JPH02123536A - 光ディスク用スタンパの製造方法 - Google Patents
光ディスク用スタンパの製造方法Info
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- JPH02123536A JPH02123536A JP27775888A JP27775888A JPH02123536A JP H02123536 A JPH02123536 A JP H02123536A JP 27775888 A JP27775888 A JP 27775888A JP 27775888 A JP27775888 A JP 27775888A JP H02123536 A JPH02123536 A JP H02123536A
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 12
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims description 12
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 19
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 claims abstract description 15
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims abstract description 10
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 9
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims abstract description 6
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 7
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 abstract description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract description 3
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 abstract 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
Landscapes
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明はＣＤ、光磁気ディスク等の光ディスクに用い
るスタンパの製造方法に関する。
るスタンパの製造方法に関する。
光ディスクは原盤のレプリカであるスタンパを型として
用いてＰＣ（ポリカーボネイト）等の透明樹脂を射出成
形して基板を作成し、それにＴｅ等の反射膜を蒸着する
ことにより製造される。従ってスタンパの品質が光ディ
スクの品質を決定し、その品質の向上が光ディスクの製
造工程における重要な管理目標となっている。
用いてＰＣ（ポリカーボネイト）等の透明樹脂を射出成
形して基板を作成し、それにＴｅ等の反射膜を蒸着する
ことにより製造される。従ってスタンパの品質が光ディ
スクの品質を決定し、その品質の向上が光ディスクの製
造工程における重要な管理目標となっている。
第２図は従来のスタンパの製造方法の工程を示す模式的
断面図であり、ガラス製円板状の基板１にフォトレジス
ト２を塗布し、それに記録すべき情報に応じて変調した
レーザ光を照射する。照射後にそれを現像して露光部分
を除去し、その表面にＡｇを蒸着してＡｇ膜３を形成す
る（第２図（ａ））。
断面図であり、ガラス製円板状の基板１にフォトレジス
ト２を塗布し、それに記録すべき情報に応じて変調した
レーザ光を照射する。照射後にそれを現像して露光部分
を除去し、その表面にＡｇを蒸着してＡｇ膜３を形成す
る（第２図（ａ））。
このＡｇ膜３は転写性が良いので、フォトレジスト２に
て形成された形状に精度よく倣うことができる。
て形成された形状に精度よく倣うことができる。
次にスタンパ５に用いるＮｉメッキを施しく第２図（ｂ
ｌ） 、Ｎｉメッキ完了後にＡｇ膜３とフォトレジスト
２との間で剥離させる（第２図（Ｃ））。そして最後に
Ａｇ膜３を化学的薬品処理により除去してＮｉ製のスタ
ンパ５を得る（第２図（ｄ））。
ｌ） 、Ｎｉメッキ完了後にＡｇ膜３とフォトレジスト
２との間で剥離させる（第２図（Ｃ））。そして最後に
Ａｇ膜３を化学的薬品処理により除去してＮｉ製のスタ
ンパ５を得る（第２図（ｄ））。
しかしながら従来のスタンパの製造方法においては、フ
ォトレジストの上にＡｇ膜を形成しているのでその表面
がＮｉメフキ液に腐食される虞があり、それがスタンパ
の品質に重大な影響を与え、品質を低下させるという問
題があった。
ォトレジストの上にＡｇ膜を形成しているのでその表面
がＮｉメフキ液に腐食される虞があり、それがスタンパ
の品質に重大な影響を与え、品質を低下させるという問
題があった。
この発明は斯かる事情に鑑みなされたものであり、Ａｇ
膜を保護するＮｉ膜をＡｇ膜上に積層することにより、
表面の欠陥を減少させたスタンパを得ることのできる製
造方法を提供することをその目的とする。
膜を保護するＮｉ膜をＡｇ膜上に積層することにより、
表面の欠陥を減少させたスタンパを得ることのできる製
造方法を提供することをその目的とする。
この発明に係る光ディスク用スタンパの製造方法は、フ
ォトレジスト上に転写性を有する第１の金属を蒸着し、
その表面にそれを保護する第２の金属を蒸着し、その後
にスタンパに用いる金属メッキを施すものである。
ォトレジスト上に転写性を有する第１の金属を蒸着し、
その表面にそれを保護する第２の金属を蒸着し、その後
にスタンパに用いる金属メッキを施すものである。
この発明によれば、第２の金属により第１の金属の表面
が保護され、金属メッキ中での欠陥の発生が減少する。
が保護され、金属メッキ中での欠陥の発生が減少する。
以下、この発明をその一実施例を示す図面に基づいて説
明する。
明する。
