JPH06204195A - ウエハ洗浄装置用ウエハボート - Google Patents
ウエハ洗浄装置用ウエハボートInfo
- Publication number
- JPH06204195A JPH06204195A JP1585093A JP1585093A JPH06204195A JP H06204195 A JPH06204195 A JP H06204195A JP 1585093 A JP1585093 A JP 1585093A JP 1585093 A JP1585093 A JP 1585093A JP H06204195 A JPH06204195 A JP H06204195A
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- JP
- Japan
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- wafer
- groove
- support member
- boat
- wafer boat
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- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
- Packaging For Recording Disks (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 洗浄を効率よく行いウエハの洗浄不良を防止
し、高品質のウエハを製造するのに役立つウエハ洗浄装
置用ウエハボートを提供する。 【構成】 支持部材に多数の溝を設け、この溝を利用し
てウエハを積載する構成のウエハ洗浄装置用ウエハボー
トにおいて、支持部材１１，２１がパイプ材を軸方向に
切断した形状を有し、その凸面がウエハ１に対面するよ
うに配置されていて、支持部材１１，２１に設けた溝１
２，２２の底部が部分的に開放されていることを特徴と
するウエハ洗浄装置用ウエハボート。
し、高品質のウエハを製造するのに役立つウエハ洗浄装
置用ウエハボートを提供する。 【構成】 支持部材に多数の溝を設け、この溝を利用し
てウエハを積載する構成のウエハ洗浄装置用ウエハボー
トにおいて、支持部材１１，２１がパイプ材を軸方向に
切断した形状を有し、その凸面がウエハ１に対面するよ
うに配置されていて、支持部材１１，２１に設けた溝１
２，２２の底部が部分的に開放されていることを特徴と
するウエハ洗浄装置用ウエハボート。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、支持部材に多数の溝
を設け、この溝を利用してウエハを積載する構成のウエ
ハ洗浄装置用ウエハボートに関するものである。
を設け、この溝を利用してウエハを積載する構成のウエ
ハ洗浄装置用ウエハボートに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来のウエハ洗浄装置用ウエハボートに
おいては、支持部材として、一般に無垢棒すなわち中実
の角棒材又は丸棒材が用いられている。各支持部材には
多数の溝が形成されており、この溝を利用してウエハボ
ートを積載する構成になっている。
おいては、支持部材として、一般に無垢棒すなわち中実
の角棒材又は丸棒材が用いられている。各支持部材には
多数の溝が形成されており、この溝を利用してウエハボ
ートを積載する構成になっている。
【０００３】洗浄に際しては、ウエハボートに多数のウ
エハを積載し、これをウエハ洗浄装置の洗浄槽内に設置
し、薬液と水を用いてウエハの洗浄を行う。洗浄装置の
洗浄槽は通常薬液槽と水洗槽に別れているが、いずれの
槽においても給液及び給水は槽の下部から行われる。
エハを積載し、これをウエハ洗浄装置の洗浄槽内に設置
し、薬液と水を用いてウエハの洗浄を行う。洗浄装置の
洗浄槽は通常薬液槽と水洗槽に別れているが、いずれの
