JPH08191186A - 多層配線基板 - Google Patents
多層配線基板Info
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- JPH08191186A JPH08191186A JP7002224A JP222495A JPH08191186A JP H08191186 A JPH08191186 A JP H08191186A JP 7002224 A JP7002224 A JP 7002224A JP 222495 A JP222495 A JP 222495A JP H08191186 A JPH08191186 A JP H08191186A
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- wiring board
- substrate
- electronic component
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- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
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- H01L2924/191—Disposition
- H01L2924/19101—Disposition of discrete passive components
- H01L2924/19105—Disposition of discrete passive components in a side-by-side arrangement on a common die mounting substrate
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- H01L2924/19106—Disposition of discrete passive components in a mirrored arrangement on two different side of a common die mounting substrate
Landscapes
- Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 多層配線基板の電子部品の実装密度を上げる
ことを目的としており、特に、多層配線基板の裏面に電
子部品を実装しない場合にも、実装密度を上げることを
目的としている。 【構成】 多層配線基板9の側面に電子部品10を実装
するための実装凹部11を設けること等により、多層配
線基板9の側面にも電子部品10を実装可能としたこと
を特徴とする。
ことを目的としており、特に、多層配線基板の裏面に電
子部品を実装しない場合にも、実装密度を上げることを
目的としている。 【構成】 多層配線基板9の側面に電子部品10を実装
するための実装凹部11を設けること等により、多層配
線基板9の側面にも電子部品10を実装可能としたこと
を特徴とする。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、電子部品を実装する
多層配線基板に係り、特に側面に電子部品を実装するこ
とができる多層配線基板に関する。
多層配線基板に係り、特に側面に電子部品を実装するこ
とができる多層配線基板に関する。
【0002】
【従来の技術】図5は従来例の説明図である。この図に
示すように、従来、高密度実装の方法としては、多層配
線基板である基板1の両面に電子部品であるベアチップ
2、コンデンサ3あるいは抵抗4等を搭載し、封止樹脂
5により適宜封止することが行われていた。
示すように、従来、高密度実装の方法としては、多層配
線基板である基板1の両面に電子部品であるベアチップ
2、コンデンサ3あるいは抵抗4等を搭載し、封止樹脂
5により適宜封止することが行われていた。
【0003】図では、表面にベアチップ2を搭載し、裏
面にコンデンサ3あるいは抵抗4等を搭載し、封止樹脂
5により表面を封止した状態を表している。なお、外部
との接続はリード端子6によって行われている。また、
近年では高速高密度実装の主流としてマルチ・チップ・
モジュール(Multi Chip Module 以下MCMと略記す
る。)が開発され、その中でもセラミック基板を用いた
MCMであるMCM−Cが、高速高密度実装の実現性に
優れ、比較的安価に作成することが可能とされるため注
目されている。
面にコンデンサ3あるいは抵抗4等を搭載し、封止樹脂
5により表面を封止した状態を表している。なお、外部
との接続はリード端子6によって行われている。また、
近年では高速高密度実装の主流としてマルチ・チップ・
モジュール(Multi Chip Module 以下MCMと略記す
る。)が開発され、その中でもセラミック基板を用いた
MCMであるMCM−Cが、高速高密度実装の実現性に
