭｎＢ１　＋　ＭｎＣｕＢ１などの
多結晶薄膜、ＧｄＣｏ　ｒ　ＧｄＦｅ　、　ＴｂＦｅ　
、　ＤｙＦｅ　、　ＧｄＴｂＦｅ。
ＴｂＤｙＦｅ　、　ＧｄＦｅＣｏ　、　ＴｂＦｅＣｏ　
、　ＧｄＴｂＣｏなどの非晶質薄膜、ＧｄＩＧなどの単
結晶薄膜などが知られている。
こ′れらの薄膜のうち、大面積の薄膜を室温近傍の温度
で製作する際の成膜性、信号な小さな光熱エネルギーで
書き込むための書き込み効率、および書き込まれた記号
をＳ／Ｎ比よく読み出すための読み出し効率等を勘案し
て、最近では前記非晶質薄膜が光磁気記録媒体用として
優れていると考えられている。特にＧｄＴｂＦｅは磁気
光学効果も大きく、１５０℃前後のキューリ一点を持つ
ので、光磁気記録媒体用として最適である。
しかしながら、ＧｄＴｂＦｅをはじめとして、一般に非
晶質磁性体は耐腐食性が劣り、湿気を有する雰囲気中で
は腐食されて磁気特性の劣化を生じるという欠点がある
。特に、Ｓ／Ｎ比を向上させる目的で、磁気記録層の裏
面に反射層な設けたり、あるいは、干渉層と反射層を設
けた構成においては、ファラデー効果を有効に利用する
必要から、磁気記録層の厚さが５００Ｘ以下に制限され
るため、耐腐食性がいっそう悪化する。
また、このような光学的記録層の酸化による記録或いは
再生特性の劣化は、上記光磁気記録媒体に限らず、光学
的記録媒体に共通の問題であった。
そこで、従来、上記欠点を除くため、光学的記録層の光
ビームの通過する側の面には、５ｉ０２の如き透明な誘
電体から成る保護層を形成する事が提案されている。し
かし、このような保護層は効果が十分とは言えず、また
５ｉ０２で保護層を形成した場合には、５ｉ０２から分
離した酸素によって光学的記録層の腐食が進行してしま
う場合もあった。
本発明の目的は、耐腐食性に優れた光学的記録媒体を提
供することにある。
本発明の上記目的は、基板上に光学的記録層と必要に応
じて補助層とを設け、前記光学的記録層に光ビームを照
射する事によって情報を記録又は再生する光学的記録媒
体において、前記光学的記録層の少なくとも光ビームの
通過する側の面に相接して、前記光ビームを透過する金
属薄膜から成る腐食防止層を設ける事によって達成され
る。
本発明においては、光学的記録層が、非常に酸化され易
い、厚さが５００Ｘ以下の磁気記録層の場合でも十分な
耐腐食性が得られるものである。
以下、本発明の已＾例を図面を用いて説明する。
第１図は、本発明を光磁気記録媒体に適用した場合の構
成例を示す略断面図である。第１図において、プラスチ
ック又はガラス等からなる透光性基板１上に磁気記録層
２を設け、その上にＣｏ　。
Ｃｒ　＋　Ｔ＋　＋　Ｎ＋　＋　Ａｌｌ　＋　Ａｕ等の
耐湿性および耐酸化性にすぐれた金属、あるいはこれら
の金属を含む薄膜からなる腐食防止層３を設け、その上
にＳ／Ｎ比を増大させるための干渉層４を設け、さらに
反射層５を設け、次いで保護層６を設ける。保護層６は
有機高分子膜を塗工により設けてもよいし、酸化物、硫
化物、フッ化物の様な無機材料あるいは金属材料を蒸着
により設けても良い。又、７は接着層で、８は保護用基
板である。光ビームは一矢印Ａの方向から入射し、また
読取りの−には磁気記録層を透過し、反射層５で反射さ
れ矢印Ｂの方向に出射される光ビームを検出して情報を
再生する。
前記磁気記録層の抗磁力は１００〜４００００ｅである
ことが特に好ましい。
ここで、磁気記録層は通常Ｇｄ　ｒ　’ｒｂ　、Ｄｙ等
の希土類元素群とＦｅ　＋　Ｃｏ　ＨＮ１等の遷移金属
元素群とから成り、それぞれ高周波スパッタ装置を用い
、スパッタにより５０〜５００　Ｘの厚さに形成する。
腐食防止層６は例えば真空蒸着やスパッタリング等の方
法によって形成される。また、その厚さは、記録又は再
生用の光ビームを透過し、実質上記録媒体としての特性
を変化させない程度であって、かつ、光学的記録層を、
