JPS61273538A - 感光性組成物 - Google Patents

感光性組成物

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JPS61273538A
JPS61273538A JP11439385A JP11439385A JPS61273538A JP S61273538 A JPS61273538 A JP S61273538A JP 11439385 A JP11439385 A JP 11439385A JP 11439385 A JP11439385 A JP 11439385A JP S61273538 A JPS61273538 A JP S61273538A
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JP
Japan
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group
acid
diazo
photosensitive composition
compound
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Application number
JP11439385A
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English (en)
Inventor
Hiroshi Tomiyasu
富安 寛
Yoshihiro Maeda
佳宏 前田
Sei Goto
聖 後藤
Norihito Suzuki
鈴木 則人
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Kasei Corp
Konica Minolta Inc
Original Assignee
Mitsubishi Kasei Corp
Konica Minolta Inc
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Publication date
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Publication of JPS61273538A publication Critical patent/JPS61273538A/ja
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/016Diazonium salts or compounds
    • G03F7/021Macromolecular diazonium compounds; Macromolecular additives, e.g. binders
    • G03F7/0212Macromolecular diazonium compounds; Macromolecular additives, e.g. binders characterised by the polymeric binder or the macromolecular additives other than the diazo resins or the polymeric diazonium compounds

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、新規な感光性組成物に関する。更に詳しくは
、高感度で、現像性、露光可視画性が良好で、かつ、合
成が極めて容易な新規なジアゾ樹脂を含有する感光性組
成物に関する。
〔従来の技術〕
従来、芳香族ジアゾニウム塩、例えば、ジフエニμアミ
ンー4−ジアゾニウム塩と活性力〃ボニル化合物、例え
ばホμムアルデヒドを反応させたジアゾ樹脂は公知であ
る。特に印刷分野テハジアゾ樹脂の光分解による溶解性
の変化を利用シテ、オフセット印刷用平版の製版用感光