第１図はこの発明に係る光ディスク用スタンパの製造方
法の工程を示す模式的断面図である。
法の工程を示す模式的断面図である。
最初にガラス製円板状の基板１にフォトレジスト２を塗
布し、それに記録すべき情報に応じて変調したレーザ光
を照射する。照射後にそれを現像して露光部分を除去し
、その表面にＡｇを蒸着してＡｇ膜３を形成する。その
後さらにその上にＮｉを蒸着してＮｉ膜を形成し、Ａｇ
膜３を保護する（第１図（ａ））。
布し、それに記録すべき情報に応じて変調したレーザ光
を照射する。照射後にそれを現像して露光部分を除去し
、その表面にＡｇを蒸着してＡｇ膜３を形成する。その
後さらにその上にＮｉを蒸着してＮｉ膜を形成し、Ａｇ
膜３を保護する（第１図（ａ））。
次にスタンパ５に用いるＮｉメッキをその表面に施しく
第１図（ｂ）） 、Ｎｉメッキ完了後にＡｇ膜３をフォ
トレジスト２との間で剥離させる（第１図（Ｃ））。
第１図（ｂ）） 、Ｎｉメッキ完了後にＡｇ膜３をフォ
トレジスト２との間で剥離させる（第１図（Ｃ））。
そして最後にＡｇ膜３を化学的薬品処理により除去して
ＮｉメンキにＮｉ膜４を有するスタンパ５を得る（第１
図（ｄ））。
ＮｉメンキにＮｉ膜４を有するスタンパ５を得る（第１
図（ｄ））。
このようにこの発明方法においては、Ｎｉ膜４がＡｇ膜
３の上に蒸着されるため、その蒸着工程が安定しＡｇ膜
３を傷つけることはなく、またＮｉ膜４はＡｇ膜３に比
べてメッキ液に腐食されることがない。
３の上に蒸着されるため、その蒸着工程が安定しＡｇ膜
３を傷つけることはなく、またＮｉ膜４はＡｇ膜３に比
べてメッキ液に腐食されることがない。
なお、この実施例においては、転写性を有する第１の金
属としてＡｇを用い、保護膜としての第２の金属として
Ｎｉを用いたが、この発明はこれに限るものではなく、
第１の金属としてはＡｕ等の他の転写性の良好な金属を
用いてもよく、また第２の金属としてはＣｒ等等地耐食
性の良好な金属を用いてもよい。
属としてＡｇを用い、保護膜としての第２の金属として
Ｎｉを用いたが、この発明はこれに限るものではなく、
第１の金属としてはＡｕ等の他の転写性の良好な金属を
用いてもよく、また第２の金属としてはＣｒ等等地耐食
性の良好な金属を用いてもよい。
以上説明したとおり、この発明においてはＡｇ膜上にＮ
ｉを蒸着し、Ｎｉ膜を形成することにより、メッキ液に
Ａｇ膜が腐食されることがなく、表面に傷等の欠陥の発
生を抑制することができ、品質の高いスタンパを得るこ
とができるという効果がある。
ｉを蒸着し、Ｎｉ膜を形成することにより、メッキ液に
Ａｇ膜が腐食されることがなく、表面に傷等の欠陥の発
生を抑制することができ、品質の高いスタンパを得るこ
とができるという効果がある。
第１図はこの発明に係る光ディスク用スタンパの製造方
法の工程を示す断面図、第２図は従来の光ディスク用ス
タンパの製造方法の工程を示す断面図である。 １・・・基板 ２・・・フォトレジスト ３・・・
Ａｇ膜４・・・Ｎｉ１ｌ ５・・・スタンパなお、
図中、同一符号は同一、又は、相当部分を示す。
法の工程を示す断面図、第２図は従来の光ディスク用ス
タンパの製造方法の工程を示す断面図である。 １・・・基板 ２・・・フォトレジスト ３・・・
Ａｇ膜４・・・Ｎｉ１ｌ ５・・・スタンパなお、
図中、同一符号は同一、又は、相当部分を示す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、光ディスク用のガラス製基板にフォトレジストを塗
布し、それに、情報に応じて変調されたレーザ光を照射
し、照射部分のフォトレジストをエッチングにより除去
して光ディスク用スタンパを製造する方法において、 前記フォトレジストを除去した基板上に転写性を有する
第１の金属を蒸着する工程と、前記第１の金属が蒸着し
た面に、それを保護する第２の金属を蒸着する工程と、 前記第２の金属が蒸着した面に、金属メッキを施す工程
と を有することを特徴とする光ディスク用スタンパの製造
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27775888A JPH02123536A (ja) | 1988-11-02 | 1988-11-02 | 光ディスク用スタンパの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27775888A JPH02123536A (ja) | 1988-11-02 | 1988-11-02 | 光ディスク用スタンパの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02123536A true JPH02123536A (ja) | 1990-05-11 |
Family
ID=17587923
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27775888A Pending JPH02123536A (ja) | 1988-11-02 | 1988-11-02 | 光ディスク用スタンパの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02123536A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005004839A (ja) * | 2003-06-10 | 2005-01-06 | Hitachi Maxell Ltd | 基板成形用スタンパ、基板成形用ガラス原盤、光記録媒体用樹脂基板、光記録媒体及び基板成形用スタンパの製造方法。 |
-
1988
- 1988-11-02 JP JP27775888A patent/JPH02123536A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005004839A (ja) * | 2003-06-10 | 2005-01-06 | Hitachi Maxell Ltd | 基板成形用スタンパ、基板成形用ガラス原盤、光記録媒体用樹脂基板、光記録媒体及び基板成形用スタンパの製造方法。 |
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