空気中或いは干渉層４等他の補助層中の酸素、水分等か
ら十分保護できる厚さに設定される。この厚さは、前述
の金属の種類や使用する光ビームの強度、波長によって
、５〜２００Ｘの広い範囲で考慮され得るが、通常は１
０〜１００Ｘの範囲で最適値が得られる。
本発明に基づく光磁気記録媒体の他の構成例を第２図に
示す。本実施例は、反射防止層９を設けることにより、
Ｓ／Ｎ比の向上を図ったものである。
第２図において、磁気記録層２の両側に、Ｃｏ。
Ｃｒ　ｔ　’Ｉ’＋　ｒ　Ｎ＋　＋　ＡＪＩ　ｒ　Ａｕ
等の耐湿性および耐酸化性にすぐれた金属あるいはそれ
らの金属を含む腐食防止層３′及び６″が設けられてい
る。腐食防止層６′及び６“は、どちらか一方を省いて
も磁性記録層に対して充分な保護効果が得られるのなら
ば、どちらか一方を省いてもよい。又、反射防止層９は
多層構造にすることもできる。その他の構成は第１図と
同様である。ここでも光ビームは矢印Ａの方向から入射
し、また読取りの際には磁気記録層を透過し、反射層５
で反射され矢印Ｂの方向に出射される光ビームを検出し
て情報をせ）生する。
実施例−１ 第１図に示した構造の光熱磁気記録媒体を次のようにし
て製作した。
直径２００１！ＩＩ、厚さ１．３　ｕの平板ガラスを基
板１とし、その上に高周波スパッタ装置を用いてスパッ
タリングによりＧｄＴｂＦｅを膜厚１６０Ｘで成膜し、
磁気記録層２を形成した。次に腐食防止層６として真空
蒸着装置を用い、電子ビーム加熱によりＣｒを膜厚４０
Ｘで蒸着した。次に干渉層４としてＳｉＯを膜厚２５０
Ｘで蒸着し、次いで反射層５としてＭを膜厚５００Ｘで
蒸着した。更にその上にＳｉＯを３０００　Ｋの膜厚で
蒸着し、保護層６とした。これを接着層７にて保護用ガ
ラス基板８と貼り合わせて光熱磁気記録媒体を製作した
。この光熱磁気記録媒体の磁気特性の評価のために抗磁
力の測定ケ行なった。また、光熱磁気記録媒体としての
総合的な動特性の評価のために上記の光熱磁気記録媒体
を１５０Ｏｒｐｍで回転させながら、波長８２０　ｎｍ
の半導体レーザーを用いて書き込み出カフ　ｍＷ、５０
％ｄｕｔｙ比、記録周波数４　ＭＨｚで記録を行ない、
これを半導体レーザーを用いて再生出力３　ｍＷで再生
して、Ｃ／／Ｎ比を測定した。その結果、Ｈｃは２００
００ｅで、ガとして４４　ｄＢが得られた。更にこの光
熱磁気記録媒体を４５℃、相対湿度９０％の恒温恒湿槽
に入れて耐１高食性試験をそれぞれ１００時間および５
００時間行ない、抗磁力と（／ｒの変化を調べた。初期
抗磁力、）（ｃ／ＨｃｏおよびＣ／Ｎ（ｄＢ）の初期値
、および４５℃、相対湿度９０％の条件下それぞれ１０
０時間および５００時間放置後の値について得られた結
果を第１表に示す。
比較例１ ｍ食切止層６を設けないで、干渉層４の膜厚を４００　
Ｘとした他は実施例１と同様にして製作した光熱磁気記
録媒体について実施例１と同様に試験した。得られた結
果を第１表に示す。
試験の結果、作製直後のＣ／Ｎは、腐食防止層なしの比
較試料が４５　ｄＢであったのに対し、腐食防止層とし
てＣｒを４０Ｘ蒸着した試料は４４　ｄＢで、はとんど
差がなく、腐食防止層６を設けても光熱磁気記録媒体と
しての性能の低下は無視できる程度のものであることが
確認できた。また、４５℃、相対湿度９０％の環境に５
００時間放置した後のＣ／Ｎは、比較試料が３２　ｄＢ
に悪化したのに対し、腐食防止層６としてＣｒを４０　
Ｘ蒸着した試料は４２ｄＢであった。従って、腐食防止
層６を設けることにより、耐腐食性が向上することが確
かめられた。
実施例２−５ 腐食防止層６の構成材料をそれぞれＡｌ（実施例２）、
Ｃｏ　（実施例３）、Ｎｉ（実施例４）およびＴｉ（実
施例５）に斐えた他は実施例１と同様にして光熱磁気記
録媒体を作製し、実施例１と同様（＝試験した。得られ
た結果を第１表に示す。