槽においても給液及び給水は槽の下部から行われる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】支持部材が無垢棒材の
場合には支持部材の溝部周辺で液の流れが滞り易く、特
に溝と接触しているウエハの領域は充分に洗浄すること
ができない。
場合には支持部材の溝部周辺で液の流れが滞り易く、特
に溝と接触しているウエハの領域は充分に洗浄すること
ができない。
【０００５】又、溝部周辺では前述したように滞流が生
じ易く、しかも、無垢棒材の溝は連続した底面と側面で
画成されているため溝の下部付近にダストが溜まり易
い。堆積したダストがウエハに付着すると、拡散処理の
際に異常拡散が生じる恐れが大である。
じ易く、しかも、無垢棒材の溝は連続した底面と側面で
画成されているため溝の下部付近にダストが溜まり易
い。堆積したダストがウエハに付着すると、拡散処理の
際に異常拡散が生じる恐れが大である。
【０００６】さらに、無垢棒材を用いた従来のウエハボ
ートにおいては、ウエハと溝の接触領域が大きくなるた
め、ウエハに生じるボートキズが大きくなり易いという
欠点もある。
ートにおいては、ウエハと溝の接触領域が大きくなるた
め、ウエハに生じるボートキズが大きくなり易いという
欠点もある。
【０００７】このような従来技術の問題点に鑑み、本発
明は洗浄を効率よく行えウエハの洗浄不良を防止し高品
質のウエハを製造するのに役立つウエハ洗浄装置用ウエ
ハボートを提供することを目的としている。
明は洗浄を効率よく行えウエハの洗浄不良を防止し高品
質のウエハを製造するのに役立つウエハ洗浄装置用ウエ
ハボートを提供することを目的としている。
【０００８】
【課題を解決するための手段】この発明は、支持部材に
多数の溝を設け、この溝を利用してウエハを積載する構
成のウエハ洗浄装置用ウエハボートにおいて、支持部材
１１，２１が中空棒状部材を軸方向に切断した形状を有
し、その凸面がウエハ１に対面するように配置されてい
て、支持部材１１，２１に設けた溝１２，２２の底部が
部分的に開放されていることを特徴とするウエハ洗浄装
置用ウエハボートを要旨としている。
多数の溝を設け、この溝を利用してウエハを積載する構
成のウエハ洗浄装置用ウエハボートにおいて、支持部材
１１，２１が中空棒状部材を軸方向に切断した形状を有
し、その凸面がウエハ１に対面するように配置されてい
て、支持部材１１，２１に設けた溝１２，２２の底部が
部分的に開放されていることを特徴とするウエハ洗浄装
置用ウエハボートを要旨としている。
【０００９】
【実施例】以下、図面を参照して本発明の実施例を説明
する。図１及び図５は本発明のウエハ洗浄装置用ウエハ
ボートを示す横断面図及び斜視図、図２は図１の一部分
を示す拡大断面図である。
する。図１及び図５は本発明のウエハ洗浄装置用ウエハ
ボートを示す横断面図及び斜視図、図２は図１の一部分
を示す拡大断面図である。
【００１０】ウエハ洗浄装置用ウエハボート１０（以
下、ウエハボートと略す）は、図１、５に示すように３
本の支持部材１１と支持部材を連結しているフレーム部
材１３から構成されている。支持部材１１とフレーム部
材１３は石英製である。このウエハボート１０は８ｉｎ
ｃｈウエハ用であり、多数の８ｉｎｃｈウエハ１（想像
線で示した）を積載可能である。
下、ウエハボートと略す）は、図１、５に示すように３
本の支持部材１１と支持部材を連結しているフレーム部
材１３から構成されている。支持部材１１とフレーム部
材１３は石英製である。このウエハボート１０は８ｉｎ
ｃｈウエハ用であり、多数の８ｉｎｃｈウエハ１（想像
線で示した）を積載可能である。
【００１１】支持部材１１は、断面円環状又はだ円環状
の中空棒状部材を軸方向に切断した形状を有している。
中央の支持部材１１は中空棒状部材を軸方向に２分割し
た形状になっている。両側の支持部材１１は中央の支持
部材１１と同じ中空棒状部材をカットしたものである
が、その断面の円周角は中央の支持部材のそれに較べて
幾分小さめである。
の中空棒状部材を軸方向に切断した形状を有している。
中央の支持部材１１は中空棒状部材を軸方向に２分割し