性物質として広く利用されている。
ジアゾ樹脂をバインダー等と混合し、それを親水性の金
属、紙、好ましくはアルミニウム等に塗布することによ
シオフセット印刷版が得られる。この版は、像様露光す
ることにより露光部が硬化し、現像液に不溶となり、こ
れを現像液によ多処理することによシ版面上に親水性部
分と親油性部分が得られ水と脂肪性インキを用いて印刷
することがでちる。
高分子化合物とりアゾ化合物とからなる感光性物質は、
ジアゾ化合物単独のものと比較して、後でラッカー盛シ
等の必要性がなく、安定した印刷版が得られる等価れた
性能を示すことが知られている。しかし、この感光性組
成物は高分子化合物が親水性であると、現像性やジアゾ
樹脂との相溶性は優れているものの保存安定性や感脂性
が悪く、実用上支障がある。他方、高分子化合物が親油
性であると、保存安定性や感脂性は優れているものの現
像性が、特に水系の現像液で悪く、高分子化合物の選択
が重要となる。
これに対して高分子化合物は種々のものが検討されてお
り、例えば、特開昭50−30604号公報に記載され
ているように、下記一般式■で示される構造単位を含む
重合体等が提案されているか感脂性の点で満足できるも
のではない。
R′ ― +CH2−C+ C’OO%−CH,CHO智H−1−9,−CTI〕&
” (式中R′は水素原子又はエチル基を示し、R#は水素
原子、エチル基、エチル基又はクロロメチル基を示し、
mは1〜10の整数を示す)また、特開昭56−414
4号公報記載の水酸基含有上ツマ−を特に含まないアク
リレート系のポリマーは、感脂性の点では前者の重合体
より優れているものの感度や塗布性の点で満足できるも
のでは々い。特開昭54−98614号公報には、芳香
族性水酸基を有する単量体を必須成分とする高分子化合
物が記載されておシ、感度、現像性、感脂性及び塗布性
等諸性能のバランスはとれているものの厳しい保存状態
例えば、湿度80%、温度40℃等での安定性は満足で
きるものではなかった。
高分子化合物と同様にジアゾ樹脂も印刷版に大きな影響
を与えることから種々の検討が表されている。例えば特
公昭47−1167号公報あるいは米国特許第3500
309号明細書にはりアゾ基のアニオンとして有機スル
ホン酸塩等の有機塩が記載されているが、露光時の可視
面が見にくく使いにくいという欠点がある。特開昭54
−98613号公報にはジアゾ基のアニオンとして、ハ
ロゲン化μイス酸塩等の無機塩が記載されており露光時
の可視画は優れているもののポリマーとの組合せによっ
ては高温多湿下といった苛酷な条件下での保存安定性の
点で満足できるものではkかった。
以上のように高分子化合物とジアゾ樹脂に関しては種々
の検討はなされているものの、その組合せだけでは現像
性や保存安定性の点で満足できるものが得られ難いため
、Vユウ酸や酒石酸のような酸を添加したり(特開昭5
3−3216号、同58−65430号)、高分子有機
酸を添加したり(特開昭56−107238号)、下塗
シ層を設けたシ(特開昭56−21126号)すること
によって上記の欠点を解決する方法等が知られているが
いまだ充分でない。
また一方、作業性等の点から、最近になって印刷版の高
感度化が強く望まれておシ、ジアゾ感光材料の分野でも
、種々の検討がなされている(例えば特開昭57−11
8259号)。
〔発明が解決しようとする問題点〕
しかし、ジフエエμアミンー4−ジアゾニウム塩と力μ
ボール化合物との重縮合では、七p比、反応条件−置換
基等を選択すれば高感度ジアゾ化合物は得られるものの
現像性、保存安定性の点で難がある(特關昭59−78
340号Xマタ、ジフェニルアミンとホμムアルデヒド
とノ縮合物は、420〜s o o nmの可視領域に
も吸収を有し、この波長の光を吸収して分解するので白
色灯下での取扱いが非常に困難であり、これは製造上及
び使用上の重要な欠点となる。
このジフェニルアミンとホμムアルデヒドの縮合物以外
の新規なジアゾ感光材料も検討されている(特開昭54
−30121号、同58−127925号、同58−6
