JPS61287016A - 磁気ヘツド - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［技術分野］ 本発明は磁気ヘッドに係り、さらに詳しくはＶＴＲ等の
高密度記録磁性媒体に対する記録再生を行なうための磁
気ヘッドに関するものである。

［従来技術］ 高密度の磁気記録、再生を行なうために、ビデオディス
クやビデオテープの材料として高保磁力の素材が用いら
れている。

このような高保磁力の磁気記録媒体に磁気記録、再生を
行なうための磁気ヘッドの素材としては飽和磁束密度の
大きな１例えばセンダスト等の合金が用いられる。

このような磁性合金を用いた磁気コアは例えば非磁性基
板の側面にスパッタリング等の薄膜堆積法によって形成
される。

しかし、このような金属磁性膜を形成すると渦電流損失
が生じ、高周波特性が低下する。詳述すれば渦電流損失
による高周波慴域における実効透磁率の低下が生じてし
まう。

そこで、薄膜磁性層を５ｉ０２やＡ　ｊｌ　２０　Ａ絶
縁層を介して積層し、渦電流損失を減少させる構造の磁
気ヘッドが提案された。

このような構造の磁気ヘッドの一例についてその製造工
程を第１図（Ａ）〜（Ｅ）に示す。

第１図（Ａ）において符号１で示すものは非磁性基板で
、その一方の側面にはセンダストやパーマロイ等からな
る軟磁性層２が５ｉ０２やＡｊ１２０３等の絶縁層３を
介して積層される（第１図（Ｂ））。

これらの層を形成した後その上側に補強板を重ねるか、
あるいは重ねずに第１図（Ｃ）、（Ｄ）に示すように鎖
線１の部分から左右２つの磁気コア半休１ａ、ｌａに分
割し、一方のコア半体１ａに巻線溝１ｂを形成する。

そして、各々ヘア半体１ａ、ｌａに巻線翻を施し、これ
らを突き合わせて第１１（Ｅ）に示すように磁気コア素
体ＩＣを形成する。

コア半休の突き合わせ、接合には低融点ガラス等の接着
剤が用いられる。

符号５で示すものはギャップ材料である。

このようにして得られた磁気ヘッドは前述したように高
保磁力の記録媒体に対して磁気記録再生を行なうのに適
するが１次のような欠点が生じる。

即ち、左右のコア半休を接合する時点において理想的に
は第２図に示すように薄膜磁性層（軟磁性層）２と絶縁
層３が同一平面内に配列されるが、実際には突き合せ位
置の精度の限界によりずれが生じてしまう。

なお、第２図においてＷｌは磁性薄膜の厚み。

Ｗ２は絶縁層の厚みを示す。

第３図は左右のコア半休の各々の層がずれてしまった状
態を示す。

第３図において磁性薄膜２の厚みＷｌをｌＯｐＬｍ、絶
縁層３の厚みＷ２をｌｐｍとし、左右の暦の間にｌＩＬ
ｍのずれが発生した場合、一方のコア半休のトラック幅
Ｗ３は３２ＪＬｍであるのが、突き合わせずれのため有
効トラック幅Ｗ４は３１１Ｌｍとなってしまう。

この時、トラック幅３１１Ｌｍのうち、磁気記録、再生
に関与しないデッドスペースはＷＩＸ４＝４１Ｌｍとな
る。

そして、このように磁性薄膜と絶縁層とがずれた状態の
磁気ヘッドを用いて再生した場合、上述したようにデッ
ドスペースが４ｐｍあるため、最悪の場合、トラック幅
３１ｐｍのうち、８ＩＬｍのデッドスペースが発生して
しまう。

従って、このデッドスペースによる出力減少は−２，８
ｄＢに達する。

なお、図示の例にあっては磁性薄膜は３層であるが、こ
の総数が増加すればデッドスペースはさらに増加し、出
力減少がさらに増大する。

［目　的］ 本発明は以上のような従来の欠点を除去するために成さ
れたもので、渦電流損失がなくかつ磁性薄膜のずれによ
る磁気不感部分を減少させ、磁気記録、再生の効率を向
上させることができるように構成した磁気ヘッドを提供
することを目的としている。

［実施例］ 以下、図面に示す実施値に基づいて本発明の詳細な説明
する。

第４図（Ａ）〜（Ｅ）は本発明の一実施例を説明するも
ので、製造工程の各段階が示されている。

第４図（Ａ）に示すように結晶化ガラス等からなる非磁
性基板ｌを用意し、この一方の側面に第４図（Ｂ）に示
すようにセンダスト等の磁性薄膜２をスパッタリング等
の薄膜堆積法により形成する。

