JPS61285243A - 電子部品用成形材料 - Google Patents

電子部品用成形材料

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JPS61285243A
JPS61285243A JP12881185A JP12881185A JPS61285243A JP S61285243 A JPS61285243 A JP S61285243A JP 12881185 A JP12881185 A JP 12881185A JP 12881185 A JP12881185 A JP 12881185A JP S61285243 A JPS61285243 A JP S61285243A
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JP
Japan
Prior art keywords
epoxy resin
molding material
molding
carbon black
light transmittance
Prior art date
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Pending
Application number
JP12881185A
Other languages
English (en)
Inventor
Tsutomu Hamada
勉 浜田
Takeshi Ito
毅 伊藤
Yoshihiro Aso
麻生 善博
Masahiro Ihara
井原 正弘
Masami Yokozawa
横沢 真覩
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Electric Works Co Ltd
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Matsushita Electric Works Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd, Matsushita Electric Works Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP12881185A priority Critical patent/JPS61285243A/ja
Publication of JPS61285243A publication Critical patent/JPS61285243A/ja
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  • Details Of Resistors (AREA)
  • Organic Insulating Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 本発明は、コンデンサ、抵抗、半導体等電子部品の成形
材料に関するもので、特にエボキV樹脂にブタジェン系
ゴムポリマーを添加し、低応力化した材料に関するもの
である。
〔背景技術〕
従来の電子部品用成形材料、例えばエポキシ樹脂成形材
料は曲げ弾性率が1300〜2000 V−と高いため
、これを用いで成形した成形品には内部応力が蓄積され
、外部からの機械的もしくは熱的衝撃によシ成形品にし
ばしばクツツクが生ずることが知られている。成形品の
内部応力σは(1)式で示される。
σ=に、E、Δα、ΔT・・・・・・・・・・・・ +
11ことでKは常数、Eは曲げ弾性率、Δαは膨張係数
、ΔTは成形材料のガラス転位点と室温との温度差であ
る。従って内部応力σを小さくするには、E、Δα、Δ
Tを小さくすればよいが、Δαを小さくするためには熱
伝導率の低い溶融クリ力を充填剤として用いなければな
らず、又Jを小さくするためにはガラス転位点を低下さ
せる必要があシ各れ本信頼性の低下を惹起する。このた
め曲げ弾性率Eを小さくする工夫がなされ、例えば環状
ゴムや鎖状ゴム等の可撓剤を添加することによって曲げ
弾性率を小さくしていたものである。しかしゴム系ポリ
マーを用い成形を反復すると分離ゴム成分によシ早期に
成形金型が汚染し、その結果成形品の外観不良や、金型
に成形品が付着するいわゆる離型不良を惹起する欠点が
あった。
〔発明の目的〕
本発明の目的とするところは、曲げ弾性率の小さい成形
材料による成形時の金型汚染を防止し、成形品の外観向
上、成形不良率の減少、金型表面クリーニング回数の減
少を実現できる電子部品用成形材料を提供することにあ
る。
〔発明の開示〕
本発明はブタジェン系ゴムポリマー及びカーボンブラッ
クを含有するエポキシ樹脂成形材料において、該成形材
料粉1重量部(以下単に部と記す]をテトラヒドロフラ
ン6部に懸濁させ、24時間静置後の上澄液の光透過率
がω%以下であることを特徴とする電子部品用成形材料
のため、成形時に金型汚染の原因であるゴム成分を分離