2641号)。特開昭54−30121号公報には、主
鎖がポリエステμ基である、ジアゾ化合物に関する記載
があるが、溶媒としてトリフルオロ酢酸のような試薬を
使う必要があシ、かつ反応条件も高温・長時間であシ実
用上難しい。
他方、特開昭58−62641号、同58−12792
3号各公報に記載の新規ジアゾ化合物は、反応条件とし
ては改善されているものの、合成工程が多く、繁雑であ
る。また得られた新規ジアゾ化合物の現像性は不良であ
り感光層へ加えられる量が制限される。
本発明の第1の目的は、よシ感度の高い感光性組成物を
提供することにある。
第2の目的は保存安定性に優れかつ優れた現像性を発揮
する感光性組成物を提供することにある。
第3の目的は白色灯下で扱ってもかぶりが少なく、作業
性が良好な感光性組成物を提供するととKある。
第4の目的は、良好な露光可視画性を持つ感光性組成物
を提供することにある。
第5の目的は、反応条件がマイルドで製、迫上でも有利
な感光性組成物を提供することにある。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明を概説すれば、本発明は感光性組成物に関する発
明であって、力μボイ酸残基又は無水力!ボン酸残基を
有する重合体に下記一般式: (式中、R1は少なくとも1個の水酸基を有するアμキ
μ基、γμケ二μ基、アリーμ基又はアクμキμ基を示
し、R8は水素原子、アμキμ基、アμケニμ基、アリ
ーμ基又はアブμキμ基を示し、R3及びR4は同−又
は異なシ、水素原子、アμキμ基又はアμコキシ基を示
し、Pはアニオンを示す)で表わされるジアゾ化合物を
結合してなるジアゾ樹脂を含有することを特徴とする。
以下、本発明を具体的に説明する。
本発明におけるジアゾ樹脂は、カルボン酸残基又は無水
力μポン酸残基を有する重合体に、前記一般式(I)で
表わされる水酸基を持ったジアゾ化合物をエステμ化反
応させることによって得られる。
エステμ化反応は、例えば1968年アカデミツク プ
レス(Academic Preas )  発行、サ
ンドラ−カロ(5andier Karo )  著、
オーガニック ファンクンョナ〃 グ!−プ プレバレ
ージョン(Organic Functional G
roupPreparation )第1巻等の、公知
の方法に準じて行えばよい。
その際、エステμ化率はジアゾ化合物(I)の仕込み量
を変化させることによシ自由にコントローμできる。し
たがって、現像性、露光可視画性等、諸性能のバランス
を、仕込み量を変え、できる。ジアゾ化合物(I)の導
入率は、10tI6から95%好ましくは15から90
チが好ましい。
また、本発明においては、重合体に導入されたジアゾ化
合物のアニオンを常法に従い、他の所望のアニオンと置
換して使用してもよい。
ジアゾ化合物としては、前記一般式(I)で表わされる
ものが挙げられる。
式中 R1の具体例としては、2−ヒドロキシエチμ基
、1−ヒドロキVエチ〃基、ヒドロキy ) fμ基、
1.2−ジヒドロキVエチμ基、ヒドロキシフェニμ基
、ヒドロキシ□トリμ基、ヒドロキVキシリp基、ヒド
ロキVベンジ〃基、ヒドロキシスチリル基、ヒドロキシ
シンナミル基、ヒドロキシナフチμ基等が挙げられる。
R2の具体例としては、メチル基、メチル基、プロピμ
基、ビニμ基、アリμ基、フエニル基、ベンジμ基等が
挙げられる。
R1、Wの具体例としては、メチル基、メチル基、プロ
ピμ基、メトキシ基、エトキシ基等が挙げられる。
Pの具体例としては、デカン酸及び安息香酸などの有機
カルボン酸、フエ二μリン酸すHの有機リン酸及びスμ
ホン酸を含み、典型的な例としては、メタンスμホン酸
、クロロエタンスμホン酸、ドデカンスμホン酸、ベン
ゼンスルホン酸、トルエンスμホン酸、メVチレンスA
/Itン酸及びアントフキノンスμホン酸、2−ヒドロ
キS/ + 4−メトキンベンゾフェノン−5−スルホ
ン酸、ヒドロキノンス!ホン酸、a−アセチμベンゼン