続いて第４図（Ｃ）に示すように磁性薄膜２上に比抵抗
の高い層、即ち高比抵抗層素材６を形成する。

この高比抵抗層素材６を形成するにはまずターゲットと
してＮｉ、Ｆｅ、Ｚｎ合金を用いてアルゴン−酸、素の
雰囲気（Ａｌ１７０％、０２３０％）中で反応性スパッ
タリングを行ない、磁性薄膜２上にＮｉＯ，ＺｎＯ，Ｆ
ｅ２Ｏ３、Ｆｅ３Ｏ４からなる暦を形成する。

続いて、今度は窒素雰囲気中で酸素濃度を適当に制御し
ながら７００℃以上例えば７５０℃に加熱。

保持することによりＮ１ｘＺｎｌ−ｘＦｅ２０４の組成
をもつＮｉ−Ｚｎフェライトの高比抵抗層７を形成する
。

この工程が第４図ＣＤ）に示す工程である。

なお、Ｎｉ−Ｚｎフェライトの高比抵抗層７はターゲッ
トの組成、熱処理条件を適当に制御することにより、ホ
ットプレスさ令たＮｉ−Ｚｎフェライトと同程度の磁気
特性を有するものとすることができる。

また、Ｎｉ−Ｚｎフェライトの磁性薄膜の非抵信 抗のターゲットの組成、熱処理条件等によりコントロー
ルすることができる。

続いて第４図（Ｂ）〜（Ｄ）に示す工程を繰り返し薄膜
磁性層２と高比抵抗層７とを複数層形成し、第４図（Ｅ
）に示すような磁気コアブロック８を得る。

第１表にセンダストとＮ１−Ｚｎフェライトの各々の薄
膜の磁気特性を示す。

第１表 このようにして得られた磁気コアブロックを従来と同様
に左右１組の磁気コア半休とし、巻線溝を形成し、ギャ
ップ材料を介して両者を接合し磁気ヘッド素体とする。

このような構造を採用した場合、Ｎｉ−Ｚｎフェライト
の電気比抵抗は、１０３〜１０’「ΩｃｍＪ程度あり、
十分にセンダストからなる渦電流損失を防止することが
できる。

しかし、磁気記録媒体としてメタルテープ等の高抗磁力
のものを用いた場合Ｎｉ−Ｚｎフェライトでは飽和磁束
密度が小さく、記録ができないために記録時にデッドス
ペースが生じるが、再生時においてはＮｉ−Ｚｎフェラ
イトでも再生を行なうことができる。

従って、少なくとも再生時におけるデッドスペースをな
くすことができ、記録時においてのみのデッドスペース
分に磁気不感部を縮小させ、再生出力の減少を半分に押
えることができる。

なお、上述した実施例にあっては高比抵抗の層の材質と
してＮｉ−Ｚｎフェライトを用いたが高比抵抗の材質で
、かつ磁性材であるならば比抵抗が１０３「Ωｃ＋ｍＪ
以上のものであることを条件に採用することができる。

また、ＶＴ’Ｒ用の磁気ヘッドとしてばかりではなく磁
気ディスク用の磁気ヘッドとしても適用することができ
ることはもちろんである。

［効　果］ 以上の説明から明らかなように、本発明によれば、低比
抵抗軟磁性薄膜と高比抵抗軟磁性薄膜を交互に積層して
構成した積層膜を磁気コア材として用いているため、電
気比抵抗が小さい軟磁性薄膜の渦電流損失を減少させる
ことができ、磁気記録媒体の抗磁力が小さければ記録、
再生時における磁気ヘッドのデッドスペースをなくすこ
とができる。

また、磁気記録媒体の抗磁力が大きい場合には磁気ヘッ
ドの再生時のデッドスペースをなくすことができ、磁気
ヘッドの記録、再生特性の向上を図ることができる。

【図面の簡単な説明】

第１図〜第３図は従来構造を説明するもので第１図（Ａ
）〜（Ｅ）は製造工程を説明する斜視図、第２図は薄膜
磁性層と絶縁層とが正しく対向した状態を説明する正面
図、第３図は薄膜磁性層と絶縁層とがずれた状態の正面
図、第４図（Ａ）〜（Ｅ）は本発明の一実施例を説明す
る製造工程図である。 １・・・非磁性基板　　　２・・・薄膜磁性層３・・・
絶縁層　　　　　４・・・巻線５・・・ギャップ材料　
　６・・・高比抵抗層素材７・・・高比抵抗層　　　８
・・・磁気コアブロック第１図（Ａ） 第１１１（Ｄ） 第１図（Ｅ） 第２図 第３図 第４図 （Ａ） （Ｅ） 手続補正書（圃 昭和６０年　８月１４！日

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １）低比抵抗の軟磁性膜と、高比抵抗の軟磁性膜とを交
   互に積層した積層膜を磁気コア材として用いたことを特
   徴とする磁気ヘッド。 ２）低比抵抗の軟磁性膜の比抵抗は１００μΩｃｍ以下
   とし、高比抵抗の軟磁性膜の比抵抗は１０＾３Ωｃｍ以
   上としたことを特徴とする特許請求の範囲第１項に記載
   の磁気ヘッド。