本発明の腐食防止層は、反射層を設けずに透過光を検出
するタイプの光学的記録媒体にも利用できる。また、光
学的記録層からの光ビームの反射光を利用して情報を再
生する光学的記録媒体においても、本発明の腐食防止層
を設けることによって、より一層耐腐食性が向上する。
以下に、これらについて光磁気記録媒体を例にあげて説
明する。
実施例−６ 第６図に示した構造の光熱磁気記録媒体を製作した。基
板１は直径２００Ｉｕ＋、厚さ１．３ｕ（７）ガラス基
板、反射防止層９′および９“は厚さ１２００ＸのＳｉ
Ｏ１腐食防止層３′および６′は厚さ４０ＸのＣｒ　、
磁気記録層２は厚さ３００ＸのＧｄＴｂＦｅとした。比
較例として、腐食防止層６′および６＃を設けずに、他
は上記実施例と同様にした試料を製作し、両者を４５℃
、相対湿度９０％の恒温恒湿槽に入れて、耐腐食性試験
を５００時間行い、抗磁力の変化を調べた。その結果、
腐食防止層を設けなかったものでは、Ｈｅ７４ｃ０が０
．６０に減少したのに対し、腐食防止層６′および６Ｎ
を設けたものは、Ｈｅ７４ｃ０が０．９０であった。光
ビームは矢印Ａの方向から入射し、また読取りの際には
磁気記録層な透過し、矢印Ｂの方向に出射される光ビー
ムを検出して情報を再生する。
実施例−７ 第４図に示した構造の光熱磁気記録媒体を製作した。基
板１は直径２００ｍ１１１．厚さ１．３簡のガラス基板
、反射防止層９は厚さ１２００　ＸのＳｉＯ１腐食防止
層６は厚さ４０　ＸのＣｒ、磁気記録層２は厚さ１００
０　ＸのＧｄＴｂＦｅ　、保護層６は厚さ３５００　Ｘ
のＳｉＯとした。比較例として腐食防止層３を設けずに
、他は上記実施例−７と同様にして製作した光熱磁気記
録媒体を製作し、両者を４５℃、相対湿度９０％の恒温
恒湿槽に入れて、耐腐食性試験を５００時間行なった。
初期のＣ／Ｎは、腐食防止層３を設けた試料が３７　ｄ
Ｂ　、腐食防止層を設けない比較試料が３８　ｄＢであ
った。５００時間の耐腐食、性試験を行なった後の特性
は、腐食防止層６を設けた試料が、Ｃ／Ｎ　３７　ｄＢ
、　ＨＣ／ｕｃ。０．９５であったのに対し、腐食防止
層を設けない比較試料では、Ｃ／Ｎ　３５　ｄＢ、ＨＣ
／Ｈｃ１１０．８０であった。光ビームは矢印Ａの方向
から入射し、また読取りの際には磁気記録層で反射され
矢印Ｂの方向に出射される光ビームを検出して情報を再
生する。
本発明はエアーサンドインチ構造や貼り合わせ構造の光
熱磁気記録媒体に適用できる。また、インデックスマー
クやトラッキングマークを誉き込んだ層など種々の補助
層を設けたり、表面が多孔質層に加工された書き込み側
基板を用いることができる。記録層付きの基板と保護用
基板を貼り合わせる接着層７をダイアナ〔菱江化学■〕
、コールトップ〔日本加工製紙■〕、Ｖ、Ｐ、Ｍ　（日
本化学産業■〕、フェロガード〔米国ロンコラボラトリ
ーズ社〕、ゼラスト〔大洋液化ガス〕、キレスガート〔
日本化学産業■〕等の気化性防錆剤を含有する防食層、
メタルガード〔モービル石油■〕、ラストン〔東美化学
■〕、Ｃ，Ｒ，Ｃ、ダイヤレート〔菱江化学■〕等の油
溶性防錆剤を含有する防食層、Ｍ＋　Ｓｎ　ｌ　Ｚｎ　
ｌ　Ｔｌ　、Ｃｒ等の金属微粉末を含有する金属微粉末
含有層、ＭｇＯＩ　ＢａＯＩ　Ｃａ０１　ＡＡ’ｔ０３
＋ＣａＣ４１ＫＯＨ＋　ＮａＯＨＩ　ＣａＳＯ４・＊　
ＨｘＯ＋　Ｓ　１０ｔ’　ＸＨｘＯ＋ｐ、ｏ、　、活性
アルミナＩ　Ｍｇ（ＣＡ！０４）２１　ＺｎＢｒ、等の
乾燥剤を含有する乾燥剤含有層、２，４．６−）　９メ
チルビリジン、ジメチルグリシンナトリウム、トリス（
ヒドロキシメチル）アミノメタン、２−アミノ−２−メ
チル−１，３−プロパンジオール等の塩基性有機物質を
含有する塩基性有機物質含有層に代えることもできる。
また、本発明に基づく腐食防止層と、Ｓ　Ｌ０２等から
成る公知の保護層を併用する事も出来る。この場合には
