JPS6146061B2 - - Google Patents
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- JPS6146061B2 JPS6146061B2 JP56194698A JP19469881A JPS6146061B2 JP S6146061 B2 JPS6146061 B2 JP S6146061B2 JP 56194698 A JP56194698 A JP 56194698A JP 19469881 A JP19469881 A JP 19469881A JP S6146061 B2 JPS6146061 B2 JP S6146061B2
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Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、大電力半導体モジユールに使用す
る半導体チツプを外装容器内に装着し、外部電極
を引出し樹脂封止した半導体装置に関する。
る半導体チツプを外装容器内に装着し、外部電極
を引出し樹脂封止した半導体装置に関する。
大電力用半導体モジユールは半導体チツプの表
面保護や樹脂封止技術の進歩により、小形簡素
化、絶縁の向上、機能の複合集積化及び低価格が
可能となり、このようにされた製品が出現するよ
うになつてからまだ2年程度しかたつていない
が、最近広範囲の分野で急速に利用されるように
なつた。
面保護や樹脂封止技術の進歩により、小形簡素
化、絶縁の向上、機能の複合集積化及び低価格が
可能となり、このようにされた製品が出現するよ
うになつてからまだ2年程度しかたつていない
が、最近広範囲の分野で急速に利用されるように
なつた。
従来のこの種の半導体装置は第1図に大電力パ
ワーモジユールを縦断面図で示すようになつてい
た。1は放熱金属板、2は四角筒をなしこの放熱
金属板上に接着剤又は接着テープなど接着材3に
より接着された外装容器で、比較的耐熱性の低い
射出成型用樹脂(例えばPBT系樹脂、PPS系樹
脂、フエノール系樹脂などが使用される)を使用
している。4は絶縁材からなり放熱金属板1上に
接着剤3により接着された外部電極用架台、5は
この架台上にはんだ材6により接合された外部電
極、7は電力用半導体チツプ、8はこの半導体チ
ツプ側を絶縁し、かつ、放熱金属板1へ効率よく
熱伝達するためのアルミナセラミツク板で、両面
にメタライズ層9が印刷されていてはんだ材6に
より放熱金属板1に接合されている。10はアル
ミナセラミツク板8上にはんだ材6により接合さ
れたヒートシンク板で、上面に半導体チツプ7を
はんだ材6により接合している。11は半導体チ
ツプ7と外部電極5とを接続するアルミ線、12
は外装容器2内に充てんされ、半導体チツプ7部
を絶縁封止し、かつ、アルミ線11に機械的応力
が加わるのを軽減するようにした封止樹脂で、軟
質のシリコーン系樹脂を用いている。13は封止
樹脂12上に充てんされ、外部電極5の固定及び
外部からの機械的作用に対し保護する保護樹脂
で、比較的硬質のエポキシ系樹脂を用いている。
ワーモジユールを縦断面図で示すようになつてい
た。1は放熱金属板、2は四角筒をなしこの放熱
金属板上に接着剤又は接着テープなど接着材3に
より接着された外装容器で、比較的耐熱性の低い
射出成型用樹脂(例えばPBT系樹脂、PPS系樹
脂、フエノール系樹脂などが使用される)を使用
している。4は絶縁材からなり放熱金属板1上に
接着剤3により接着された外部電極用架台、5は
この架台上にはんだ材6により接合された外部電
極、7は電力用半導体チツプ、8はこの半導体チ
ツプ側を絶縁し、かつ、放熱金属板1へ効率よく
熱伝達するためのアルミナセラミツク板で、両面
にメタライズ層9が印刷されていてはんだ材6に
より放熱金属板1に接合されている。10はアル
ミナセラミツク板8上にはんだ材6により接合さ
れたヒートシンク板で、上面に半導体チツプ7を
はんだ材6により接合している。11は半導体チ
ツプ7と外部電極5とを接続するアルミ線、12
は外装容器2内に充てんされ、半導体チツプ7部
を絶縁封止し、かつ、アルミ線11に機械的応力
が加わるのを軽減するようにした封止樹脂で、軟
質のシリコーン系樹脂を用いている。13は封止
樹脂12上に充てんされ、外部電極5の固定及び
外部からの機械的作用に対し保護する保護樹脂
で、比較的硬質のエポキシ系樹脂を用いている。
上記従来の装置は、外装容器2、外部電極用架
台4がそれぞれ別個に放熱金属板1に接着あるい
ははんだ付けされており、それぞれの部品の位置
決め及び取付けに手間がかかり、また、それぞれ
の接着やはんだ付けにも問題が生じていた。特
に、外装容器2は合成樹脂からなり、放熱金属板
1にろう付け接合はできなく、接着材で接着され
ているが、外形寸法が比較的大きく、複雑な形状
となつていて熱処縮による変形が生じやすく、こ