しやすい低分子成分の多い成形材料にあっては、テトラ
ヒドロ7フンの粘度上昇を惹起しないのでカーボンブラ
ックが速やかに沈降して透明となシ従って光透過率が大
きく麿るものである。これに反し成形時に金型汚染の原
因であるゴム成分を分離し難い高分子成分の多い成形材
料にあっては、テトラヒドロフランの粘度上昇が大とな
るためカーボンブラックは沈降せず不透明となシ従って
光透過率が小さくなるもので、かくすることによシ金型
汚染のない電子部品用成形材料を提供することができる
もので、以下本発明の詳細な説明する。
本発明に用いるエポキシ樹脂は、1分子中に2個以上の
エポキシ基を有する硬化可能なエポキシ樹脂であるなら
ばビヌフェノー/I/A型エポキシ樹脂、ノボラック型
エポキシ樹脂、グリシジルエステル型エボキV樹脂、ハ
ロゲン化エポキシ樹脂、可撓性エポキシ樹脂、高分子型
エポキシ樹脂等各れでもよく特に限定するものではない
が好ましくは性能パフンスのとれたノボラック型エポキ
シ樹脂を用いることが望ましい。硬化剤としてはアミン
系硬化剤、ポリアミド樹脂、ポリアミン、酸無水物硬化
剤、ルイス酸錯化合物、フェノール樹脂、イソシアネー
ト等を用いることができ特に限定するものではないが好
ましくはフェノール樹脂を用いることが耐熱性の点でよ
く望ましいことである。
充填剤としてはシリカ、ガラス繊維、ガラス粉、rイ酸
カルシウム、度酸カルシウム、アルミナ、クレータpり
、硫酸バリウム、窒化ホウ素、法化rイ素等を用いるこ
とができ特に限定するものではない。ブタジェン系ゴム
ポリマーとしては日本合成ゴム株式会社製のDN20H
A 、 DN30A 、 N2zoSH。
グツドリッチ社製のハイカー1411 、日本ゼオン株
式会社製のHF0I 、 HF21 、 BR1220
、宇部興産株式会社製のハイカーCrB、VTR等を用
いる ことができ特に限定するものではないが粒子径が
10メツシユ以下であることが望ましいことである。
カーボンブラックとしてはコ゛ム用7アーネス、ゴム用
熱分解、電池用、ゴム用チャンネル1着色剤用等のよう
にカーボンブラック全般を用いることができ、特に限定
するものではない。エポキシ樹脂、硬化剤、ブタジェン
系ゴムポリマー、カーボンブラック以外の添加剤として
は、離型剤、硬化促進剤、カップリング剤等を必要に応
じて添加することができるが、これら材料を混合、混練
、粉砕し粉末1部をテトラヒドロフラン6部に懸濁させ
、列時間静置後の上澄液の光透過率がω%以下であるこ
とが必要である。即ちω%をこえると成形時にゴム成分
が分離し金型汚染を惹起するためである。かくして得ら
れた成形材料はトランジスター、ダイオード、コンデン
サー、フィルター、整流器、抵抗体、コイル等の電子部
品の多数個数シ成形に適することは勿論、圧縮成形等に
も適用できるものである。
以下本発明を実施例にもとすいて説明する。
実施例1及至3と従来例 ノボフック型エポキシ樹脂100部に対しフェノール樹
脂団部、2メチルイミダゾ一ル1部、カルナウバワック
ス2部、カーボンブラック3部、結晶シリカ450部、
ブタジェン系ゴムポリマー(日本合成ゴム株式会社製N
220SH) 100部を添加し加熱ロールで光透過率
を調整しつつ加熱混練し光透過率が実施例1については
ω%、実施例2についてはω%、実施例3については匍
%になるように加熱混練した。比較例については65%
になるようにした。混線物については直ちに冷却し粉砕
して電子部品用成形材料を得、トランスファー成形機を
用いて金型温度175°C1成形圧力50ψ筺、硬化時
間3分間でハイブリッドICを封止成形した。
〔発明の効果〕
実施例1乃至3と比較例の成形時の金型汚染は実施例1
においては203回で発生、実施例2においては260
回で発生、実施例3においては320回で発生し1日の
計画成形回数である200回を金型汚染で作業中止をす
ることなく達成できたに反し比較例においては160回
で金型汚染が発生した為、成形作業を中止し金型表面ク
リーニング作業を行なう必要があシ戊形効率は低いもの
で1)本発明の優れていることを確認した。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)ブタジエン系ゴムポリマー及びカーボンブラック
    を含有するエポキシ樹脂成形材料において、該成形材料
    粉1重量部をテトラヒドロフラン15重量部に懸濁させ
    、24時間静置後の上澄液の光透過率が60%以下であ
    ることを特徴とする電子部品成形材料。
JP12881185A 1985-06-13 1985-06-13 電子部品用成形材料 Pending JPS61285243A (ja)

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Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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