JPS61285402A - カラ−フイルタ−およびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、カラー液晶表示素子、カラー固体撮像素子な
どにおいて、色分解のために使用されるカラーフィルタ
ーおよびその製造方法に関する。

〔従来の技術〕

従来のこの種のカラーフィルターとしては、通常、三原
色からなる複数の染色層を積層して構成される多層型の
ものが知られている。この多層型カラーフィルターは、
一般的に次の（イ）〜（ニ）の工程によって製造される
。

（イ）基板上に、ゼラチン、カゼイン、グリュ−などの
染料受容物質に重クロム酸アンモニウムなどの感光剤を
加えた液体を塗布して感光性を有する染料受容層を形成
し、ついでこの染料受容層をフォトリソグラフィー技術
を用いて所定のパターンに形成する。

（ロ）パターニングされた染料受容層を所定の分光特性
を有する染料によって染色し、第１の染色層を形成する
。

（ハ）第１の染色層の表面全体に、染料によって染色さ
れることのない無色透明な防染膜を形成する。

（ニ）上記（イ）〜（ハ）と同様な工程を繰り返すこと
により、第１の染色層部分以外の部分に第２および第３
の染色層を形成する。

しかし、このような多層型カラーフィルターの製造方法
においては、各染色層の間に防染膜を介在させる必要が
あることから、これら染色層はそれぞれ異なったレベル
に位置し、そのため視差ズレを生じ、染料受容層のパタ
ーニング時における露光を各層において高い精度で行う
ことが困難となり、染色層の色パターンが不鮮明になり
やすいという問題がある。また、この製造方法によって
得られたカラーフィルターは、染色層と防染膜とが交互
に積層された多層構造をなしているので、染色層と防染
膜との間あるいは防染膜と防染膜との間において接着不
良を生じやすく、信頬性が不十分となる問題を有してい
る。

このような多層型カラーフィルターに関する問題点を解
決するものとして、特開昭５９−１７５１２号公報にお
いて、単層構造の染色層を有するカラーフィルターが開
示されている。この単層型カラーフィルターの染色層は
次の（イ）°〜（ニ）゛の工程によって製造される。

（イ）°染料受容層の表面にレジスト層を形成し、フォ
トリソグラフィー技術によって所定のパターンを有する
レジストパターン層を形成する。

（ロ）°染色浴に含まれる所定の分光特性を有する染料
を染料受容層に吸収させてこれを染色し、上記レジスト
パターン層形成部以外の染料受容層が染色された第１の
色パターンを形成する。

（ハ）°　レジストパターン層を染料受容層から剥離す
る。

（ニ）°上記（イ）°〜（ハ）゛　と同様な工程を繰り
返すことにより、第１の色パターン部以外の染料受容層
にさらに第２および第３の色パターンを順次形成する。

しかし、このような単層型カラーフィルターの製造方法
においては、染色浴中に含まれる酢酸などの酸成分の作
用によってレジストパターン層と染料受容層との接着力
が低下し、そのためレジストパターン層と染料受容層と
の間に染料が浸み込んで目的とする色パターン部以外の
部分が染色されていわゆる色にじみを生じ、パターン再
現性の高い鮮明な色パターンを形成することが困難であ
るという問題を有する。なお、このような問題を解消す
るためには、レジストパターン層の形成時においてポス
トベークを十分に行うことによってレジストパターン層
と染料受容層との接着力を大きくすることが有効である
が、このようにするとレジストパターン層を剥離するこ
とが困難となって次段の色パターンの形成を行うことが
できなくなるという問題を生じる。

〔発明が解決しようとする問題点〕　　　゛本発明の第
１の目的は、パターン再現性が良好で鮮明な色パターン
の染色層を有する単層型のカラーフィルターを提供する
ことにある。

本発明の第２の目的は、上記カラーフィルターを簡易な
プロセスで確実に製造することができるカラーフィルタ
ーの製造方法を提供することにある。

〔問題点を解決するための手段〕

上記第１の目的は、単一の染色層が分光特性の異なる複
数の染料によって染め分けられた色パターンを有するカ
ラーフィルターにおいて、前記染色層が、染料が受容さ
れて色パターンが形成された染料受容層と、この染料受
容層の表面に形成された、ポリビニルアルコールの架橋
体よりなる保護層とから構成されることを特徴とするカ
ラーフィルターによって達成される。