スμホン酸、ジメチ*−5−スμホイソフタレートなど
の脂肪族並びに芳香族:X、lvhン酸、2.2’、 
 4.4’−?トリヒドロキンベンゾフェノン、  ?
、2.3−)リヒドロキVベンゾフェノン、2.2’t
4−トリヒドロキンベンゾフェノンなどの水酸基含有芳
香族化合物、ヘキサフμオロリン酸、テトヲフμオロホ
ウ酸、ZnC!−などのハロゲン化ルイス酸、ClO4
1’ IO;などの過ハロゲン酸などが挙げられる。
前記一般式(I)で表わされるジアゾ化合物のうち代表
的な化合物を下記に示すが、本発明はこれに限定される
ものではない。
2H11 C,Hs H3 O2馬 カルボン酸残基又は無水カルボン酸残基を有する重合体
としては、例えば、下記式(m)  〜(VI)で表わ
されるような構成単位を有する重合体:イタコン酸、そ
の半エステμ又はその無水体;酸性上μロース誘導体;
酸性ポリビニμアμコーμ等が挙げられ′る。
(式中、R6及びtは水素原子又はアルキμ基、例えば
、炭素数1〜8のアルキμ基を示し、yは水素原子、メ
チル基、アμキμアミド基、アラμキμアミド基あるい
はアリーμアミド基、例エバ、プロピμアミド基、ヘキ
Vfi/アミド基、)二μアミド基、フェニルアミド基
、p−ヒドロキシフエ=μアミド基、ベンジルアミド基
を表わし R7はフェニレン基又はヒドロキシ基を有し
ていてもよい炭素数1〜7のアμキVン基、例えば、ヒ
ドロキシメチレン基、メチレン基、エチレン基、ブチレ
ン基、ヘプチレン基を表わし、マは水素原子、ヒドロキ
シ基、アクロイル基、メタクロイル基、フエニル基等の
置換基で置換されていてもよいアルキル基若しくはシク
ロアμキμ基、例えば、ヒドロキシエチμ基、ベンジ*
基、S’クロヘキJiL’l&、シクロベンチρ基、又
はアリーμ基、例えば、フエニル基、トμイμ基、p−
ヒドロキシフエニyxt表わシ、R1@ハヒドロキV基
、フエニル基等の置換基で置換されていてもよいアルキ
μ基、例えば、アミ〃基、ドデV/I/基、ヒドロキシ
エチμ基、ベンジy基、アリμ基、アリーμ基、例えば
、フエニル基、p−ヒドロキシフエニμi、)/l/イ
〃基、又はVクロアルキμ基、例えば、Vり!ヘキシμ
基、シクロベンチμ基を表わし、nは0又は1を表わす
。) 上述の式(m)で表わされる構成単位を与える化合物と
しては、例えば、アクリμ酸、メタクリμ酸、クロトン
酸、イタコンアエ〃酸、オレイン酸、ビニμ酢酸、ビニ
ルグリコ−μ酸、ビニμ安息香酸等が挙げられる。
式(■)で表わされる構成単位を与える化合物としては
、例えば、マレイン酸、マンイン酸モノアμキμエステ
μ、マレイン酸モノヒドロキシアμキμエステp1マレ
イン酸モノベンジpエステμ、マレイン酸モノフエニμ
エステμ、マレイン酸モノシクロヘキシμエステμ、ツ
マμ酸又はその半エステμ、Vトツスン酸又ハソノ半エ
ステμ等が挙げられる。
式(V)で表わされる構成単位を与える化合物としては
、例えば、マレイン酸モノアμキμアミド、マレイン酸
モノヒドロキVアfi/’ffi/アミド、マレイン酸
モノベンジ〃アミ、・ド、マレイン酸モノフエニμアミ
ド、S/)フコン酸モノアμキ〃アミド、Vトラコン酸
七ノフエニμアミド等が挙げられる。
式(Vl)で表わされる構成単位を与える化合物として
は、例えば、無水マレイン酸、無水Vトラコン酸等が挙
げられる。
イタコン酸、その半エステル又は゛その無水物としては
、イタコン酸、イタコン酸モノアμキμエステ〃、イタ
コン酸モノベンジμエステμ、イタコン酸モノフェノキ
Vエチμエステμ、イタコン酸七ノフエニμエステル、
イタコン酸モノシクロヘキシルエステル、無水イタコン
酸等が挙げられる。
酸性上μロース誘導体としては、例えば、七μロースア
セテートフタレート、ヒドロキシプロピμメチμ七μロ
ースフタレート、ヒドロキシプロピμメチルセμロース
へキサヒドロフタレート等が挙げられる。
また、酸性ポリビニμアμコーpとしては、ビニμアμ
コー/I//ビニμフタV−)共重合体、ビニμアセテ
