JPS6147543A - パタ−ン検査方式 - Google Patents
パタ−ン検査方式Info
- Publication number
- JPS6147543A JPS6147543A JP16932084A JP16932084A JPS6147543A JP S6147543 A JPS6147543 A JP S6147543A JP 16932084 A JP16932084 A JP 16932084A JP 16932084 A JP16932084 A JP 16932084A JP S6147543 A JPS6147543 A JP S6147543A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- flaw
- inspection
- minute
- pinhole
- detection
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/95—Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
- G01N21/956—Inspecting patterns on the surface of objects
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は、プリント基板フォトマスク等のパターン検査
方式に関する。
方式に関する。
一般にプリント基板は、フォトレジストを配した銅張基
板にプリント基板用パターンを有するフォトマスクを密
着して露光した後、エツチング処理等を経て完成する。
板にプリント基板用パターンを有するフォトマスクを密
着して露光した後、エツチング処理等を経て完成する。
従って一枚のフォトマスクを基に多数のプリント基板が
作成される場合があり、完成したフォトマスクが所定の
パターン形状を有しているか否かを検査する作業は重要
である。
作成される場合があり、完成したフォトマスクが所定の
パターン形状を有しているか否かを検査する作業は重要
である。
従来、このようなフォトマスクの検査は目視や顕微鏡等
を使用して人手による方法で行っていた。
を使用して人手による方法で行っていた。
また第３図に示すようにマスク２の透過光をパターン読
み取り装置４で読み出し、画像信号を二値化回路５で二
値化し、欠陥判定装置乙に送り、自動検査する方法も試
みられている。
み取り装置４で読み出し、画像信号を二値化回路５で二
値化し、欠陥判定装置乙に送り、自動検査する方法も試
みられている。
然しながら第４図に示すように、マスクの欠陥には、透
明部分に存在する非透明の黒点７や、非透明部分に存在
する透明のピンホール８等が存在し、これら欠陥が微小
な場合、画像信号における欠陥部分のコントラストが小
さくなり、単純な固定しきい値１０での二値化回路では
同時に検出できない場合があり、二値化レベルを黒点検
出専用とピンホール検出専用に切換え２回検査せねばな
らなかった。
明部分に存在する非透明の黒点７や、非透明部分に存在
する透明のピンホール８等が存在し、これら欠陥が微小
な場合、画像信号における欠陥部分のコントラストが小
さくなり、単純な固定しきい値１０での二値化回路では
同時に検出できない場合があり、二値化レベルを黒点検
出専用とピンホール検出専用に切換え２回検査せねばな
らなかった。
本発明の目的は上述した欠点を解消する為になされたも
のであり、微小な黒点や、ピンホールの検出を１度の検
査で行うことにより、検査時間の短いパターン検査方式
を提供することにある。
のであり、微小な黒点や、ピンホールの検出を１度の検
査で行うことにより、検査時間の短いパターン検査方式
を提供することにある。
本発明は、被検査試料のパターン百を光学的に読み出し
映像信号を発生する読みとり装置と、その映像信号を二
値信号とする二値化装置と、この二値化信号から欠陥判
定を行う欠陥判定装置とから成るパターン検査装置にお
いて、読みとり装置１つに対しこ値化装置と欠陥判定装
置とをそれぞれ２つずつ設けたパターン検査方式％式％ 〔発明の実施例〕 以下本発明を実施例によって詳細に説明する。
映像信号を発生する読みとり装置と、その映像信号を二
値信号とする二値化装置と、この二値化信号から欠陥判
定を行う欠陥判定装置とから成るパターン検査装置にお
いて、読みとり装置１つに対しこ値化装置と欠陥判定装
置とをそれぞれ２つずつ設けたパターン検査方式％式％ 〔発明の実施例〕 以下本発明を実施例によって詳細に説明する。
第１図は本発明の実施例のパターン検査装置の構成を示
す。被検マスク２を透過した光源１０元はレンズ３を通
し読２．仰り装置４上に結像し、画像信号を発生する。
す。被検マスク２を透過した光源１０元はレンズ３を通
し読２．仰り装置４上に結像し、画像信号を発生する。
この画＠信号を別々のしきい値をもつ二値化回路５ａ、