上記第２の目的は、単一の染色層が分光特性の異なる複
数の染料によって染め分けられた色パターンを有するカ
ラーフィルターの製造方法において、 染料受容物質よりなる染料受容層の表面にポリビニルア
ルコールの架橋体よりなる保護層を形成したのち、以下
の工程Ｔａｌ〜（Ｃ１を含む操作を繰り返すことにより
複数の色パターンを有する染色層を形成することを特徴
とするカラーフィルターの製造方法によって達成される
。

（８）保護層の表面にレジストパターン層を形成する工
程。

（ｂ）所定の分光特性を有する染料を保護層を介して染
料受容層と接触させてこれを染色し、色パターンを形成
する工程。

ｔｅｌレジストパターン層を保護層表面から除去する工
程。

本発明において特に特徴的な点は、単一の染色層が分光
特性の異なる複数の染料によって染め分けられた色パタ
ーンを有する単層型のカラーフィルターにおいて、染料
が受容される染料受容層の表面にポリビニルアルコール
の架橋体よりなる保護層を形成した点にある。染料受容
層の表面に特定の保護層を形成することにより、次のよ
うな作用効果を達成する。

（１）ポリビニルアルコールの架橋体よりなる特定の保
護層は、染料受容層とレジストパターン層の両者に対し
て良好な接着性を有し、そして酸性の染色浴中において
もレジストパターン層と保護層あるいは保護層と染料受
容層の相互間における部分的な剥離を生ずることがない
。その結果、レジストパターン層形成部の染料受容層が
染色されることなくレジストパターン層形成部以外の染
料受容層が染色されることにより、鮮明な色パターンを
形成することができる。

（２）特定の保護層が染料受容層を機械的あるいは化学
的要因から保護する機能を有するので、信幀性の高いカ
ラーフィルターを製造することができる。例えば、保護
層によって染料受容層中の染料成分の溶出が抑制される
ので、洗浄その他の操作によっても染料受容層が損なわ
れることがない。

（３）特定の保護層を染料受容層の表面に形成させるこ
とによって、レジストパターン層の剥離が容易となる。

本発明の製造方法によって得られるカラーフィルターは
、例えば、第１図に示すように、染色によって複数の色
パターンａ、ｂ、ｃが形成された染料受容層１およびこ
の染料受容層ｌの表面に形成されたポリビニルアルコー
ルの架橋体からなる保護層２の積層体から構成される。

なお、保護層２の表面には、カラーフィルターの機械的
強度、保形性などを改善するために、必要に応じて樹脂
などの被膜３が形成される。

染料受容層１および保護層２の膜厚は、使用目的などに
応じて適宜選択されるが、染料受容層１にあっては、０
．１〜５μｍ１保護Ｎ２にあっては、０．１〜１μｍで
あることが好ましく、必要に応じて形成される被膜３に
あっては、０．５〜３μｍであることが好ましい。

以下、本発明の詳細な説明する。

本発明における染料受容層を構成するための染料受容物
質としては、ゼラチン、カゼイン、フィッシュグリユー
などの天然タンパク質の他に、カチオン性基を含有する
重合性単量体に由来する構成単位を有する重合体を使用
することができる。

これらのうち、材料としての品質が一定していること、
染色が温和な条件で行えることから、後者のカチオン性
基を含有する重合性単量体に由来する構成単位を有する
重合体をより好ましく用いることができる。