た形状になっている。両側の支持部材１１は中央の支持
部材１１と同じ中空棒状部材をカットしたものである
が、その断面の円周角は中央の支持部材のそれに較べて
幾分小さめである。
【００１２】支持部材１１の長手方向には多数の溝１２
が等間隔で形成されている。溝１２の溝幅は、ウエハ１
の肉厚よりもわずかに大きく設定されている。また、溝
の深さは支持部材の肉厚よりも大きくなっている。従っ
て、溝の底部は部分的に開放されていて、底面１２ａは
不連続になっている。溝の側壁も溝の中央底部付近で欠
けている。従って、溝の中央底部付近には開口１４が形
成されることになる。２つの底面１２ａを合せた長さ
は、開口及び溝全体の長さに較べてかなり短かい。
が等間隔で形成されている。溝１２の溝幅は、ウエハ１
の肉厚よりもわずかに大きく設定されている。また、溝
の深さは支持部材の肉厚よりも大きくなっている。従っ
て、溝の底部は部分的に開放されていて、底面１２ａは
不連続になっている。溝の側壁も溝の中央底部付近で欠
けている。従って、溝の中央底部付近には開口１４が形
成されることになる。２つの底面１２ａを合せた長さ
は、開口及び溝全体の長さに較べてかなり短かい。
【００１３】このように、溝の底部付近に開口１４が形
成されているので、ウエハ１と溝１２の接触領域は従来
のウエハボートに較べてかなり小さくなる。従来のウエ
ハボートにおいては中実材の支持部材に設けた溝の深さ
は例えば５ｍｍであった。本実施例では中空棒状部材の
厚みを例えば１ｍｍ〜３ｍｍに設定できるが、この場合
には接触面積を著しく小さくできることがわかる。
成されているので、ウエハ１と溝１２の接触領域は従来
のウエハボートに較べてかなり小さくなる。従来のウエ
ハボートにおいては中実材の支持部材に設けた溝の深さ
は例えば５ｍｍであった。本実施例では中空棒状部材の
厚みを例えば１ｍｍ〜３ｍｍに設定できるが、この場合
には接触面積を著しく小さくできることがわかる。
【００１４】このため、支持部材１１の溝１２の底部付
近における洗浄液の流れが増加し、その周辺に位置する
ウエハ領域を効率よく洗浄することが可能になる。さら
に、同じ理由で溝部に堆積するダストを減らすこともで
きる。
近における洗浄液の流れが増加し、その周辺に位置する
ウエハ領域を効率よく洗浄することが可能になる。さら
に、同じ理由で溝部に堆積するダストを減らすこともで
きる。
【００１５】次に、中空棒状部材すなわち支持部材の径
に関して述べる。支持部材の径が大きくなると、ウエハ
と支持部材の接触領域も大きくなりウエハに生じるキズ
が大きくなり易い。反対にパイプの径が小さすぎると、
ウエハの安定性が悪くなる。従って、パイプの径はウエ
ハ径の１５／２００〜２５／２００すなわち７．５％〜
１２．５％とするのが最適である。例えば８ｉｎｃｈウ
エハ用のウエハボートの場合にはパイプ径は１５〜２５
ｍｍとするのが望ましい。
に関して述べる。支持部材の径が大きくなると、ウエハ
と支持部材の接触領域も大きくなりウエハに生じるキズ
が大きくなり易い。反対にパイプの径が小さすぎると、
ウエハの安定性が悪くなる。従って、パイプの径はウエ
ハ径の１５／２００〜２５／２００すなわち７．５％〜
１２．５％とするのが最適である。例えば８ｉｎｃｈウ
エハ用のウエハボートの場合にはパイプ径は１５〜２５
ｍｍとするのが望ましい。
【００１６】図３には支持部材の他の例が示されてい
る。このように支持部材２１は、角状の中空棒状部材を
軸方向に切断した形状を有していてもよい。この場合に
は、対角線または辺の長さをウエハ径の１５／２００〜
２５／２００すなわち７．５％〜１２．５％にすればよ
い。
る。このように支持部材２１は、角状の中空棒状部材を
軸方向に切断した形状を有していてもよい。この場合に
は、対角線または辺の長さをウエハ径の１５／２００〜
２５／２００すなわち７．５％〜１２．５％にすればよ
い。
【００１７】また、中空棒状部材の切断位置について、
図４に示すように中空棒状部材の２分割中心位置からの