優れ、比較的安価に作成することが可能とされるため注
目されている。
【0004】MCMはその特性上、ワークステーション
の中枢部等に用いられることが多く、I/O数として2
00pinから1000pin以上という多くのpin
数が要求される。この要求を満たすための一手段として
ボール・グリッド・アレイ(Ball Grid Array 以下BG
Aと略記する。)が用いられている。図6はBGAを用
いたMCM−Cの説明図である。図において、7は多層
配線基板であるセラミック基板であり、LTCCやHT
CC等を用いたものである。このセラミック基板7の表
面にベアチップ2、コンデンサ3あるいは抵抗4等を搭
載し、それらを封止樹脂5にて封止する。セラミック基
板7の裏面は図示しないマザー基板とのコンタクトを目
的としたボール半田8が付与されている。
の中枢部等に用いられることが多く、I/O数として2
00pinから1000pin以上という多くのpin
数が要求される。この要求を満たすための一手段として
ボール・グリッド・アレイ(Ball Grid Array 以下BG
Aと略記する。)が用いられている。図6はBGAを用
いたMCM−Cの説明図である。図において、7は多層
配線基板であるセラミック基板であり、LTCCやHT
CC等を用いたものである。このセラミック基板7の表
面にベアチップ2、コンデンサ3あるいは抵抗4等を搭
載し、それらを封止樹脂5にて封止する。セラミック基
板7の裏面は図示しないマザー基板とのコンタクトを目
的としたボール半田8が付与されている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかし、裏面に電子部
品を実装できない場合、特に、裏面にI/O用のボール
半田を付けるBGAを使用した場合、部品は全て表面に
搭載されている。このように、両面実装が不可能な場
合、多層基板を用いているにもかかわらず、高密度実装
に限界があった。
品を実装できない場合、特に、裏面にI/O用のボール
半田を付けるBGAを使用した場合、部品は全て表面に
搭載されている。このように、両面実装が不可能な場
合、多層基板を用いているにもかかわらず、高密度実装
に限界があった。
【0006】また、ベアチップとコンデンサや抵抗等の
チップ部品が同一面に密集して搭載されるため、以下の
問題が生じることとなる。 1.チップ部品への半田供給が困難となる。 2.樹脂封止前の洗浄ができない。これは、ワイヤーボ
ンディング後のワイヤーに、洗浄によるダメージを与え
るためである。
チップ部品が同一面に密集して搭載されるため、以下の
問題が生じることとなる。 1.チップ部品への半田供給が困難となる。 2.樹脂封止前の洗浄ができない。これは、ワイヤーボ
ンディング後のワイヤーに、洗浄によるダメージを与え
るためである。
【0007】3.樹脂封止エリア内にチップ部品が搭載
されていることにより、フラックスが樹脂に与える影響
を考慮すると無洗浄が望ましいが困難である。
されていることにより、フラックスが樹脂に与える影響
を考慮すると無洗浄が望ましいが困難である。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明は、電子部品を実
装する多層配線基板において、その側面にも電子部品を
実装可能としたことを特徴とする。
装する多層配線基板において、その側面にも電子部品を
実装可能としたことを特徴とする。
【0009】
【作用】電子部品を実装する多層配線基板の表面だけに
ではなく、側面にも電子部品の実装を行う。この多層配
線基板の側面に設けた実装凹部に電子部品を搭載し、電
気的接続を施して実装する。
ではなく、側面にも電子部品の実装を行う。この多層配
線基板の側面に設けた実装凹部に電子部品を搭載し、電
気的接続を施して実装する。
【0010】
【実施例】以下に本発明の実施例を図を用いて説明す
る。図1は実施例の説明図である。図において、9は基
板を示している。これはシートを積層して形成した多層
配線基板であり、例えばガラスセラミックシートを用い
たLTCC基板等を用いるが、これに限定されることな
く、HTCC基板を用いてもよく、セラミック基板以外
でもガラスエポキシ樹脂系のもの等様々な材料により構
成することができる。
る。図1は実施例の説明図である。図において、9は基
板を示している。これはシートを積層して形成した多層
配線基板であり、例えばガラスセラミックシートを用い
たLTCC基板等を用いるが、これに限定されることな
く、HTCC基板を用いてもよく、セラミック基板以外
でもガラスエポキシ樹脂系のもの等様々な材料により構
成することができる。
【0011】なお、上記LTCC基板は、よく知られて
いるように、比較的低温で同時焼成することを特徴とす
るセラミック基板であり、HTCCは比較的高温で同時
焼成することを特徴とするセラミック基板である。基板
9の表面に、ベアチップ2をダイスボンディングし、ワ
イヤーボンディングを行った後に、このベアチップ2を
封止樹脂5により封止する。