上記重合体の合成に用いられる、カチオン性基を含有す
る重合性単量体の具体例としては、２−メタクリロイロ
キシエチルトリメチルアンモニウムクロリド、２−アク
リロイロキシエチルトリメチルアンモニウムクロリド、
３−メタクリロイロキシプロピルトリメチルアンモニウ
ムクロリド、３−アクリロイロキシプロピルトリメチル
アンモニウムクロリド、２−ヒドロキシ−３−メククリ
ロイロキシプロピルトリメチルアンモニウムクロリド、
２−ヒドロキシ−３−アクリロイロキジプロピルトリメ
チルアンモニウムクロリドなどのアクリル酸エステルま
たはメタクリル酸エステルの誘導体； ２−トリメチルアンモニウムエチルアクリルアミド・ク
ロリド、２−トリメチルアンモニウムエチルメタクリル
アミド・クロリド、３−トリメチルアンモニウムプロピ
ルアクリルアミド・クロリド、トリメチルアンモニウム
プロピルメタクリルアミド・クロリド、２−トリエチル
アンモニウムエチルアクリルアミド・プロミド、２−ト
リエチルアンモニウムエチルメタクリルアミド・メチル
スルホナートなどのアクリルアミドまたはメタクリルア
ミドの誘導体； を挙げることができる。これらのカチオン性基を含有す
る単量体は単独で重合してもよいし、他の重合性単量体
と共重合してもよい、また、カチオン性単量体は、１種
あるいは２種以上を組合せて用いてもよい。

上記カチオン性基を含有する単量体と共重合可能な他の
重合性単量体としては、 アクリル酸メチル、メタクリル酸メチル、アクリル酸エ
チル、メタクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、メタク
リル酸ブチル、メタクリル酸−２−エチルヘキシル、ア
クリル酸フェニル、メタクリル酸フェニル等のアクリル
酸もしくはメタクリル酸のエステル； スチレン、α−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、
ビニルナフタレン等のビニル芳香族化合物ｉアクリル酸
、メタクリル酸、メタクリル酸ヒドロキシエチル、アク
リル酸ヒドロキシエチル、アクリル酸−２−ヒドロキシ
プロピル、メタクリル酸−２−ヒドロキシプロピル、ア
クリル酸−２−ヒドロキシブチル、メタクリル酸−２−
ヒドロキシブチル等の官能性アクリル化合物； Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−モルホリルアクリルアミド
、アクリロニトリル、４−ビニルピリジン、２−ビニル
キノリン、アクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ、Ｎ
−ジメチルメタクリルアミド、Ｎ、Ｎ−ジメタルアクリ
ルアミド、Ｎ−メチルアクリルアミド、Ｎ−メチルメタ
クリルアミド、Ｎ−エチルアクリルアミド、Ｎ−エチル
メタクリルアミド、Ｎ−イソプロピルアクリルアミド、
Ｎ−イソプロピルメタクリルアミド、Ｎ−ターシャルブ
チルアクリルアミド、Ｎ−ターシャルブチルメタクリル
アミドなどの含窒素単量体； を挙げることができる。これらは単独でまたは２種以上
組合わせて用いることができる。

カチオン性単量体と他の重合性単量体の共重合体の共重
合形態は特に制限されず、付加重合によるラングム共重
合体、ブロック共重合体等のいずれでもよく、また共重
合方法も溶液重合法、乳化重合法等のいずれでもよい。

本発明において、染料受容層は上記重合体または天然タ
ンパク質に紫外線、電子線などの放射線を照射すること
によってその機能を発揮する放射線架橋剤、例えばビス
アジド化合物、重クロム酸塩などまたは熱架橋剤を添加
したものによって形成することができる。

上記ビスアジド化合物の具体例としては、例えば４゛、
４°　−ジアジドスチルベン−２−２゜−ジスルホン酸
、４，４゛　−ジアジドベンザルアセトフェノン−２−
スルホン酸、４，４゛　−ジアジドスチルベン−α−カ
ルボン酸およびこれらの塩、例えばナトリウム塩、カリ
ウム塩、アンモニウム塩などの水溶性ビスアジド化合物
；ｐ−フェニレンビスアジド、４，４°　−ジアジドベ
ンゾフェノン、４，４°　−ジアジドスチルベン、４．
４゛−ジアジドフェニルメタン、４．４’　　−ジアジ
ドベンザルアセトフェノン、２．６−ジー（４゛−アジ
ドベンザル）シクロヘキサノン、２゜６−ジー（４°−
アジドベンザル）−４−メチルシクロヘキサノン等の油
溶性ビスアジド化合物；などを挙げることができる。こ
れらのうち、上記重合体との相溶性の点からは、水溶性
ビスアジド化合物が好ましい。

