JPS61273760A - 光磁気デイスクの製造方法 - Google Patents
光磁気デイスクの製造方法Info
- Publication number
- JPS61273760A JPS61273760A JP11527785A JP11527785A JPS61273760A JP S61273760 A JPS61273760 A JP S61273760A JP 11527785 A JP11527785 A JP 11527785A JP 11527785 A JP11527785 A JP 11527785A JP S61273760 A JPS61273760 A JP S61273760A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- stamper
- substrate
- resin
- resin layer
- etching
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概要〕
光磁気ディスクの記録媒体層上に２Ｐ（ホトポリマー）
樹脂層と金属反射膜でトラッキング用グループを形成す
る。
樹脂層と金属反射膜でトラッキング用グループを形成す
る。
本発明は、光磁気ディスクの製造方法、特に、光磁気デ
ィスクのトラッキング用のグループの形成方法に係る。
ィスクのトラッキング用のグループの形成方法に係る。
従来、光磁気ディスクでは、プリグループと呼ばれるレ
ーザービームの案内溝によってトラッキングを行ってい
る。プリグループは、一般にスタンパからプラスチック
基板に直接転写するか、あるいはスタンパとガラス基板
などの基板の間に２Ｐ（ホトポリマー）樹脂を挟み、紫
外線によって硬化するなどして形成される。現在、光磁
気記録媒体の主流をなす希土類−遷移金属からなる非晶
質媒体はこのようなグループ付きの基板上に蒸着法また
はスパッタ法で形成されている。
ーザービームの案内溝によってトラッキングを行ってい
る。プリグループは、一般にスタンパからプラスチック
基板に直接転写するか、あるいはスタンパとガラス基板
などの基板の間に２Ｐ（ホトポリマー）樹脂を挟み、紫
外線によって硬化するなどして形成される。現在、光磁
気記録媒体の主流をなす希土類−遷移金属からなる非晶
質媒体はこのようなグループ付きの基板上に蒸着法また
はスパッタ法で形成されている。
上記のようにプリグループを形成した基板上に記録膜を
形成することは、記録材料によっては不可能な場合があ
る。例えば、ガドリニウムガリウムガーネット（ＧＧＧ
）上に形成したビスマス置換ガーネット膜を記録材料と
する場合などがこれに当る。ビスマス置換ガーネット膜
は平坦なガラス基板上に形成することも可能であるか、
その場合にも問題は同じである。
形成することは、記録材料によっては不可能な場合があ
る。例えば、ガドリニウムガリウムガーネット（ＧＧＧ
）上に形成したビスマス置換ガーネット膜を記録材料と
する場合などがこれに当る。ビスマス置換ガーネット膜
は平坦なガラス基板上に形成することも可能であるか、
その場合にも問題は同じである。
そこで、本発明は、一般にはプリグループを形成するこ
とができない記録材料を用いる場合にもトラッキングを
可能にすることを目的とする。
とができない記録材料を用いる場合にもトラッキングを
可能にすることを目的とする。
本発明は、上記の如き問題点を解決するために、平坦な
硬質基板上に平坦な記録媒体層を形成した後、２Ｐ樹脂
を用いてグループを形成する。次いで、２Ｐ樹脂層を厚
さ方向に異方的にエツチングして、表面凹凸パターンを
保存したままその凹部の２Ｐ樹脂がほぼなくなるまでエ
ツチングする。
硬質基板上に平坦な記録媒体層を形成した後、２Ｐ樹脂
を用いてグループを形成する。次いで、２Ｐ樹脂層を厚
さ方向に異方的にエツチングして、表面凹凸パターンを
保存したままその凹部の２Ｐ樹脂がほぼなくなるまでエ
ツチングする。
その後、全面に金属反射膜を形成する。
２Ｐ樹脂を用いてグループを形成することは容易である
が、２Ｐ樹脂層を極めて薄く形成することは困難であり
、その厚みは少なくとも１０μｍ程度になる。もし、レ
ーザービームをこのような２Ｐ樹脂層上に形成した金属
反射膜に焦点を合わせてトラッキングを行なうと、記録
媒体中のデータ情報の焦点は大きくはずれていることに
なる。
が、２Ｐ樹脂層を極めて薄く形成することは困難であり
、その厚みは少なくとも１０μｍ程度になる。もし、レ
ーザービームをこのような２Ｐ樹脂層上に形成した金属
反射膜に焦点を合わせてトラッキングを行なうと、記録
媒体中のデータ情報の焦点は大きくはずれていることに
なる。
そこで、２Ｐ樹脂層の表面凹凸（グループ）パターンを
保存したまま、２Ｐ樹脂層の厚みが薄くなるように異方
的にエツチングを行なえば、所期のトラッキングを行な
い得るようなグループを形成することができる。
保存したまま、２Ｐ樹脂層の厚みが薄くなるように異方
的にエツチングを行なえば、所期のトラッキングを行な
い得るようなグループを形成することができる。
第１図を参照すると、５インチのガラス基板１上にスパ
ッタ法によりビスマス置換ガーネット膜２を厚み１μｍ
程度堆積する。ビスマス置換ガーネット層２は半透明で
ある。次いで、ビスマス置換ガーネット膜２上に２２樹
脂（三菱油化ファイン製Ｓ Ａ２００６） ７１３を約
１０．ｃｒｍの厚みにスピンコードした後、既成のスタ
ンパ４を２Ｐ樹脂３に押し当て、基板１の方向から紫外
線を照射して２Ｐ樹脂を硬化させる。スタンパ４から２
Ｐ樹脂層３の表面に転写して形成するグループパターン
は幅１μｍ１深さ約０．１μｍ、ピンチ２μｍの同心円
状または螺旋状である。
ッタ法によりビスマス置換ガーネット膜２を厚み１μｍ
程度堆積する。ビスマス置換ガーネット層２は半透明で
ある。次いで、ビスマス置換ガーネット膜２上に２２樹
脂（三菱油化ファイン製Ｓ Ａ２００６） ７１３を約
１０．ｃｒｍの厚みにスピンコードした後、既成のスタ
ンパ４を２Ｐ樹脂３に押し当て、基板１の方向から紫外
線を照射して２Ｐ樹脂を硬化させる。スタンパ４から２
Ｐ樹脂層３の表面に転写して形成するグループパターン