ート/ビニμア〃コー)V/ビニルフタレート共重合体
等が挙げられる。
上記式(III)〜(Vl)の内、(VI)は特に合成
が容易であるという点で好ましい、また、Hg及び2は
水素原子又はメチμ基が好ましい。
上記本発明のカルボン酸残基又は無水カルボン酸残基を
有する重合体は、公知の方法に従い、上記の各構成単位
を与える化合物を単独重合、或いは、共重合することK
よシ合成することができる。
共重合成分としては、(m)〜(Vl)のモノマーと共
重合するものであれば良く、特に限定されない。具体的
にはスチレン類、アクリル酸エステμ、メタクリμ酸エ
ステル類、ビニルエステル類、アクリルアミド類、メタ
クリルアミド類、ビニμケトン類、エチレン、プロピレ
ン等のオレフィン類、ビニルエステル類、その他N−ビ
ニμピロリドン、N−ビニルカμパゾー!、4−ビニル
ピリジン、アクリロニトリル、メタクリロニ) !j 
/I/醇が挙げられるがこれ以外でも共重合するもので
あれば良い。共重合成分は10−e A/ %から90
1す、好ましくは15モミv%から85モ/l/%が望
ましい。
本発明の重合体としては、通常、平均分子量が1.00
0〜10万、好ましくは2,000〜5万のものを使用
する。
本発明の感光性ジアゾ樹脂は、例えば平版印刷版の製造
に当り、単独でも使用することができるが、種々の合成
樹脂と混合して使用することができる。例えば、水酸基
を有する親油性高分子化合物と混合することが有利であ
る。この目的に使用しりろ水酸基を有する親油性高分子
化合物としては、例えば、下記の化ツマ−を含有する通
常2万〜20万の分子量をもつ共重合体が挙げられる。
(1)芳香族水酸基を有するモノマー、例えばN−(4
−ヒドロキシフエニiv)アクリルアミド又tiN−(
4−ヒドロキシフエニ/L/)メタクリルアミド、o 
+、  m +、  p−ヒドロキシフェニル、0−2
m−2p−ヒドロキシフェニル−アクリレート又は−メ
タクリレート (2)脂肪族水酸基を有する化ツマ−1例えば2−ヒド
ロキシエチ〃アクリV−ト又は2−ヒドロキシエチルメ
タクリV−) 共重合する他の化ツマ−としては (1)アクリル酸、メタクリご酸、無水マレイン酸等の
α、β−不飽和カルボン酸 (2)  アクリル酸メチル、アクリル酸メチル、アク
リル酸プロピμ、アクリμ酸ブチy1アクリル酸アミμ
、アクリル酸ヘキシμ、アクリル酸エステ〃、アクリル
酸−2−り、ロロエチ〃、2−ヒトワキVエチμアクリ
レート、グリシジμアクリレート、N−ジメチμアミノ
エチμアクリレート等の(置換)アμキルアクリV−ト (3)  メチpメタクリV−ト、エチルメタクリレー
ト、プロピμメタクリレート、ブチルメタクリレート、
アミルメタクリレート、Vクロヘキシルメタクリレート
、2−ヒドロキシエチμメタクリレート、4−ヒドロキ
シブチルメタクリV−)、グリシジμメタクリレー11
N−ジメチμアミノエチルメタクリレート等の(置換)
アμキμメタクリレート (4)  アクリルアミド、メタクリルアミド、N−メ
チロ−μアクリルアミド、N−メチロールメタクリμア
ミド、N−エチ〃アクリμアミド、N−ヘキシμメタク
リμアミド、N−7クロヘキVμアクリμアミド、N−
ヒドロキシエチ!アクリμアミド、N−フェニルアクリ
μアミド、N−ニトロフエニpアクリμアミド、N−エ
チ/l/−N−フェニルアクリμアミド等のアクリルア
ミド若しくはメタクリルアミド類 (5)  !+μヒニμエーテμ、2−クロロエチルビ
ニルエーテμ、ヒドロキシエチμビニμエーテμ、プロ
ピμビニμエーテル、ブチルビニμ工−テμ、オクチル
ビニルエーテル、フエニμビニμエーテル等のビニルエ
ーテル類<6)  1/二μアセテート、ビニルクロロ
アセf −ト、ビニμプチレーF1安息香酸ビニρ等の
ビニルエステル類 (7)  スチレン、α−メチ/L’スチンン、メヂル
スチレン、クロロメチルスチレン専のスチレン類 (8)  メチμビニμケトン、エチルビニルケトン、
プロピルビニルケトン、フエニμビニμケトン等のビニ