いるように、比較的低温で同時焼成することを特徴とす
るセラミック基板であり、HTCCは比較的高温で同時
焼成することを特徴とするセラミック基板である。基板
9の表面に、ベアチップ2をダイスボンディングし、ワ
イヤーボンディングを行った後に、このベアチップ2を
封止樹脂5により封止する。
【0012】この基板9を図示しないマザー基板に接続
するために、例えば高速高密度実装を行うMCM等であ
る場合、多くのI/O数が要求されるために、ボール・
グリッド・アレイ(Ball Grid Array 以下BGAと略記
する。)を用いることが多い。本実施例の基板9の裏面
には、上記のBGA技術として知られる通常の方法によ
り形成されたボール半田8が装着されている。このボー
ル半田8により、前記基板9はマザー基板と接続するこ
とになる。なお、本実施例ではBGAを用いているが、
他の接続手段を用いることとしても同様に本発明を適用
することができる。
するために、例えば高速高密度実装を行うMCM等であ
る場合、多くのI/O数が要求されるために、ボール・
グリッド・アレイ(Ball Grid Array 以下BGAと略記
する。)を用いることが多い。本実施例の基板9の裏面
には、上記のBGA技術として知られる通常の方法によ
り形成されたボール半田8が装着されている。このボー
ル半田8により、前記基板9はマザー基板と接続するこ
とになる。なお、本実施例ではBGAを用いているが、
他の接続手段を用いることとしても同様に本発明を適用
することができる。
【0013】基板9の側面には、例えばチップコンデン
サやチップ抵抗等のチップ部品である電子部品10を実
装するための実装凹部11を形成する。図2は実装凹部
の説明図である。上記実装凹部11は、基板9を作成す
る際に、上層12と下層13に挟まれた中層14の部分
に切り欠きを設けておくことにより形成される。
サやチップ抵抗等のチップ部品である電子部品10を実
装するための実装凹部11を形成する。図2は実装凹部
の説明図である。上記実装凹部11は、基板9を作成す
る際に、上層12と下層13に挟まれた中層14の部分
に切り欠きを設けておくことにより形成される。
【0014】例えば、実装する電子部品10を1005
タイプのチップコンデンサやチップ抵抗とし、基板9を
100μm厚のガラスセラミックグリーンシートを用い
たLTCC基板とした場合には、上層部12および下層
部13をそれぞれ2層とし、中層部14を12層とする
とよい。また、この基板9を、例えば200μm厚のア
ルミナグリーンシートを用いたHTCC基板とした場合
には、上層部12および下層部13をそれぞれ1層と
し、中層部14を6層に設定するとよい。
タイプのチップコンデンサやチップ抵抗とし、基板9を
100μm厚のガラスセラミックグリーンシートを用い
たLTCC基板とした場合には、上層部12および下層
部13をそれぞれ2層とし、中層部14を12層とする
とよい。また、この基板9を、例えば200μm厚のア
ルミナグリーンシートを用いたHTCC基板とした場合
には、上層部12および下層部13をそれぞれ1層と
し、中層部14を6層に設定するとよい。
【0015】なお、積層する枚数は実装する部品のサイ
ズやグリーンシート厚等により最適値が異なり、上記の
例以外の材質および積層数として基板9を形成可能であ
ることはいうまでもない。また、LTCCやHTCC基
板等は通常の製造工程により製造すればよい。上記の実
装凹部11の上層部12側の面および下層部13側の面
にはそれぞれ電極15が設けてあり、この一対の電極1
5に、搭載したチップ部品等の電子部品10を半田16
によって電気的に接続する。
ズやグリーンシート厚等により最適値が異なり、上記の
例以外の材質および積層数として基板9を形成可能であ
ることはいうまでもない。また、LTCCやHTCC基
板等は通常の製造工程により製造すればよい。上記の実
装凹部11の上層部12側の面および下層部13側の面
にはそれぞれ電極15が設けてあり、この一対の電極1
5に、搭載したチップ部品等の電子部品10を半田16
によって電気的に接続する。
【0016】図3は実装凹部の作成手順の説明図であ
る。実装しようとする電子部品10の大きさや形状およ
び基板形成のために使用するシート17であるグリーン
シートの材質や厚さ等を考慮して、上層部12、中層部
14および下層部13に用いるグリーンシートの枚数を
設定する。積層するシートの中層部14に当たるものに
は、そのシート17の同一箇所に切り欠き18を設けて
おき、積層時に、上記の実装凹部11が形成されるよう
にする。
る。実装しようとする電子部品10の大きさや形状およ
び基板形成のために使用するシート17であるグリーン
シートの材質や厚さ等を考慮して、上層部12、中層部
14および下層部13に用いるグリーンシートの枚数を
設定する。積層するシートの中層部14に当たるものに
は、そのシート17の同一箇所に切り欠き18を設けて
おき、積層時に、上記の実装凹部11が形成されるよう