のため、外部からの水分がこの接着部から浸入す
ることが多かつた。例えば、水の浸入に対する加
速試験の一つである125℃2Kg/cm2の水中に浸漬す
る試験では、半導体チツプ7の劣化及び絶縁耐力
の低下が50〜100時間程度で発生するという欠点
があつた。
台4がそれぞれ別個に放熱金属板1に接着あるい
ははんだ付けされており、それぞれの部品の位置
決め及び取付けに手間がかかり、また、それぞれ
の接着やはんだ付けにも問題が生じていた。特
に、外装容器2は合成樹脂からなり、放熱金属板
1にろう付け接合はできなく、接着材で接着され
ているが、外形寸法が比較的大きく、複雑な形状
となつていて熱処縮による変形が生じやすく、こ
のため、外部からの水分がこの接着部から浸入す
ることが多かつた。例えば、水の浸入に対する加
速試験の一つである125℃2Kg/cm2の水中に浸漬す
る試験では、半導体チツプ7の劣化及び絶縁耐力
の低下が50〜100時間程度で発生するという欠点
があつた。
この発明は、セラミツクからなる外装容器を上
部が開口した箱形に形成し、内壁に段付面を設
け、外部電極をフレーム状に形成し、この外部電
極の底辺部を上記段付面上に硬ろう付け接合し、
外装容器の底下面に放熱金属板を硬ろう付け接合
し、組立部品数を少なくし、部品の位置決め及び
取付け作業の工程数を削減し、水分の浸入を防止
し、半導体チツプの劣化及び絶縁耐力の低下を防
止した半導体装置を提供することを目的としてい
る。
部が開口した箱形に形成し、内壁に段付面を設
け、外部電極をフレーム状に形成し、この外部電
極の底辺部を上記段付面上に硬ろう付け接合し、
外装容器の底下面に放熱金属板を硬ろう付け接合
し、組立部品数を少なくし、部品の位置決め及び
取付け作業の工程数を削減し、水分の浸入を防止
し、半導体チツプの劣化及び絶縁耐力の低下を防
止した半導体装置を提供することを目的としてい
る。
第2図及び第3図はこの発明の一実施例による
半導体装置を示す大電力パワーモジユールの平面
図及び縦断面図であり、6,7,10〜12は上
記従来装置と同一のものである。21はアルミナ
セラミツク材からなるセラミツク外装容器で、底
部を有し上部が開口しており、内壁には中間高さ
位置に段付面21aが形成され、これより上方は
内壁面が四周に広げられている。22は外装容器
21の段付面21a、底部上面と下面とに施され
たメタライズ層、23〜25は底辺部が段付面2
1aにメタライズ層22を介し銀ろう26でろう
付けされた複数の各極外部電極で、ニツケルメツ
キ銅板からなるフレーム状に形成されている。こ
のフレームは鎖線で示すように連続して多数個分
がプレス打抜き成形された後、鎖線の縁部が切落
され1組宛の半導体装置分が分離される。なお、
外部電極23〜25の先端部は図では水平に折曲
げているが、上方に垂直に立上げられる場合もあ
る。外装容器21の底上面にメタライズ層22を
介し、ニツケルメツキ銅板からなる金属共通基板
27が銀ろう26付けされ、この金属共通基板に
ヒートシンク板10がはんだ材6を介し載せら
れ、このヒートシンク板10上にはんだ材6を介
し電力半導体チツプ7及び還流用ダイオードチツ
プ28が載せられ、外部電極25の底辺部上には
んだ材6を介しスピードアツプ用ダイオードチツ
プ29が載せられ、加熱処理により上記各部品が
はんだ付けされている。各半導体チツプ7、28
及び29を対応する部品にそれぞれアルミ線11
によりワイヤボンドしている。セラミツク外装容
器21の底下面には、メタライズ層22を介して
ニツケルメツキ銅板からなる金属当板30が銀ろ
う26付けされてあり、他の放熱板や放熱フイン
に容易にはんだ付け固着されるようにしてある。
ワイヤボンド後、外装容器21内に封止樹脂12
を充てんし封止している。
半導体装置を示す大電力パワーモジユールの平面
図及び縦断面図であり、6,7,10〜12は上
記従来装置と同一のものである。21はアルミナ
セラミツク材からなるセラミツク外装容器で、底
部を有し上部が開口しており、内壁には中間高さ
位置に段付面21aが形成され、これより上方は
内壁面が四周に広げられている。22は外装容器
21の段付面21a、底部上面と下面とに施され
たメタライズ層、23〜25は底辺部が段付面2
1aにメタライズ層22を介し銀ろう26でろう
付けされた複数の各極外部電極で、ニツケルメツ
キ銅板からなるフレーム状に形成されている。こ
のフレームは鎖線で示すように連続して多数個分
がプレス打抜き成形された後、鎖線の縁部が切落
され1組宛の半導体装置分が分離される。なお、
外部電極23〜25の先端部は図では水平に折曲
げているが、上方に垂直に立上げられる場合もあ
る。外装容器21の底上面にメタライズ層22を
介し、ニツケルメツキ銅板からなる金属共通基板
27が銀ろう26付けされ、この金属共通基板に
ヒートシンク板10がはんだ材6を介し載せら
れ、このヒートシンク板10上にはんだ材6を介
