JPS61287253A - 半導体装置 - Google Patents

半導体装置

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JPS61287253A
JPS61287253A JP12813385A JP12813385A JPS61287253A JP S61287253 A JPS61287253 A JP S61287253A JP 12813385 A JP12813385 A JP 12813385A JP 12813385 A JP12813385 A JP 12813385A JP S61287253 A JPS61287253 A JP S61287253A
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JP
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hybrid
ceramic
cap
large scale
printed
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JP12813385A
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English (en)
Inventor
Sumio Hayashida
林田 純夫
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の、利用分野〕 本発明は混成ICK係り、特に配線の多層化と部品実装
密匿の向上に好適な大規模混成XCの構成法に関する。
〔発明の背景〕
従来の混成ICは、セラミック基板上に乾式厚膜技術に
より、配線導体、抵抗体等を印刷、焼成をくりかえすこ
とにより、多数個形成した抜IC,)ランジスタウコン
デンサ、ダイオード等の部品を搭載接続し、リード端子
を取り付けた後、外装コートを施して構成していた。こ
の場合、配線導体の多層化技術としては、厚膜導体を印
刷後、必要な部分に誘電体を印刷し、その上に上層の厚
膜導体を印刷し一体焼成して構成するいわゆるクロスオ
ーバ技術が一般的である。この方法をくりかえすことに
より、原理的には何層でも可能であることが知られてい
る。
(電子通信学会編、オーム社発行第1版第6刷電子通信
ハンドブック、第2群、第9編、第2部門混成、膜集積
回路の580頁−594頁)ところが、実際の製造にお
いては、クロスオーバ部の段差により印刷時のにじみや
、誘電体1内部のピンホールなどが発生し、歩留低下、
信頼性の低下などより、導体2層か多くても3層くらい
が限度であった。またクロスオーバ部は原理的にコンデ
ンサを形成しているため、浮遊容量による高周波特性に
問題を起す場合がありこの点でも導体多層に制限があっ
た。また導体抵抗体の形成、部品搭載のベースは、セラ
ミック基板のみであるため、そこに実装可能な面積以上
には高密度化出来ないと云う欠点があった。
一方フレ中シプル基板については電子材料1983年1
0月号90頁〜94頁で角橋、田原他により「薄膜抵抗
体付プリント配線板」と題する論文により論じられてい
るが、これと混成IC又は膜IC2配線基板、セラミッ
クパッケージなどと組合せて高密度実装法に適用するこ
とについては認識していない。
〔発明の目的〕
本発明の目的は、導体配線層を増加させ、合わせて部品
実装密度の向上に好適な大規模混成ICの構成法を提供
することにある。
〔発明の概要〕
本発明は上記目的を達成するため、湿式厚膜技術により
導体を形成したセラミックパッケージと、外装コートの
代替えとして、同じく湿式厚膜技術によりその内面に導
体を形成しであるセラミックキャップを導入し、これら
の両方に部品を搭載した後、導体配線や、必要により抵
抗体を膜形成したフレキシブル基板により、相互を接続
させることによって、大規模な混成ICを実現させよう
とするものである。
〔発明の実施例〕
以下本発明の実施例を第1図により説明する。
グリーンシート上にタングステン導体を印刷。
乾燥後必要な部分にスルーホール用の穴をあけたアルミ
なペーストを絶縁層として印刷、乾燥する。次に第2層
目のタングステン導体を印刷乾燥後、再度、絶縁用のア
ルミナペーストを印刷、乾燥する。これを必要層数繰り
返した後、一体焼成して成るいわゆる湿式厚膜技術によ
るセラミックパッケージ1上にIC、LSI等の搭載部
品6,4をワイヤボンディング又は半田付けし、小規模
の混成ICとする。次に、同じく湿式厚膜技術により形
成したセラミックキャップ5上に搭載部品6,7.B、
9を半田付は又はワイヤボンディング等で接続し第2の
小規模混成ICとする。これらの小規模混成IC相互の
適当な電極に導体配線や必要に応じ抵抗を膜形成したフ
レキシブル基板の電極を正確に位置合せしたのち、熱圧
着または、微細半田接続等により接続する。その後セラ
ミックパッケージとキャップを接着剤又は低融点ガラス
等で接着封止し、大規模混成ICとする。
[発明の効果] 本発明によれば、セラミックパッケージ上でのクロスオ
ーバとキャップ上でのクロスオーバがフレキシブル基板
で接続されることにより、より一層の多層化が可能とな
る。又キャップ上にも部品を搭載することが可能なため
1部品実装密度が大幅に向上し、大規模混成ICを容易
に構成することが出来るし、構造が気密形の一体構造と
なるため、特別の外装コートが不要となるなどの効果が
ある。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例の大規模混成ICの一例を示
す斜視図である。 1・・・セラミックパッケージ 2・・・リード端子 5・・セラミックキャップ 10・・・フレキシブル基板。 、+−1− 、l −八 〜1.′

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1、導体配線を膜形成し、IC、LSI等を搭載して成
    るセラミックパッケージと、内面に導体配線を膜形成し
    、チップ抵抗、チップコンデンサ、トランジスタ等を搭
    載して成るセラミックキャップで構成される混成ICに
    於いて、導体配線や、必要に応じ抵抗体を膜形成したフ
    レキシブル基板によりセラミックパッケージとセラミッ
    クキャップとを電気的に接続したことを特徴とする半導
    体装置。
JP12813385A 1985-06-14 1985-06-14 半導体装置 Pending JPS61287253A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1506568A2 (en) * 2002-04-29 2005-02-16 Silicon Pipe, Inc. Direct-connect signaling system

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1506568A2 (en) * 2002-04-29 2005-02-16 Silicon Pipe, Inc. Direct-connect signaling system
EP1506568A4 (en) * 2002-04-29 2008-09-24 Silicon Pipe Inc SIGNALING SYSTEM DIRECT CONNECTION
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