これに直行する線方向へのズレにより定義すると、この
切断位置は＋５０〜−５０％の位置が好しい。さらに好
しくは＋５０〜−３５％、さらには＋３５〜０％の位置
が好しい。＋５０％を超えると、支持部材の強度が得ら
れず、また−５０％を逆に超えると本願特有の効果が充
分に得られない。
図４に示すように中空棒状部材の２分割中心位置からの
これに直行する線方向へのズレにより定義すると、この
切断位置は＋５０〜−５０％の位置が好しい。さらに好
しくは＋５０〜−３５％、さらには＋３５〜０％の位置
が好しい。＋５０％を超えると、支持部材の強度が得ら
れず、また−５０％を逆に超えると本願特有の効果が充
分に得られない。
【００１８】なお、本発明のウエハ洗浄装置用ウエハボ
ートを構成する部材としては、加工の容易性から石英ガ
ラスが好しいが、他にＳｉＣあるいはＣＶＤ−ＳｉＣコ
ートのＳｉＣ、ＣＶＤ−ＳＩ3 Ｎ4 コートのＳｉＣ、金
属Ｓｉ、Ａｌ2 Ｏ3 もしくはこれらの複合材を用いるこ
とができる。
ートを構成する部材としては、加工の容易性から石英ガ
ラスが好しいが、他にＳｉＣあるいはＣＶＤ−ＳｉＣコ
ートのＳｉＣ、ＣＶＤ−ＳＩ3 Ｎ4 コートのＳｉＣ、金
属Ｓｉ、Ａｌ2 Ｏ3 もしくはこれらの複合材を用いるこ
とができる。
【００１９】実施例１ 図１に示したウエハボート（実施例１）、切断しない中
空棒状部材を用いたウエハボート（比較例１）、及び中
実材を用いた従来のウエハボート（従来例１）を用いて
比較実験を行った。すなわち、これらのウエハボートを
用いてウエハを洗浄し、その後でＮ＋拡散処理を行って
ウエハの品質を比較した。
空棒状部材を用いたウエハボート（比較例１）、及び中
実材を用いた従来のウエハボート（従来例１）を用いて
比較実験を行った。すなわち、これらのウエハボートを
用いてウエハを洗浄し、その後でＮ＋拡散処理を行って
ウエハの品質を比較した。
【００２０】実施例１及び比較例１における中空棒状部
材の厚さは２ｍｍとし、支持部材の外径は全て同一に設
定した。又、ウエハボートの溝の深さは、中空棒状部材
の厚さの約２倍とした。測定項目はウエハに生じたキ
ズ、異常拡散及びダスト数である。ダスト数は０．２μ
ｍ以上のダストを測定器を用いて測定した。結果を表１
に示す。
材の厚さは２ｍｍとし、支持部材の外径は全て同一に設
定した。又、ウエハボートの溝の深さは、中空棒状部材
の厚さの約２倍とした。測定項目はウエハに生じたキ
ズ、異常拡散及びダスト数である。ダスト数は０．２μ
ｍ以上のダストを測定器を用いて測定した。結果を表１
に示す。
【００２１】
【表１】 実施例１で処理したウエハは、キズが小さくて異常拡散
及びダスト数が無く、品質が良好であった。なお、キズ
に関しては最大値を示したが実施例ではキズの範囲は
０．５〜１ｍｍであった。
及びダスト数が無く、品質が良好であった。なお、キズ
に関しては最大値を示したが実施例ではキズの範囲は
０．５〜１ｍｍであった。
【００２２】又、比較例１では洗浄後にウエハと石英ボ
ートの接触部に液残りが生じた。これは中空棒状部材を
そのまま用いたために支持部材内の液の流れが極端に悪
くなって、水洗時に薬液を完全に除去できなかったため
である。
ートの接触部に液残りが生じた。これは中空棒状部材を
そのまま用いたために支持部材内の液の流れが極端に悪
くなって、水洗時に薬液を完全に除去できなかったため
である。
【００２３】さらに、支持部材が無垢棒の場合は、ウエ
ハ上のキズ及びダスト数において比較例１よりも劣るデ
ータが得られた。
ハ上のキズ及びダスト数において比較例１よりも劣るデ
ータが得られた。
【００２４】実施例２ 支持部材の材料となる中空棒状部材９の最適な切断位置
を調べる実験を行った。すなわち、図４に示すように、
２分割位置から半径に対して＋５０％〜−５０％の割合
で平行にずらした位置で中空棒状部材９を切断して支持
部材（実施例２−１〜２−６）を形成し、実施例１と同
様にしてキズ、異常拡散、ダスト数を調べた。切断位置
をずらす方向は、溝の方向を＋とし、反対の方向を−と
した。その結果を表２に示す。