、金属薄膜から成る腐食防止層は、光学的記録層と保護
層との間に設けられ、保護層と共に外気の影響から記録
層を守り、また保護層から記録層への酸素の侵入を防ぐ
。従って一層耐腐食性の向上した光学的記録媒体を構成
できる。
尚、実施例では光磁気記録媒体を説明したが、本発明は
これに限らず、一般の光学的記録媒体にはほとんど用い
ることが出来、光学的記録層がＴｅ等を含んだ酸化され
易いものである場合に特に有効である。
以上の結果に見られる様に、本発明による腐食防止層を
設けることにより、光学的記録媒体としての特性をほと
んど変化させることなく、耐腐食性を大幅に改善するこ
とができた。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明の光学的記録媒体の１つの実施態様にお
ける構造な説明するための模式図であり、第２図、第６
図、第４図は夫々本発明の光学的記録媒体の他の実施態
様における構造を説明するための模式図である。 １　・・・・・・・・・・・・透光性基板２　・・・・
・・・・・・・・磁気記録層５　、３’、　５’・・・
腐食防止層 ４・・・・・・・・・・・・干渉層 ５・・・・・・・・・・・・反射層 ６　・・・・・・・・・・・・保護層 ７・・・・・・・・・・・・接着層 ８・・・・・・・・・・・・保護用基板９　、９’、　
９“・・・反射防止層 第１図 第２図 第３ 第４図 −１

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 基板上に光学的記録層と必要に応じて補助層とを設け、
    前記光学的記録層に光ビームを照射する事によって情報
    を記録又は再生する光学的記録媒体において、前記光学
    的記録層の少なくとも光ビームの通過する側の面に相接
    して、前記光ビームを透過する金属薄膜から成る腐食防
    止層を設けた事を特徴とする光学的記録媒体。
JP59053480A 1984-03-09 1984-03-22 光学的記録媒体 Pending JPS60197966A (ja)

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JP59053480A JPS60197966A (ja) 1984-03-22 1984-03-22 光学的記録媒体
GB08505766A GB2158281B (en) 1984-03-09 1985-03-06 Optical recording medium
FR858503420A FR2561023B1 (fr) 1984-03-09 1985-03-08 Support d'enregistrement optique
DE3508476A DE3508476C2 (de) 1984-03-09 1985-03-09 Optisches Aufzeichnungsmaterial

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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62172547A (ja) * 1986-01-23 1987-07-29 Nec Corp 光磁気記録媒体
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JPH01165926U (ja) * 1988-05-16 1989-11-21
US5512364A (en) * 1986-05-14 1996-04-30 Teijin Limited Magneto-optical recording medium

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