JPS6139545A - ウエ−ハ用キヤリヤ− - Google Patents

ウエ−ハ用キヤリヤ−

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Publication number
JPS6139545A
JPS6139545A JP15926784A JP15926784A JPS6139545A JP S6139545 A JPS6139545 A JP S6139545A JP 15926784 A JP15926784 A JP 15926784A JP 15926784 A JP15926784 A JP 15926784A JP S6139545 A JPS6139545 A JP S6139545A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
carrier
pair
wafer
guide
support
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP15926784A
Other languages
English (en)
Inventor
Tadao Ikeda
池田 格郎
Katsuhiro Umetsu
梅津 勝宏
Takashi Koseki
小関 隆
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Coorstek KK
Original Assignee
Toshiba Ceramics Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Ceramics Co Ltd filed Critical Toshiba Ceramics Co Ltd
Priority to JP15926784A priority Critical patent/JPS6139545A/ja
Publication of JPS6139545A publication Critical patent/JPS6139545A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 上の  ! この発明は半導体ウェーハ用キ1?リヤーの改良に関す
るものである。
」L悲1【 第2図は従来の典型的なウェーハ用キャリヤー1を示す
ものであり、多数の半導体つ工−ハWをほぼI直かつ等
間隔に並べて載置するようになっている。キャリヤー1
の全体がPFAで作られている。
キャリヤー1にはガイド部2とサポート部3が設けられ
ている。
ガイド部2はウェーハWの側部をガイドするために多数
の溝を等間隔に有する。このようなガイド部2はキャリ
ヤー1の両側に対をなして平行かつ垂直に固定されてい
る。
また、サポート部3はウェーハWの底部をサポートする
ために設けられたものであり、多数の溝を等間隔に有す
る。サポート部3はキャリヤー1の底部に平行かつ斜め
に固定されている。
しかも、従来のキャリヤー1においては、サポート部3
とガイド部2とが連続して一体的に形成されている。
、 が  じょうとする口 、 多数の半導体ウェーハWを処理する際には、周知なよう
に、超音波洗浄工程と回転乾燥工程とが重要なものであ
る。
ところが、前述のような従来のウェーハ用キャリヤー1
にあっては、次に述べるような理由にJ:す、超音波洗
浄工程におけるキ1!リヤーと回転乾燥工程におけるキ
ャリヤーとを別にし、そのため、超音波洗浄が終った後
、多数のウェーハを別のウェーハ用キャリヤーに移し変
えなければならなかった。
(1)、PFA(4フツ化エチレンパーフロロアルキ共
重合樹脂)はゴミが付着し易く、しかも取り難い。
(2)従来のようにキャリヤーがPFAで作られている
と、超音波洗浄の際にキャリヤーが超音波を吸収して減
食してしまい、洗浄効果が低下する。特にキャリヤーの
上部の方は洗浄効果が著しく低下する。
(3)PFA製のキャリヤーであると、剛性が低く、回
転乾燥用に使用できない。
11匹1江 この発明は前述のような従来のつI−ハ用キャリヤーに
おける欠点を解消して、洗浄効果が大きく、しかも処理
工程を簡略にできるウェーハ用キャリヤーを提供するこ
とを目的とするものである。
、+7)LE この発明の要旨とするところは、多数の半導体ウェーハ
をほぼ垂直かつ等間隔に並べて載置するためのウェーハ
用キャリヤーにおいて、ウェーハの側部をガイドするた
めに多数の溝を等間隔に有する1対の細長い石英製のガ
イド部をキャリヤーの両側に平行かつ垂直に固定し、ウ
ェーハの底部をサポートするために多数の溝を等間隔に
有する1対の精長い石英製のサポート部を互いに離すと
ともにキャリヤーの底部に平行かつ斜めに固定し、さら
にガイド部とサポート部を離し、しかもガイド部とサポ
ート部の表面にPFAをコーティングしたことを特徴と
するウェーハ用キャリヤーにある。
を ゛ るた の二 この発明によるウェーハ用キャリヤー10は、ウェーハ
Wの側部をガイドづるために多数の溝を等間隔に有する
1対の細長い石英製のガイド部11と、ウェーハWの底
部をサポートするために多数の溝を等間隔に有する1対
の細長い石英製のサポート部12とを有す1対のガイド
部11はキャリヤー10の両側に平行かつ垂直に固定さ
れている。1対のサポート部12は互いに離れていて、
キャリヤー10の底部に平行かつ斜めに固定されている
更に、ガイド部11とサポート部12は互いに離れてお
り、そこに洗浄液が通過するための空間13が形成され
ている。
また、1対のサポート部12も互いに離れており、キャ
リヤー10の真下にも、洗浄液が通過するための空間1
4が形成されている。
更に、ガイド部11とサポート部13の表面にPFAが
コーティングしである。
l ウェーハ用キャリヤー10に多数のウェーハWを載置し
て、超音波洗浄を行った後、そのままの状態で回転乾燥
を行う。つまり、超音波洗浄を行った後、多数のウェー
ハWを他のつl−ハ用キャリヤーに移し変えずにそのま
ま同じキャリヤーで回転乾燥を行うのである。
丈111 第1図と第3図に示すように、この発明によるウェーハ
用キャリヤー10はその両側に1対の細長い石英製のガ
イド部11と、その底部に1対の細長い石英製のサポー
ト部12とを有する。
各ガイド部11の内側には多数の溝が等間隔に形成して
あり、それによりウェーハWの側部をガイドするように
なっている。ガイド部11は互いに平行であり、垂直に
配置されている。
両ガイド部11の少し上方にはそれぞれ補強プレート1
5が設けである。この補強プレート15とガイド部13
とは離れている。
サポート部12はウェーハWの底部をサポートするため
に用いられるものであり、その内側に多数の溝が等間隔
に形成しである。1対のリポ−l一部12が互:い・に
平行にカ1つ斜めに配冒しである。1対のサポート部1
2は互いに離れており、それによりキャリヤー10の底
部に洗浄液通過用の空回14を形成しているカ ーまた、ガイド部11とサポート部12との間も+・分
に離れており、そこに洗浄液通過用の空間13が形成さ
れている。
ガイド部11とサポート部12はその表面に−f、P 
F Aがコーティングしてあり、ショックアブソーバ−
の機能を果たすようになっている。PFAとしてはテフ
ロンが最適である。
1対の端板16.17がそれぞれ石英で作られていて、
全体がほぼ凹形状に形成されている。ガイド部11とサ
ポート部12の両端がそれらの端板16.17に溶接し
て固定されている。各端板16.17の底部には2本の
脚16a117aが設けである。さらに各端板16.1
7の内側コーナーにはほぼ三角形の補強部16b、17
bが設けである。
また、脚1・6a 、17aの間に補強棒18が設けで
ある。
なお、ガイド部11、サポート部12、及び端板16.
17は全体を透明石英で作るのが好ましく、そのうちガ
イド部11とサポート部12の表面にのみPFAのコー
ティングをWltのが望ましいのである。
11へ11 この発明によれば、ウェーハ用キャリヤーのほぼ全体が
石英(好ましくは透明石英)で作られているため、超音
波洗浄の際に超音波を吸収減衰させる現象が発生せず、
従って、従来のPFAiiのキャリヤーに比較して洗浄
効果が格段に向上する。とくに、キャリヤーの上方部分
での洗浄効果が顕著である。
しかも、キャリヤーのほぼ全体が石英で形成されている
ため、キャリヤー全体の剛性が大きく、超音波洗浄の際
はもちろん回転乾燥の際にも十分な剛性を保つことかで
き、従つて、超音波洗浄と回転乾燥とについてまったく
同一のウェーハ用キャリヤーを使用することができる。
その結果、超音波洗浄の後、多数のウェーハを別のキャ
リヤーに移すことなく、そのまま同じウェーハ用キャリ
ヤーで回転乾燥を行うことができる。丈なわら、多数の
ウェーハを移し替えるという最も困難な一つの工程を完
全に省略することができるのである。これにより処理時
間の短縮を計れるばかりでなく、移し替えの際にウェー
ハに傷をつけることがなくなり、経済的効果は極めて大
である。
また、ガイド部11とサポート部12とが完全に離れて
いて、そこに空間13が形成されており、しかも1対の
サポート部12の間にも空間14が存在しているので、
洗浄液が容易に流れることができ、そのため洗浄効果が
一段と高まるという大きな実用上の効果が得られる。
さらには、ウェーハWの接触するガイド部11とサポー
ト部12に、PFAのコーティングが施しであるので、
超音波洗浄の際にそれらのPFAのコーティング部分が
ショックアブソーバ−の機能を果たす。そのためウェー
ハが石英に直接触れてウェーハに微細なりラックを発生
させることを完全に回避することが、できる。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明によるウェーハ用キャリヤーを示す斜
視図、第2図は従来のウェーハ用キャリヤーを示す斜視
図、第3図は第1図のウェーハ用キャリヤーの垂直断面
図である。 10・・・ウェーハ用キャリヤー 11・・・ガイド部 12・・・ザボート部 16.17・・・端板 第3図