また上記熱架橋剤の具体例としては、 エチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレ
ングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコ
ールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコール
ジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリ
シジルエーテル、ｌ。

６−ヘキサンシオールジグリシジルエーテル、ジブロモ
ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、Ｏ−フ
タル酸ジグリシジルエステル、ビスフェノールＳジグリ
シジルエーテル、ビスフェノールＡ−プロピレンオキシ
ド付加物ジクリシジルエーテル、０−タレゾールノボラ
ック型エポキシ樹脂、グリセリンポリグリシジルエーテ
ル、トリメチロールプロパンポリグリシジルエーテル、
ジグリセリンポリグリシジルエーテル、ポリグリセロー
ルポリグリシジルエーテル、ソルビトールポリグリシジ
ルエーテルなどの、１分子中にエポキシ基を２以上有す
る化合物などを挙げることができる。

上記架橋剤の使用量は、通常、上記重合体または天然タ
ンパク質１００重量部に対して０．１〜５０重量部であ
る。

上記重合体または天然タンパク質と架橋剤とは、通常、
溶媒に溶解にされて混合した状態で用いられる。このと
き用いられる溶媒としては、上記重合体または天然タン
パク質、および架橋剤を溶解し、かつこれらと反応しな
いものであれば特に限定されるものではなく、種々の溶
媒を使用することができる。

溶媒の具体例としては、 水； メタノール、エタノール、プロパツール、イソプロパツ
ール、ブタノール、イソブタノール、エチレングリコー
ル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレン
グツコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモ
ノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエ
ーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジ
エチレングリコールモノブチルエーテル等のアルコール
系溶媒； アセトン、メチルエチルケトン、メチル−ｎ−プロピル
ケトン、メチルイソブチルケトン、メチル−ｎ−ブチル
ケトン、メチル−ｎ−アミルケトン、ジエチルケトン、
エチル−ｎ−ブチルケトン、ジ−ｎ−プロピルケトン、
ジイソプロピルケトン、シクロヘキサノン、ホロン等の
ケトン系溶媒；ギ酸エチル、ギ酸プロピル、ギ酸−ｎ−
ブチル、酢酸エチル、酢酸−ｎ−プロピル、酢酸−ｎ−
ブチル、酢酸−ｎ−アミル、エチレングリコールモノメ
チルエーテルアセタート、エチレングリコールモノエチ
ルエーテルアセタート、ジエチレングリコールモノメチ
ルエーテルアセタート、ジエチレングリコールモノエチ
ルエーテルアセタートなどのエステル系溶媒を挙げるこ
とができる。これらのうち、重合体の溶解性の点からア
ルコール系溶媒が好ましい、またこれらの溶媒は単独で
あるいは２種以上を混合して用いてもよい。

本発明の染料受容層を形成するための塗布組成物は、染
料受容物質および必要に応じて加えられる架橋剤、添加
剤（例えば老化防止剤、増感剤、シランカップリング剤
など）を適当な溶剤に溶解して構成される。塗布組成物
の濃度は特に限定されるものではなく、使用目的に応じ
て適宜選択することができるが、一般的には固形分濃度
で３〜５０重量％である。また、このようにして調製し
た塗布組成物を基板に塗布する方法としては、浸漬法、
スプレー法、ロールコート法、カーテンコート法、スピ
ンコード法などの各種塗布方法を用いることができ、さ
らにスクリーン印刷等の印刷法による塗布法を用いるこ
ともできる。

本発明における染料受容層は、上記のように塗布組織物
を基板に塗布した後、乾燥し、架橋することにより得ら
れる。ここにおいて架橋は、放射線架橋剤を用いた場合
は放射線を照射することによって、熱架橋剤を用いた場
合は例えば５０〜２００℃に加熱することによって行な
われる。

本発明において保護層を構成するために使用するポリビ
ニルアルコールは、特に限定されないが、そのケン化率
が５０〜１００％好ましくは８０〜１００％のものを好
適に使用することができる。ポリビニルアルコールのケ
ン化率が５０％より小さい場合には、染料受容層の染色
性がやや劣るようになる。またポリビニルアルコールの
数平均分子量は、通常、５．０００〜ｓｏｏ、ｏｏｏ、
好ましくは１０，０００〜２００，０００のものを好適
に使用することができる。ポリビニルアルコールの数平
均分子量が５，０００より小さい場合には、後述する放
射線架橋時の感度が不十分であり、またポリビニルアル
コールの数平均分子量が５００．０００より大きい場合
には、溶液の保存安定性が悪くなるおそれがある。