は幅１μｍ１深さ約０．１μｍ、ピンチ２μｍの同心円
状または螺旋状である。
スタンパ４を剥離した後、２Ｐ樹脂層３を酸素プラズマ
を用いて厚みが０．１μｍ以下になるまでドライエツチ
ングする。このとき、エツチングが全面に一様に進行す
るように基板を１Ｏｒｐｍで回転する。
を用いて厚みが０．１μｍ以下になるまでドライエツチ
ングする。このとき、エツチングが全面に一様に進行す
るように基板を１Ｏｒｐｍで回転する。
エツチング後、全面にスパッタでアルミニウム膜５を厚
さ約０．１μｍに形成し、金属反射膜とする。このとき
、金属反射膜５は、第２図に示す如く、記録材料層であ
るビスマス置換ガーネット膜２と直接に接触する。従っ
て、基板ｌの側からレーザービームを照射し、ビスマス
置換ガーネット膜２と接する金属反射ｌｌ！５に焦点を
合せてビームのトラッキングを行なえば、レーザービー
ムは記録材料層中の情報データに対しても充分に焦点が
合うようになる。
さ約０．１μｍに形成し、金属反射膜とする。このとき
、金属反射膜５は、第２図に示す如く、記録材料層であ
るビスマス置換ガーネット膜２と直接に接触する。従っ
て、基板ｌの側からレーザービームを照射し、ビスマス
置換ガーネット膜２と接する金属反射ｌｌ！５に焦点を
合せてビームのトラッキングを行なえば、レーザービー
ムは記録材料層中の情報データに対しても充分に焦点が
合うようになる。
本発明の光記録媒体では、ＧＧＧ上に形成したビスマス
置換ガーネットのように、プリグループ上に形成するこ
とが不可能な記録材料を用いる場合にも、トラッキング
を行なうことが可能になる。
置換ガーネットのように、プリグループ上に形成するこ
とが不可能な記録材料を用いる場合にも、トラッキング
を行なうことが可能になる。
第１図は本発明の詳細な説明する工程要部における光デ
ィスクの断面図であり、 第２図は本発明の方法により得られる光ディスクの断面
図である。 １・・・ガラス基板、 ２・−ビスマス置換ガーネット層、 ３−２Ｐ樹脂層、 ４・−スタンバ、５−金属反射
膜。
ィスクの断面図であり、 第２図は本発明の方法により得られる光ディスクの断面
図である。 １・・・ガラス基板、 ２・−ビスマス置換ガーネット層、 ３−２Ｐ樹脂層、 ４・−スタンバ、５−金属反射
膜。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、透明硬質基板上に半透明記録媒体層を形成し、 該半透明記録媒体層上に紫外線硬化樹脂を塗布し、 該紫外線硬化樹脂にスタンパを押し当てかつ紫外線を照
射して該スタンパからグループの原形状を該紫外線硬化
樹脂に転写し、 該スタンパを剥離し、 該紫外線硬化樹脂の表面に転写されたパターンが保存さ
れるような条件下で、該パターンの凹部が該半透明記録
媒体表面に到達する時点あるいはその前後まで、該紫外
線硬化樹脂をエッチングし、そして、 該エッチング後に得られる表面凹凸グループパターンの
全面に金属反射層を形成する 工程を含むことを特徴とする光磁気ディスクの製造方法
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11527785A JPS61273760A (ja) | 1985-05-30 | 1985-05-30 | 光磁気デイスクの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11527785A JPS61273760A (ja) | 1985-05-30 | 1985-05-30 | 光磁気デイスクの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61273760A true JPS61273760A (ja) | 1986-12-04 |
Family
ID=14658673
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11527785A Pending JPS61273760A (ja) | 1985-05-30 | 1985-05-30 | 光磁気デイスクの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61273760A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2663439A1 (fr) * | 1990-06-15 | 1991-12-20 | Digipress Sa | Procede pour le traitement et en particulier la gravure d'un substrat et substrat obtenu par ce procede. |
| WO2017142745A1 (en) * | 2016-02-17 | 2017-08-24 | The Curators Of The University Of Missouri | Fabrication of multilayer nanograting structures |
-
1985
- 1985-05-30 JP JP11527785A patent/JPS61273760A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2663439A1 (fr) * | 1990-06-15 | 1991-12-20 | Digipress Sa | Procede pour le traitement et en particulier la gravure d'un substrat et substrat obtenu par ce procede. |
| WO2017142745A1 (en) * | 2016-02-17 | 2017-08-24 | The Curators Of The University Of Missouri | Fabrication of multilayer nanograting structures |
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