を調べる実験を行った。すなわち、図４に示すように、
２分割位置から半径に対して＋５０％〜−５０％の割合
で平行にずらした位置で中空棒状部材９を切断して支持
部材（実施例２−１〜２−６）を形成し、実施例１と同
様にしてキズ、異常拡散、ダスト数を調べた。切断位置
をずらす方向は、溝の方向を＋とし、反対の方向を−と
した。その結果を表２に示す。
【００２５】
【表２】 この結果を見ると、切断位置を３５％以上−側にずらし
た場合には１〜２ケの異常拡散が生じることがわかる。
これは、支持部材の足（溝より下の部分）の長さが過度
に長いと不利になることを示している。
た場合には１〜２ケの異常拡散が生じることがわかる。
これは、支持部材の足（溝より下の部分）の長さが過度
に長いと不利になることを示している。
【００２６】支持部材の足が必要以上に長い場合には、
給液・給水時に下部からの流体の流れが直接溝部に当た
らず、洗浄効果が低下するのである。現在の石英ガラス
技術も考慮すれば、中空棒状部材は２分割中心位置より
も溝側に＋３５％〜０％ずれた位置でカットするのが望
ましい。これ以上溝に近い位置でカットすると強度が不
十分になる恐れがある。なお、実施例１におけるパイプ
の切断位置は＋３５％の位置であった。
給液・給水時に下部からの流体の流れが直接溝部に当た
らず、洗浄効果が低下するのである。現在の石英ガラス
技術も考慮すれば、中空棒状部材は２分割中心位置より
も溝側に＋３５％〜０％ずれた位置でカットするのが望
ましい。これ以上溝に近い位置でカットすると強度が不
十分になる恐れがある。なお、実施例１におけるパイプ
の切断位置は＋３５％の位置であった。
【００２７】
【発明の効果】本発明のウエハ洗浄装置用ウエハボート
においては、支持部材が中空棒状部材を軸方向に切断し
た形状を有しその凸面がウエハに対面するように配置さ
れていて、支持部材に設けた溝の底部が部分的に開放さ
れているので次の効果を得ることができる。
においては、支持部材が中空棒状部材を軸方向に切断し
た形状を有しその凸面がウエハに対面するように配置さ
れていて、支持部材に設けた溝の底部が部分的に開放さ
れているので次の効果を得ることができる。
【００２８】１）ウエハボートとの接触に起因するウエ
ハ表面のキズを小さくすることができる。
ハ表面のキズを小さくすることができる。
【００２９】２）ウエハボートと接触しているウエハ領
域付近の洗浄効果を高めることができる。
域付近の洗浄効果を高めることができる。
【００３０】３）ウエハボートの溝からのダストの付着
を減らすことができる。
を減らすことができる。
【００３１】４）ウエハボートを軽量にできるので取扱
性が向上する。
性が向上する。
【００３２】なお、本発明は前述の実施例に限定されな
い。例えば支持部材は３本に限らず、４本以上設けても
よい。特に、拡散にも用いるウエハボートの場合には下
部に２本以上の支持部材を配置するとよい。
い。例えば支持部材は３本に限らず、４本以上設けても
よい。特に、拡散にも用いるウエハボートの場合には下
部に２本以上の支持部材を配置するとよい。
【００３３】また、支持部材を連結するフレーム部材
は、図１に示すようなウエハ外径に沿ったほぼ同等のＲ
形状のものの他に、直線状の板材でも構わない。また、
これらは支持部材の全長に渡り形成してもよいが、ウエ
ハボートとして充分な強度が得られる程度に分割体とし
てもよい。
は、図１に示すようなウエハ外径に沿ったほぼ同等のＲ
形状のものの他に、直線状の板材でも構わない。また、
これらは支持部材の全長に渡り形成してもよいが、ウエ
ハボートとして充分な強度が得られる程度に分割体とし
てもよい。
【図１】本発明によるウエハ洗浄装置用ウエハボートを
示す断面図。
示す断面図。
【図２】図１の支持部材を示す拡大断面図。
【図３】支持部材の他の例を示す図２に相当する図。
【図４】本発明に用いる中空棒状部材の切断の仕方を示
すための断面図。
すための断面図。
【図５】図１のウエハ洗浄装置用ウエハボートの斜視
図。
図。