上記ポリビニルアルコールは、通常、水溶液の状態で使
用され、その濃度は特に限定されないが、好ましくは０
．１〜３０重量％である。またポリビニルアルコールを
架橋するためには、通常、架橋剤を添加する。このよう
な架橋剤としては、放射線架橋剤、熱架橋剤などを使用
することができる。放射線架橋剤の具体例としては、前
記ビスアジド化合物、重クロム酸塩などを挙げることが
できる。

また熱架橋剤としては、酢酸、安息香酸、フタル酸、テ
レフタル酸、トリメリット酸、ピロメリット酸などの有
機カルボン酸や無水フタル酸、無水ピロメリット酸など
の多価カルボン酸無水物を挙げることができる。架橋剤
の使用量はポリビニルアルコール１００重量部あたり０
．１〜５０重量部であることが好ましい、架橋剤の使用
量が０．１重量部より少ない場合には、架橋が十分でな
く、架橋後のポリマーの染色浴に対する不溶化が十分に
達成されない、また、架橋剤の使用量が５０重量部より
多い場合には、溶液の保存安定性が悪くなる。

ポリビニルアルコール溶液の塗布方法は特に限度されず
、浸漬法、スプレー法、ロールコート法、カーテンコー
ト法、スピンコード法、スクリーン印刷等の印刷法を用
いることができる。

本発明における保護層は、上記ポリビニルアルコール溶
液を染料受容層上に塗布した後、乾燥し、架橋すること
により得られるが、架橋方法は、染料受容層の場合と同
様である。

本発明においてレジスト層を構成するために使用するレ
ジストの種類は、特に制限されず、ポリイソプレン環化
物などの環化ゴムにビスアジド化合物を添加したネガ型
レジスト、ノボラック樹脂にナフトキノンジアジド化合
物を添加したポジ型レジストなどを用いることができる
。これらレジストの塗布方法は特に限定されず、既述の
方法を使用することができ、通常、乾燥後の膜厚が０．
５〜２μｍになるように塗布する。またレジスト層のパ
ターニングはパターンマスクを介して紫外線などの放射
線を照射し、続いて現像し、必要に応じてリンス処理を
行い、乾燥することにより達成される。

本発明において染料受容層の染色に使用する染料は、通
常、酸性染料である。赤、緑、青の三原色として用いら
れる酸性染料としては、以下の市販品（商品名および製
造会社名）を挙げることができる。

赤色染料としては、スミノール・ミリング・スカーレッ
ト・Ｇ（住人化学）、チバクロン・スカーレット・Ｇ−
Ｐ　（チバ・カイギー社）、チバクロン・プロント・ス
カーレット（チバ・ガイギー社）、スミノール・ファス
ト・レフト・Ｇ（住人化学）、スミライト・スプラ・レ
ッド・４ＢＬ（住人化学）、アミニル・レッド・Ｅ−２
ＢＬ（住人化学）、アミニル・レッド・Ｅ−３８Ｌ（住
人化学）、アジド・スカーレソト・９０１（住人化学）
、スミノール・ミリング・スカーレント・ＦＣ（住人化
学）、スミノール・ミリング・オレンジ・ＳＧ（住人化
学）、スミノール・ファスト・オレンジ・ＰＯ（住人化
学）、マキシロン・レッド・ＧＲＬ　（チバ・ガイギー
社）、エリオシン・スカーレット・ＲＥ（チバ・ガイギ
ー社）、ミカワン・ブリリアント・レッド・８ＢＳ（三
菱化学）、アシド・ライト・スカーレット・ＧＬ１３０
％（三菱化学）、カヤノール・ミリング・レッドＲ５１
２５（日本北東）、カヤノール・ミリング・レッド・３
ＢＷ（日本北東）などを挙げることができる。