５−６で二値化し、別々の欠陥判定回路６α、６ｋによ
り、欠陥の有無を判定する。これらの判定の論理和をと
り欠陥判定出力とし、パターン欠陥の有無を判定する。
５−６で二値化し、別々の欠陥判定回路６α、６ｋによ
り、欠陥の有無を判定する。これらの判定の論理和をと
り欠陥判定出力とし、パターン欠陥の有無を判定する。
第２図は微小な黒点７と微小なピンホール８の欠陥をも
つ被検マスクを走ｆ線９上で走査したときの、画像信号
波形を示す。二値化回路を２つニスることにより１つの
画像信号に対して黒点検出存用とピンホール検出専用の
２つのしきい値で同時に二値化し同時に欠陥判定する。
つ被検マスクを走ｆ線９上で走査したときの、画像信号
波形を示す。二値化回路を２つニスることにより１つの
画像信号に対して黒点検出存用とピンホール検出専用の
２つのしきい値で同時に二値化し同時に欠陥判定する。
このときどちらか一方、あるいは両方のしきい値で二値
化された信号に欠陥があると判定したとき、最終的な欠
陥判定の出力を行う。
化された信号に欠陥があると判定したとき、最終的な欠
陥判定の出力を行う。
本発明によれば、微小な黒点や微小なピンホールの検出
を１度の検査で同時に行うことができ、検査時間が従来
の２分の１で済む。
を１度の検査で同時に行うことができ、検査時間が従来
の２分の１で済む。
第１図は本発明の一実施例によるマスク検査装置例を示
すブロック図、第２図はマスクパターンに存在する微小
欠陥例と本発明の一実施例によろしきい値を適用した画
４！ＩＩ信号例を示す説明図、第３図は従来のプリント
板用マスク検査装置例を示すブロック（２）、第４図は
マスクパターンに存在する微小欠陥例とその画像信号例
を示す説明図である。 １・・・光源、２・・・被検査パターン、３・・・結像
１／ンズ、４・・・画像読みとりｉｔ、７・・・微小黒
点、８・・・微小ピンホール、９・・・画像読みとりの
走査位置。 第 １ り ５久 ム 躬２力
すブロック図、第２図はマスクパターンに存在する微小
欠陥例と本発明の一実施例によろしきい値を適用した画
４！ＩＩ信号例を示す説明図、第３図は従来のプリント
板用マスク検査装置例を示すブロック（２）、第４図は
マスクパターンに存在する微小欠陥例とその画像信号例
を示す説明図である。 １・・・光源、２・・・被検査パターン、３・・・結像
１／ンズ、４・・・画像読みとりｉｔ、７・・・微小黒
点、８・・・微小ピンホール、９・・・画像読みとりの
走査位置。 第 １ り ５久 ム 躬２力
Claims (1)
- １、被検査試料のパターン面を光学的に読み出し映像信
号を発生する読みとり装置と、その映像信号を二値信号
とする二値化装置と、この二値化信号から欠陥判定を行
う欠陥判定装置とから成るパターン検査装置において、
読みとり装置１つに対し二値化装置と欠陥判定装置とを
それぞれ２つずつ設けたことを特徴とするパターン検査
方式。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16932084A JPS6147543A (ja) | 1984-08-15 | 1984-08-15 | パタ−ン検査方式 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16932084A JPS6147543A (ja) | 1984-08-15 | 1984-08-15 | パタ−ン検査方式 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6147543A true JPS6147543A (ja) | 1986-03-08 |
Family
ID=15884354
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16932084A Pending JPS6147543A (ja) | 1984-08-15 | 1984-08-15 | パタ−ン検査方式 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6147543A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01150931U (ja) * | 1988-04-06 | 1989-10-18 |
-
1984
- 1984-08-15 JP JP16932084A patent/JPS6147543A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01150931U (ja) * | 1988-04-06 | 1989-10-18 | ||
| JPH0335309Y2 (ja) * | 1988-04-06 | 1991-07-26 |
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