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)多数の半導体ウェーハをほぼ垂直かつ等間隔に並
    べて載置するためのウェーハ用キャリヤーにおいて、ウ
    ェーハの側部をガイドするために多数の溝を等間隔に有
    する1対の細長い石英製のガイド部をキャリヤーの両側
    に平行かつ垂直に固定し、ウェーハの底部をサポートす
    るために多数の溝を等間隔に有する1対の細長い石英製
    のサポート部を互いに離すとともにキャリヤーの底部に
    平行かつ斜めに固定し、さらにガイド部とサポート部を
    離し、しかもガイド部とサポート部の表面にPFAをコ
    ーティングしたことを特徴とするウェーハ用キャリヤー
  2. (2)1対の端板がそれぞれ石英製でほぼ凹形状に形成
    されていて、ガイド部とサポート部の両端が端板に溶接
    されている特許請求の範囲1項記載のウェーハ用キャリ
    ヤー。
  3. (3)各端板の底部に2本の脚を設け、各端板の内側コ
    ーナーにほぼ三角形の補強部を設けた特許請求の範囲第
    2項に記載のウェーハ用キャリヤー。
  4. (4)ガイド部、サポート部および端板が透明石英で作
    られている特許請求の範囲第1、2又は3項に記載のウ
    ェーハ用キャリヤー。
JP15926784A 1984-07-31 1984-07-31 ウエ−ハ用キヤリヤ− Pending JPS6139545A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6215647U (ja) * 1985-07-15 1987-01-30
JPS6216859U (ja) * 1985-07-16 1987-01-31
JPH0235448U (ja) * 1988-08-29 1990-03-07

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JPS5295165A (en) * 1976-02-06 1977-08-10 Hitachi Ltd Wafer cleansing tool
JPS53114678A (en) * 1977-03-17 1978-10-06 Toshiba Ceramics Co Diffusion cleaning jig for producing semiconductor
JPS57155744A (en) * 1981-03-23 1982-09-25 Hitachi Ltd Jig for wafer

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