１ ウエハ １０ ウエハ洗浄装置用ウエハボート １１，２１ 支持部材 １２，２２ 溝 １２ａ，２２ａ 溝の底部 １３，２３ フレーム部材 ◆
Claims (1)
- 【請求項１】 支持部材に多数の溝を設け、この溝を利
用してウエハを積載する構成のウエハ洗浄装置用ウエハ
ボートにおいて、支持部材（１１，２１）が中空棒状部
材を軸方向に切断した形状を有し、その凸面がウエハ
（１）に対面するように配置されていて、支持部材（１
１，２１）に設けた溝（１２，２２）の底部が部分的に
開放されていることを特徴とするウエハ洗浄装置用ウエ
ハボート。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1585093A JPH06204195A (ja) | 1993-01-06 | 1993-01-06 | ウエハ洗浄装置用ウエハボート |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1585093A JPH06204195A (ja) | 1993-01-06 | 1993-01-06 | ウエハ洗浄装置用ウエハボート |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06204195A true JPH06204195A (ja) | 1994-07-22 |
Family
ID=11900299
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1585093A Pending JPH06204195A (ja) | 1993-01-06 | 1993-01-06 | ウエハ洗浄装置用ウエハボート |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06204195A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009099985A (ja) * | 2007-10-12 | 2009-05-07 | Semes Co Ltd | 基板保持ユニット及びこれを利用する基板処理装置 |
| WO2009107254A1 (ja) * | 2008-02-27 | 2009-09-03 | ミライアル株式会社 | 裏面支持構造付きウエハ収納容器 |
-
1993
- 1993-01-06 JP JP1585093A patent/JPH06204195A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009099985A (ja) * | 2007-10-12 | 2009-05-07 | Semes Co Ltd | 基板保持ユニット及びこれを利用する基板処理装置 |
| KR100921521B1 (ko) * | 2007-10-12 | 2009-10-12 | 세메스 주식회사 | 기판 지지 유닛 및 이를 이용한 기판 처리 장치 |
| US8123900B2 (en) * | 2007-10-12 | 2012-02-28 | Semes Co. Ltd. | Substrate supporting unit and apparatus for treating substrate using the substrate supporting unit |
| TWI384582B (zh) * | 2007-10-12 | 2013-02-01 | Semes Co Ltd | 基板支撐單元及其基板處理設備 |
| WO2009107254A1 (ja) * | 2008-02-27 | 2009-09-03 | ミライアル株式会社 | 裏面支持構造付きウエハ収納容器 |
| JP4896260B2 (ja) * | 2008-02-27 | 2012-03-14 | ミライアル株式会社 | 裏面支持構造付きウエハ収納容器 |
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