緑色染料としては、スミノール・ミリング・ブリリアン
ト・グリーン・５Ｇ（住人化学）、アシド・ブリリアン
ト・ミリング・グリーン・Ｇ（住人化学）、アシド・ブ
リリアント・ミリング・グリーン・Ｂ（住人化学）、ミ
カチオン・オリーブ・グリーン・３ＧＳ　（チバ・ガイ
ギー社）、カヤノール・ミリング・グリーン・５ＧＷ（
日本北東）、ソオリイダゾール・グリーン・Ｐ、−ＧＧ
（ヘキスト社）、ペーパー・ファスト・グリーン・５Ｇ
（バイエル社）などを挙げることができる。

青色染料としては、スミライト・スプラ・ターコイス・
ブルー・Ｇ（住人化学）、チバクロン・ブルー・３Ｇ−
Ａ　（チバ・ガイギー社）、カヤチ・オンターコイス・
Ｐ−Ａ　（日本北東）、カヤチオン・ターコイスＰ−Ｎ
ＧＦ　（日本北東）、スミカロン・ブルー・Ｅ−ＦＢＬ
　（住人化学）、スミ力　ロン・ブリリアント・ブルー
５−ＢＬ　（住人化学）、スミノール・レベリング・ス
カイブルーＲ・エキストラ・コンク（住人化学）、カヤ
ノール・ミリング・ブルーＣ，Ｗ　（日本北東）などを
挙げることができる。

また、染料受容層の染色は、上記酸性染料の０．１〜５
重量％水溶液中に、被染色層を通常１〜３０分間程度浸
漬することにより行われ、これにより平衡染着量に達す
ることができる。

また、染料受容層の染色後のレジストパターン層の剥離
は、ネガ型レジストの場合には界面活性剤および酸化剤
を含む通常のレジスト剥離液に浸漬処理することにより
行なわれ、ポジ型レジストの場合にはレジストパターン
層に放射線で照射し後再度レジスト用の現像液として用
いられる溶液に浸漬処理することにより行なうことがで
きる。

〔実施例〕

以下、本発明の実施例について説明するが、本発明がこ
れらによって制限されるものではない。

実施例　ｌ ビニルピロリドン（６８重量部）と２−メタクリロイロ
キシエチルトリメチルアンモニウムクロリド（１４重量
部）とメタクリル酸メチル（１８重量部）の共重合体（
０，１重量％の塩化ナトリウム水溶液中での極限粘度値
：ｔ、ｔ　ｄ！／ｇ＞　１０ｇをメチルセロソルブ９０
ｇに溶解した。得られた溶液に４，４゛−ジアジドスチ
ルベン−２，２゛　−ジスルホン酸ナトリウム０．４ｇ
を加えて攪拌し均一に混合したのち、この溶液を孔径０
．２μｍのフィルターで濾過し、染料受容物質の塗布組
成物を調整した。

ガラス基板上に、ポリグリシジルメタクリレート（ゲル
パーミェーションクロマトグラフィーによるポリスチレ
ン換算重量平均分子量：　６５，０００）を主成分とす
る溶液を塗布して乾燥した後、上記塗布組成物を回転速
度３＋　００Ｏｒ　、　ｐ　、　ｒｎ　、でスピンコー
ドした。塗布膜の乾燥後の膜厚を触針式膜厚計「アルフ
ァステップ」　（テンコール社製）で測定したところ、
０．９μｍであった。か（して得られた塗膜の全面に紫
外線を照射して染料受容物質からなる塗布膜を架橋させ
、塗料受容層を形成した。

ついで該染料受容層の上に、ポリビニルアルコール（重
合度５００．ケン化率１００％）１０ｇと重クロム酸ア
ンモニウム０．５ｇを水９０ｇに溶解した溶液を０．２
μｍのフィルターで濾過して調整した塗布液を、回転数
３．００Ｏｒ　、　ｐ　、　ｍ、でスピンコードした。