ルケFン類 (9)  エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタ
ジェン、イソプレン等のオレフィン類(ト) N−ビニ
ルピリジン、N−ビニ〃力μパゾーμ、4−ビニルピリ
ジン、アクリロニトリ!、メタクリロニトリμ等 が挙げられるが、その他、水酸基を含有する化ツマ−と
共重合しうるモノマーであれば良く、これに限定される
ものではない。また、これ・以外にも必要に応じて、ポ
リビニルプチフーμ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアミ
ド樹脂、エボキV樹脂、ノボラック樹脂、天然樹脂等を
添加してもよい。
水酸基を有する親油性の高分子化合物は、感光性組成物
の固形分中に通常1〜99重量%、好ましくは5〜95
重量%含有させる。また、ジアゾ樹脂は通常1〜60重
fkLs、好ましくは3〜30重量%含有させる。
本発明の感光性組成物には、更に性能を向上させるため
に以下に示した種々の公知の添加剤を加えることができ
る。
(1)  画像を可視画化することを目的とした染料(
2)塗布性を改良するだめのフッ素系界面活性剤やアN
’f/L/エーテル類 (3)塗膜の柔軟性、耐摩耗性を付与するための可暖剤 (4)感脂化剤 (5)安定剤 これらの添加量は一般に全固形分に対し101〜30重
量−である。
本発明の感光性組成物は適当な溶媒、例えばメチルセロ
ソルブ、メチルエチルケトン、エチμ七ロソμプ、シク
ロヘキサノン、ジオキサン、酢酸エチμ、ベンジμアμ
コーμ、ジアセトンアμコーμ等に溶解して支持体に塗
布する。
かかる支持体としては、公知のいずれのものも使用でき
るが、アルミニウム板、その他の金属板、金属フミネー
トフイルム等が好適であり、特にアルミニウム板が好ま
しく、塗布量としては、乾燥重量で通常的cL5〜約5
1/wt”である。
このとき、用いるアルミニウム板はあらかじめ周知の方
法に従い、砂目型て処理、陽極酸化処理、親水性処理等
の表面処理を行っておくことが好ましい。
砂目型て法としてはプフV研摩及び電解エツチング法等
が用いられるが均質な砂目が得られる電解エツチングが
よシ好ましい。陽極酸化処理は、硫酸、リン酸及びその
混酸等で行われるが、陽柩酸化被膜量としては2〜50
η/dm”が好ましく、更に好ましくは5〜50111
1/ di”である。2岬/d−未満では非11181
部の耐摩耗性が弱く、耐刷力不足となシ、50岬/d−
超では1iIl像再現性が不良となる。
親水化処理としては熱水封孔やケイ酸ソーダ処理が挙げ
られるが接着性やジアゾ残シ、現像性の点からは、ケイ
酸ソーダ処理が好ましい。
ケイ酸ソーダ処理の条件としては濃度[1,1〜5−の
メタケイ酸ソーダ溶液中に、温度50℃〜95℃で10
秒間〜5分間浸漬して行われる。
好ましくは、その後に60℃〜100℃の水に10秒間
〜5分間浸漬して処理される。
こうして製造した感光性平版印刷版上に、常法に従って
被写物を重ねて露光するか電子線等を照射して画像の書
込みを行った後、現像液を用いて現像すれば支持体上に
対応する画像を形成させることができる。露光に好適な
光源としては、メタルハフイドヲンブ、水銀灯、カーボ
ンアーク灯等が挙げられる。
以下に、この新規ジアゾ樹脂の代表的化合物の合成例を
示す。
合成例1(ジアゾ樹脂−1の合成) 4−(N−エチμ−N−ヒドロキシエチ/I/)−アミ
ノベンゼンジアゾニウム塩化亜鉛塩29.6g(α1モ
/L/)トへキサフロオロリン酸アンモニウム19.6
9 ((L 12モ/L/)を200−の水中で水冷下
混合しジアゾのヘキサフμオロリン酸−1m[2B、F
を得た。このジアゾのへキサフルオロリン酸jlji&
 y 9 (o、 024A/) ト:xfV://無
水マVイン酸(1/1 )共重合体(三京化成社製スチ
フイ)CM−2L、重量平均分子量5.000)114
g(Q、02モ/I/)とp−)μ工:/71V*:y
酸701F((LCI0044/L/)を8(ldのア