し電力半導体チツプ7及び還流用ダイオードチツ
プ28が載せられ、外部電極25の底辺部上には
んだ材6を介しスピードアツプ用ダイオードチツ
プ29が載せられ、加熱処理により上記各部品が
はんだ付けされている。各半導体チツプ7、28
及び29を対応する部品にそれぞれアルミ線11
によりワイヤボンドしている。セラミツク外装容
器21の底下面には、メタライズ層22を介して
ニツケルメツキ銅板からなる金属当板30が銀ろ
う26付けされてあり、他の放熱板や放熱フイン
に容易にはんだ付け固着されるようにしてある。
ワイヤボンド後、外装容器21内に封止樹脂12
を充てんし封止している。
上記のように構成された一実施例の半導体装置
は、従来の装置の欠点を除去したもので、次のよ
うな多くの特長をもつている。
は、従来の装置の欠点を除去したもので、次のよ
うな多くの特長をもつている。
1 外部電極に導体板フレームを用いたので、セ
ラミツク外装容器との位置決めが簡単で容易に
でき、かつ、このセラミツク外装容器に銀ろう
付けしたので、組立工程中における半導体チツ
プのはんだ付け時において再溶融するおそれが
なく、外装容器に完全に固定される。
ラミツク外装容器との位置決めが簡単で容易に
でき、かつ、このセラミツク外装容器に銀ろう
付けしたので、組立工程中における半導体チツ
プのはんだ付け時において再溶融するおそれが
なく、外装容器に完全に固定される。
2 上部が開口し有底の箱形の外装容器を用いた
ので、水分の浸入が全くなくなり、したがつ
て、PCT試験における評価が大幅に改善され
る。
ので、水分の浸入が全くなくなり、したがつ
て、PCT試験における評価が大幅に改善され
る。
3 外装容器の内壁に段付面を設けたので、この
段付面に底辺部が銀ろう付け固着され、大電流
が流される外部電極に、直接アルミ線を超音波
ボンデイングすることができ、かつ、アルミ線
の機械的保護用の軟質のシリコーン樹脂充てん
のみでよく、しかも、側面および外部電極から
伝わる機械的ストレスに対しても十分保護する
ことが可能となり、従来のように、充てんした
軟質のシリコーン樹脂の上に、硬いエポキシ系
の樹脂の充てんが不用となる。
段付面に底辺部が銀ろう付け固着され、大電流
が流される外部電極に、直接アルミ線を超音波
ボンデイングすることができ、かつ、アルミ線
の機械的保護用の軟質のシリコーン樹脂充てん
のみでよく、しかも、側面および外部電極から
伝わる機械的ストレスに対しても十分保護する
ことが可能となり、従来のように、充てんした
軟質のシリコーン樹脂の上に、硬いエポキシ系
の樹脂の充てんが不用となる。
4 箱形のセラミツク外装容器の中ですべての部
品が組立てられるので、他の部品との相互位置
合せ作業が簡単になり、量産化が容易となる。
品が組立てられるので、他の部品との相互位置
合せ作業が簡単になり、量産化が容易となる。
5 箱形外装容器の底部の下面及び内面とに同時
に金属当板及び共通基板を硬ろう付けしたの
で、ろう付け時外装容器にかかる機械的ストレ
ス(主として熱膨張差による)が軽減される。
に金属当板及び共通基板を硬ろう付けしたの
で、ろう付け時外装容器にかかる機械的ストレ
ス(主として熱膨張差による)が軽減される。
6 外装容器の内壁に段付面を設けたので、半導
体チツプと外部電極間の絶縁距離が垂直方向に
も増されるので、小形化することができる。
体チツプと外部電極間の絶縁距離が垂直方向に
も増されるので、小形化することができる。
以上のように、この発明の半導体装置によれ
ば、セラミツク外装容器を上部が開口して有底に
し、内壁に中間高さ位置に段付面を設け、導体板
フレームからなる外部電極の底辺部を上記段付面
に硬ろう付けしたので、組立作業が容易で簡略化
され、低価格になり、量産化が可能となり、外部
からの水分の浸入が防止され、信頼性が向上され
る。さらに外装容器の底部下面に金属当板を硬ろ
う付けしたので、他の放熱板などに容易に軟ろう
付け固着ができる。
ば、セラミツク外装容器を上部が開口して有底に
し、内壁に中間高さ位置に段付面を設け、導体板
フレームからなる外部電極の底辺部を上記段付面
に硬ろう付けしたので、組立作業が容易で簡略化
され、低価格になり、量産化が可能となり、外部
からの水分の浸入が防止され、信頼性が向上され
る。さらに外装容器の底部下面に金属当板を硬ろ
う付けしたので、他の放熱板などに容易に軟ろう
付け固着ができる。
第1図は従来の半導体装置を示す大電力パワー
モジユールの要部の縦断面図、第2図はこの発明
の一実施例による半導体装置を示す大電力パワー
モジユールの要部の平面図、第3図は第2図の
線における断面図である。 6……はんだ材、7……半導体チツプ、10…
…ヒートシンク板、12……封止樹脂、21……
セラミツク外装容器、21a……段付面、22…
…メタライズ層、23〜25……外部電極、26
……銀ろう、27……金属共通基板、28,29
……ダイオードチツプ、30……金属当板。な