これを１１０℃で１０分間乾燥した後塗膜の全面に紫外
線を照射して光硬化させ、膜厚０．５μｍの保護層を形
成した。

このようにして得られた染料受容層と保護層の２層から
なる積層体上にポジ型レジストｒＰＦＲ−３００３Ｊ　
　（日本合成ゴム（株）製）を回転数３．００Ｏｒ、ｐ
、ｍ、でスピンコードした。その後８０℃で１０分間乾
燥処理し、所望のパターンを有するホトマスクを介して
紫外線を照射し、これを現像液ｒＰＤ５２４　Ｊ　　（
日本合成ゴム（株）製）によって現像処理することによ
りレジストのパターニングを行なってレジストパターン
層を形成し、染色用基板を調製した。得られた染色用基
板をカヤノール・ミリング・レッドＲ３１２５１ｇと水
１００ｇとよりなる染色浴に２５℃で５分間浸漬するこ
とにより、染料受容層の染色を行なった。その後、基体
全面に紫外線を照射し、上記現像液でレジスト層を除い
た後水洗、乾燥を行ない、染料受容層に第１の色パター
ンを形成した。

ついで、上述の手順と同様にしてレジストパターン層の
形成−染色−レジストパターン層の除去の操作を繰り返
して行い、第２の色パターン、第３の色パターンを形成
し、染色層を形成した。

さらに保護層上にポリグリシジルメタクリレート（ポリ
スチレン換算重量平均分子量６５，０００）を主成分と
する溶液を塗布、乾燥し２μｍの被膜を形成し、カラー
フィルターを得た。このカラーフィルターは、各色パタ
ーンに色にじみのない優れたものであった。

実施例　２ 実施例１におけるポリビニルアルコールヲ含存する塗布
液の調整において、重クロム酸アンモニウムに代えて４
，４°　−ジアジドスチルベン２．２゛　−ジスルホン
酸ナトリウム（０，５ｇ　）を使用した他は、実施例１
と同様にしてカラーフィルターを得た。このカラーフィ
ルターは各色パターンに色にじみのない優れたものであ
った。

実施例　３ 実施例１におけるガラス基板に代えて、インシュウムチ
ンオキシド（ＩＴＯ）の付いたガラス基板を用いた他は
、実施例１と同様にしてカラーフィルターを得た。この
カラーフィルターは、各色パターンに色にじみのない優
れたものであった。

比較例　１ 実施例１におけるポリビニルアルコールの架橋体よりな
る保護層を形成しない他は、実施例１と同様にして染料
受容層の形成−レシストパターン層の形成−染色−レシ
ストパターン層の除去の各操作を行ない、カラーフィル
ターを得た。このカラーフィルターは、色パターンにお
ける色にじみの発生が著しく、パターン再現性の低い不
鮮明なものであった。

〔発明の効果〕

本発明によれば、パターン再現性が良好で鮮明な色パタ
ーンの染色層を有する単層型のカラーフィルターを提供
することができる。また、本発明の製造方法によれば、
上記カラーフィルターを簡易なプロセスで確実に製造す
ることができるカラーフィルターの製造方法を提供する
ことができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明のカラーフィルターの一実施例を示す
説明図である。 １　・・・　染色によって複数の色パターンが形成され
た染料受容層 ａ、　　ｂ、　　ｃ　　・・・　色パターン２　・・・
　保護層 ３　・・・　被膜

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １）単一の染色層が分光特性の異なる複数の染料によっ
   て染め分けられた色パターンを有するカラーフィルター
   において、 前記染色層が、染料が受容されて色パターンが形成され
   た染料受容層と、この染料受容層の表面に形成された、
   ポリビニルアルコールの架橋体よりなる保護層とから構
   成されることを特徴とするカラーフィルター。 ２）単一の染色層が分光特性の異なる複数の染料によっ
   て染め分けられた色パターンを有するカラーフィルター
   の製造方法において、 染料受容物質よりなる染料受容層の表面にポリビニルア
   ルコールの架橋体よりなる保護層を形成したのち、以下
   の工程（ａ）〜（ｃ）を含む操作を繰り返すことにより
   複数の色パターンを有する染色層を形成することを特徴
   とするカラーフィルターの製造方法。 （ａ）保護層の表面にレジストパターン層を形成する工
   程。 （ｂ）所定の分光特性を有する染料を保護層を介して染
   料受容層と接触させてこれを染色し、色パターンを形成
   する工程。 （ｃ）レジストパターン層を保護層表面から除去する工
   程。