セトンに溶解し3時間室温でかくはんした後、1!IL
夜放置した。
この溶液を2tの水に滴下し生じた沈殿をr取し水洗し
た後、30℃1里夜乾燥してジアゾ樹脂−1を得た。ジ
アゾ樹脂−1は無水マレイン酸部分が完全に開環し半エ
ステル化していることがIRによシ確認された。
合成例2(ジアゾ樹脂−2の合成) メタクリル酸メチμと無水マレイン酸の共重合体(1:
1)5g(2S、3ミリ−e−y ) (重量平均分子
量820G)と合成例1に記載したジアゾのヘキサフμ
オロリン酸塩&5i(25,5ミリ七μ)とp−)〃エ
ンスμホン酸87 q(α51ミリモμ〕を80−のア
セトンに溶解し3時間室温でかくはんした後、1尾夜放
置した。
この溶液を2tの水に滴下し生じた沈殿をr取し水洗し
た後30℃1里夜乾燥してジアゾ樹脂−2を得た。
ジアゾ樹脂−2は、無水マレイン酸部分が完全・に開環
し半エステル化していることがIRによシ確認された。
合成例3(ジアゾ樹脂−3の合成) p−ジアゾジフェニルアミン硫酸414.5p(50ミ
!jモ/L/)を氷冷下で4CL99の濃硫酸に溶解し
た。この反応液に1.29 (40ミリ七μ)のバラホ
μムアμデヒドをゆつくシ滴下した。この際、反応温度
が10℃を超えないように添加していった。その後、2
時間水冷下かくはんを続けた。
この反応混合物を水冷下、500+dのエタノ−μに滴
下し、生じた沈殿を一過したらエタノ−μで洗浄後、こ
の沈殿物を100−の純水に溶解し、この液に6.8g
の塩化亜鉛を溶解した冷濃厚水溶液を加えた。生じた沈
殿を一過した後エタノ−〃で洗浄し、これを150−の
純水に溶解した。この液に81のヘキサフμオHリン酸
アンモニウムを溶解し九冷濃厚水溶液を加えた。生じた
沈殿をP取し水洗した後、30℃、1g夜乾燥してジア
ゾ樹脂−3を得た。
このジアゾ樹脂−5をGPCにょシ分子量の測定をした
ととる、5量体以上が約55モfi/s含まれていた。
合成例4(ジアゾ樹脂−4の合成) 4−(N−ベンジμ−N−ヒドロキ!//L/エチ1v
)−アミノベンゼンジアゾニウム塩化亜鉛塩3■1(α
1モN)と2−オキV−4−メトキVベンゾフェノン−
5−スμホン酸stsg(α12モ/L/)を200−
の水中で水冷下混合し、ジアゾの2−オキS/ + 4
−メトキシベンゾフェノン−5−スルホン酸*5apt
得た。以下の操作はジアゾ樹脂−1と同様に(ポリマー
は0M2L)行い、ジアゾ樹脂−4を得た。
ジアゾ樹脂−4も無水マレイン酸部分が完全に開環し半
エステル化していることがIRによシ確認された。
合成例5(ジアゾ樹脂−5の合成) 2.5−ジメトキシ−4−(−(N−エチル−)−ヒド
ロキVエチiL/)−アミノコベンゼンジアゾニウム塩
化亜鉛塩55.69(α1モ/I/)と2−オキV+ 
4−メトキシベンゾフェノン−5でスμホン酸36.8
9 (α12モ/L/)を200−の水中で水冷下混合
し、ジアゾの2−オキシ−4−メトキンベンゾフェノン
−5−スpホン酸塩559を得た。以下の操作はジアゾ
樹脂−1と同様に(ポリマーはCM−2L)行い、ジア
ゾ樹脂−5を得た。
合成例6(アルミニウム板−1) アルミニウム板を3慢水酸化ナトリウム水溶液に浸漬し
て脱脂し水洗し、1%塩酸、1東ホウ酸水溶液中25℃
で5A/d−の電流密度で5分間電解エツチングし、水
洗し、19%水酸化ナトリウム水溶液に浸漬し、水洗し
、40%硫酸水溶液中、50℃でt 5 A/dがの電
流密度で2分間陽極酸化し、水洗し、90℃の水pl(
a 5に25秒間浸漬し、水洗乾燥してアルミニウム板
−1を作成した。
〔実施例〕
以下、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、
本発明はこれら実施例に限定されない。
実施例1 上記合成例6で得たアlvミニウム板−1に次のような
組成を有する感光液−1又は2、比較感光液−1をホワ
ラーを用いて塗布した。その後85℃の温度で3分間乾
燥し感光性平版印刷版を得た。塗布量は乾燥重量で1.