お、図中同一符号は同一又は相当部分を示す。
モジユールの要部の縦断面図、第2図はこの発明
の一実施例による半導体装置を示す大電力パワー
モジユールの要部の平面図、第3図は第2図の
線における断面図である。 6……はんだ材、7……半導体チツプ、10…
…ヒートシンク板、12……封止樹脂、21……
セラミツク外装容器、21a……段付面、22…
…メタライズ層、23〜25……外部電極、26
……銀ろう、27……金属共通基板、28,29
……ダイオードチツプ、30……金属当板。な
お、図中同一符号は同一又は相当部分を示す。
Claims (1)
- 1 上方が開口し底部を有する箱形にされ、内壁
に中間高さ位置に段付面が設けられ、上記底部の
上面及び下面と段付面とにメタライズ層が施され
たセラミツク外装容器、導体板フレーム状をな
し、底辺部が上記段付面に硬ろう付けされ端部が
上方に引出された複数の外部電極、上記外装容器
の底部上面に硬ろう付けされた金属共通基板、こ
の共通基板上に軟ろう付けされ上面に半導体チツ
プを軟ろう付けしたヒートシンク板、上記外装容
器の底部下面に硬ろう付けされた金属当板、及び
上記外装容器に充てんされ封止する軟質系の封止
樹脂を備えた半導体装置。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP56194698A JPS5893358A (ja) | 1981-11-30 | 1981-11-30 | 半導体装置 |
GB08233407A GB2111746B (en) | 1981-11-30 | 1982-11-23 | Semiconductor package |
DE19823243689 DE3243689A1 (de) | 1981-11-30 | 1982-11-25 | Halbleitervorrichtung |
US06/884,293 US4677741A (en) | 1981-11-30 | 1986-07-10 | Method of manufacturing package for high power integrated circuit |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP56194698A JPS5893358A (ja) | 1981-11-30 | 1981-11-30 | 半導体装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5893358A JPS5893358A (ja) | 1983-06-03 |
JPS6146061B2 true JPS6146061B2 (ja) | 1986-10-11 |
Family
ID=16328778
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP56194698A Granted JPS5893358A (ja) | 1981-11-30 | 1981-11-30 | 半導体装置 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4677741A (ja) |
JP (1) | JPS5893358A (ja) |
DE (1) | DE3243689A1 (ja) |
GB (1) | GB2111746B (ja) |
Families Citing this family (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6235658A (ja) * | 1985-08-09 | 1987-02-16 | Fuji Electric Co Ltd | 半導体装置 |
US4931906A (en) * | 1988-03-25 | 1990-06-05 | Unitrode Corporation | Hermetically sealed, surface mountable component and carrier for semiconductor devices |
US5182628A (en) * | 1989-06-28 | 1993-01-26 | Hitachi, Ltd. | Semiconductor device having particular solder interconnection arrangement |
US5285690A (en) * | 1992-01-24 | 1994-02-15 | The Foxboro Company | Pressure sensor having a laminated substrate |
US5313091A (en) * | 1992-09-28 | 1994-05-17 | Sundstrand Corporation | Package for a high power electrical component |