にする。
【0017】なお、実装凹部11は必要な数だけ設ける
こととすればよく、その各実装凹部11に対応させてシ
ート17に切り欠き18を設ける。このように積層した
グリーンシート17を通常の方法により基板9として形
成する。例えばセラミック基板による多層配線基板は、
印刷等により配線を施したシート17の各層を積層して
焼成することにより形成するが、ガラスエポキシ樹脂系
の基板等は各層を貼り付けることにより形成する。
こととすればよく、その各実装凹部11に対応させてシ
ート17に切り欠き18を設ける。このように積層した
グリーンシート17を通常の方法により基板9として形
成する。例えばセラミック基板による多層配線基板は、
印刷等により配線を施したシート17の各層を積層して
焼成することにより形成するが、ガラスエポキシ樹脂系
の基板等は各層を貼り付けることにより形成する。
【0018】図4は実装工程の説明図である。この図
は、実装凹部11に電子部品10を実装する手順の一例
を示すものである。図4の(a)に示すように、基板9
の実装凹部11には前記の電極15が設けてあり、この
電極15によって電気的接続を得るものである。図4の
(b)において、19は熱硬化性接着剤であり、基板9
に設けた実装凹部11の中層部14の側に塗布する。
は、実装凹部11に電子部品10を実装する手順の一例
を示すものである。図4の(a)に示すように、基板9
の実装凹部11には前記の電極15が設けてあり、この
電極15によって電気的接続を得るものである。図4の
(b)において、19は熱硬化性接着剤であり、基板9
に設けた実装凹部11の中層部14の側に塗布する。
【0019】次に、図4の(c)に示す如く、電子部品
10を位置合わせを行って搭載し、加熱して硬化させ
る。そして、例えばフロー半田槽を利用する方法等によ
り半田付けを行い、電子部品10と電極15を半田16
によって電気的に接続する。図4の(d)は半田付けを
施した後の状態を示している。
10を位置合わせを行って搭載し、加熱して硬化させ
る。そして、例えばフロー半田槽を利用する方法等によ
り半田付けを行い、電子部品10と電極15を半田16
によって電気的に接続する。図4の(d)は半田付けを
施した後の状態を示している。
【0020】なお、導電方法は上記の半田付けによる方
法以外にも、Ag,Auペーストを使用する方法等があ
る。また、電子部品10の固定方法も、実装凹部11に
正しく固定される方法であればどのような方法としても
よく、接着剤を使用しない場合もあり、実装方法は上記
説明の工程に限定されるものではない。上述のように、
基板9の側面に実装凹部11を設け、ベアチップ2の搭
載面とは別にチップ部品等の電子部品10を搭載するこ
とにより、片面実装に比べて実装密度を上げることが可
能となるとともに、裏面にBGAを用いることもでき
る。
法以外にも、Ag,Auペーストを使用する方法等があ
る。また、電子部品10の固定方法も、実装凹部11に
正しく固定される方法であればどのような方法としても
よく、接着剤を使用しない場合もあり、実装方法は上記
説明の工程に限定されるものではない。上述のように、
基板9の側面に実装凹部11を設け、ベアチップ2の搭
載面とは別にチップ部品等の電子部品10を搭載するこ
とにより、片面実装に比べて実装密度を上げることが可
能となるとともに、裏面にBGAを用いることもでき
る。
【0021】また、ベアチップ2の搭載面と、チップ部
品等の電子部品10の搭載部とを分けたことにより、ワ
イヤーボンディング後のベアチップ2を、チップ部品の
搭載前に樹脂で封止することができ、チップ部品搭載時
の取り扱いが容易となり、チップ部品搭載後の洗浄を容
易に行うことができる。さらに、チップ部品等の電子部
品10を基板側面に搭載することにより、半田供給が容
易になる。
品等の電子部品10の搭載部とを分けたことにより、ワ
イヤーボンディング後のベアチップ2を、チップ部品の
搭載前に樹脂で封止することができ、チップ部品搭載時
の取り扱いが容易となり、チップ部品搭載後の洗浄を容
易に行うことができる。さらに、チップ部品等の電子部
品10を基板側面に搭載することにより、半田供給が容
易になる。
【0022】また、樹脂封止エリア内にチップ部品を搭
載しないことにより、無洗浄工程を想定した場合、フラ
ックスが樹脂に与える影響がなくなる。
載しないことにより、無洗浄工程を想定した場合、フラ
ックスが樹脂に与える影響がなくなる。
【0023】
【発明の効果】以上詳細に説明したように、基板の側面
に実装凹部を設け、ベアチップの搭載面以外にチップ部
品等の電子部品を搭載することにより、実装密度を上げ
ることが可能となる効果を有する。また、ベアチップの
搭載面と、チップ部品等の電子部品の搭載部とを分けた
ことにより、ワイヤーボンディング後のベアチップを、
チップ部品の搭載前に樹脂で封止することができ、チッ
プ部品搭載時の取り扱いが容易となり、チップ部品等の
電子部品搭載後の洗浄を容易に行うことができる効果を
有する。