US5297001A (en) * | 1992-10-08 | 1994-03-22 | Sundstrand Corporation | High power semiconductor assembly |
KR100322177B1 (ko) | 1993-12-27 | 2002-05-13 | 이누이 도모지 | 내연기관용점화장치 |
DE10221857A1 (de) * | 2002-05-16 | 2003-11-27 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Verfahren zum Befestigen eines Halbleiterchips in einem Kunststoffgehäusekörper, optoelektronisches Halbleiterbauelement und Verfahren zu dessen Herstellung |
US7209366B2 (en) * | 2004-03-19 | 2007-04-24 | Intel Corporation | Delivery regions for power, ground and I/O signal paths in an IC package |
DE102006022254B4 (de) * | 2006-05-11 | 2008-12-11 | Infineon Technologies Ag | Halbleiterbauteil mit in Kunststoffgehäusemasse eingebetteten Halbleiterbauteilkomponenten, Anordnung für eine Mehrzahl von Halbleiterbauteilen und Verfahren zur Herstellung von Halbleiterbauteilen |
US8049323B2 (en) * | 2007-02-16 | 2011-11-01 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Chip holder with wafer level redistribution layer |
CN103094129B (zh) * | 2011-10-28 | 2016-04-06 | 无锡华润安盛科技有限公司 | 一种半导体器件封装工艺 |
CN103311133B (zh) * | 2013-05-20 | 2015-11-04 | 临海市志鼎电子科技有限公司 | 一种功率半导体模块焊接前倒装工艺 |
Family Cites Families (22)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2921245A (en) * | 1958-10-08 | 1960-01-12 | Int Rectifier Corp | Hermetically sealed junction means |
US3223903A (en) * | 1961-02-24 | 1965-12-14 | Hughes Aircraft Co | Point contact semiconductor device with a lead having low effective ratio of length to diameter |
US3141226A (en) * | 1961-09-27 | 1964-07-21 | Hughes Aircraft Co | Semiconductor electrode attachment |
DE1231811B (de) * | 1962-04-06 | 1967-01-05 | Bosch Gmbh Robert | Halbleiteranordnung |
US3241011A (en) * | 1962-12-26 | 1966-03-15 | Hughes Aircraft Co | Silicon bonding technology |
GB1163785A (en) * | 1965-12-22 | 1969-09-10 | Texas Instruments Inc | Composite Header for a Semiconductor Device |
JPS4810904B1 (ja) * | 1969-03-12 | 1973-04-09 | ||
US3681513A (en) * | 1971-01-26 | 1972-08-01 | American Lava Corp | Hermetic power package |
US3793064A (en) * | 1971-11-15 | 1974-02-19 | Du Pont | Product and process for cavity metallization of semiconductor packages |
US3964155A (en) * | 1972-02-23 | 1976-06-22 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy | Method of planar mounting of silicon solar cells |
DE2230863C2 (de) * | 1972-06-23 | 1981-10-08 | Intersil Inc., Cupertino, Calif. | Gehäuse für ein Halbleiterelement |
US3908185A (en) * | 1974-03-06 | 1975-09-23 | Rca Corp | High frequency semiconductor device having improved metallized patterns |
JPS5272170A (en) * | 1975-12-12 | 1977-06-16 | Nec Corp | Package for semiconductor elements |
JPS5336468A (en) * | 1976-09-17 | 1978-04-04 | Hitachi Ltd | Package for integrated circuit |
US4176443A (en) * | 1977-03-08 | 1979-12-04 | Sgs-Ates Componenti Elettronici S.P.A. | Method of connecting semiconductor structure to external circuits |
US4117508A (en) * | 1977-03-21 | 1978-09-26 | General Electric Company | Pressurizable semiconductor pellet assembly |
JPS5450269A (en) * | 1977-09-28 | 1979-04-20 | Nec Home Electronics Ltd | Semiconductor device |
US4445274A (en) * | 1977-12-23 | 1984-05-01 | Ngk Insulators, Ltd. | Method of manufacturing a ceramic structural body |
JPS54140468A (en) * | 1978-04-24 | 1979-10-31 | Hitachi Ltd | Glass sealing package type device and its manufacture |
JPS5568661A (en) * | 1978-11-17 | 1980-05-23 | Hitachi Ltd | Structure for mounting power transistor |
DE3030763A1 (de) * | 1979-08-17 | 1981-03-26 | Amdahl Corp., Sunnyvale, Calif. | Packung fuer eine integrierte schaltung in plaettchenform |
DE3028178C2 (de) * | 1980-07-25 | 1985-05-09 | Brown, Boveri & Cie Ag, 6800 Mannheim | Leistungshalbleiter-Modul |
-
1981
- 1981-11-30 JP JP56194698A patent/JPS5893358A/ja active Granted
-
1982
- 1982-11-23 GB GB08233407A patent/GB2111746B/en not_active Expired
- 1982-11-25 DE DE19823243689 patent/DE3243689A1/de active Granted
-
1986
- 1986-07-10 US US06/884,293 patent/US4677741A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
GB2111746A (en) | 1983-07-06 |
US4677741A (en) | 1987-07-07 |
DE3243689A1 (de) | 1983-06-30 |
JPS5893358A (ja) | 1983-06-03 |
DE3243689C2 (ja) | 1987-12-23 |
GB2111746B (en) | 1985-09-25 |
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