に実装凹部を設け、ベアチップの搭載面以外にチップ部
品等の電子部品を搭載することにより、実装密度を上げ
ることが可能となる効果を有する。また、ベアチップの
搭載面と、チップ部品等の電子部品の搭載部とを分けた
ことにより、ワイヤーボンディング後のベアチップを、
チップ部品の搭載前に樹脂で封止することができ、チッ
プ部品搭載時の取り扱いが容易となり、チップ部品等の
電子部品搭載後の洗浄を容易に行うことができる効果を
有する。
【0024】さらに、電子部品を基板側面に搭載するこ
とにより、半田供給が容易になる効果を有する。
とにより、半田供給が容易になる効果を有する。
【図1】実施例の説明図
【図2】実装凹部の説明図
【図3】実装凹部の作成手順の説明図
【図4】実装工程の説明図
【図5】従来例の説明図
【図6】BGAを用いたMCM−Cの説明図
9 基板 10 電子部品 11 実装凹部 12 上層部 13 下層部 14 中層部 17 シート 18 切り欠き
Claims (5)
- 【請求項1】 側面に電子部品を実装可能としたことを
特徴とする多層配線基板。 - 【請求項2】 請求項1において、側面に電子部品を実
装するための実装凹部を設けたことを特徴とする多層配
線基板。 - 【請求項3】 請求項1および請求項2において、表面
にベアチップを実装可能とし、側面にチップ部品を実装
可能としたことを特徴とする多層配線基板。 - 【請求項4】 請求項1、請求項2および請求項3にお
いて、裏面にマザー基板と接続するためのボール半田を
有することを特徴とする多層配線基板。 - 【請求項5】 表面に電子部品を実装可能で、複数枚の
シートを積層して形成した多層配線基板において、 複数のシートの同一箇所に切り欠きを設けて積層させて
中層部と成し、上層部を構成するシートおよび下層部を
構成するシートによってその中層部を挟むことにより側
面に電子部品を実装するための実装凹部を形成したこと
を特徴とする多層配線基板。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7002224A JPH08191186A (ja) | 1995-01-10 | 1995-01-10 | 多層配線基板 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7002224A JPH08191186A (ja) | 1995-01-10 | 1995-01-10 | 多層配線基板 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH08191186A true JPH08191186A (ja) | 1996-07-23 |
Family
ID=11523391
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7002224A Pending JPH08191186A (ja) | 1995-01-10 | 1995-01-10 | 多層配線基板 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH08191186A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005322744A (ja) * | 2004-05-07 | 2005-11-17 | Murata Mfg Co Ltd | セラミック多層基板およびその製造方法 |
JP2007208294A (ja) * | 2007-04-27 | 2007-08-16 | Hitachi Ltd | Rfidタグ付きプリント基板 |
JP2012064592A (ja) * | 2005-12-23 | 2012-03-29 | Osram Ag | 高電圧パルス発生器、点弧装置および高圧放電ランプ |
JP2013098529A (ja) * | 2011-10-27 | 2013-05-20 | Samsung Electro-Mechanics Co Ltd | 電子部品埋込み型印刷回路基板及びその製造方法 |
JP2016162939A (ja) * | 2015-03-03 | 2016-09-05 | オムロン株式会社 | 立体回路構造体 |
US11570897B2 (en) | 2017-08-04 | 2023-01-31 | At&S Austria Technologie & Systemtechnik Aktiengesellschaft | Component embedded in component carrier and having an exposed side wall |
-
1995
- 1995-01-10 JP JP7002224A patent/JPH08191186A/ja active Pending
Cited By (10)
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