5 ji/がであった。
(感光液−1又は2) (比較感光液−1) 類ポリマー1は、下式で示した組成で重量平均分子量は
a5万 一−CH,−CMe−カー cooH(仕込み組成) 得られた感光性平版印刷版を5 kW、超高圧水銀灯で
1005Rの距離から30秒間露光し、現像液−1で現
像し、平版印刷版を得た。これらの版の所定期間保存後
の現像性と感度を測定し、その結果を表1に示した。
(現像液−1) 表1よυ本発明の新規ジアゾが高感度でかつ現像性が良
好であることがわかる。番号1の印刷版をハイデルベμ
グ社製GTO印刷機に取付は印刷を行った所、良好な初
期着肉性を示し、感脂性の点でも問題ないことがわかっ
た。
実施例2 アμミニウム板−1に、次のような組成を有する感光液
3,4又は5、比較感光液2,3又は4をホワフーを用
いて塗布した。その後85℃の温度で3分間乾燥し感光
性平版印刷版を得た。塗布量は乾燥重量で1.59/m
”であった。
(感光液−3,4又は5) (比較感光液−2,3又は4) (メチμセロソpブ       180d得られた感
光性平版印刷版を実施例1と同様に露光、現像し平版印
刷版を得た。これらの版の所定期間保存後の現像性、感
度、露光可視画性を測定し、その結果を表2に示した。
表2よυ本発明の新規ジアゾの場合、添加量をふやして
も現像性が良好であることがわかる。
番号5の印刷版をへイデpべμグ社製GTO印刷機に取
付は印刷を行った所良好な初期着肉性を示した。
また得られた印刷版の画像再現性は極めて良好であった
実施例5 実施例1と同様にして感光液−6を塗布し、露光・現像
して平版印刷版を得た。
(感光液−6) 親ポリマー2は下式で示した組成で重量平均分子量は&
3万 得られた平版印刷版をハイデμペルグ社製G’rO印刷
機に取付は印刷を行った所、画像再現性、初期着肉性共
、良好であっ九。
実施例4 実施例1と同様にして感光液7又は8を塗布し、露光・
現像して平版印刷版を得た。
(感光液−7又は8) 得られた平版印刷版をハイデμべ〜グ社製GTO印刷機
に取付は印刷を行った所、画像再現性、初期着肉性共良
好であった。
〔発明の効果〕
以上説明したように、本発明の感光性組成物を使用すれ
ば、高感度で保存安定性に優れ、かつ現像性、露光可視
画性及び耐刷力に優れた感光層が得られるという顕著な
効果が奏せられる。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、カルボン酸残基又は無水カルボン酸残基を有する重
    合体に 下記一般式 I : ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・・( I
    ) (式中、R^1は少なくとも1個の水酸基を有するアル
    キル基、アルケニル基、アリール基又はアラルキル基を
    示し、R^2は水素原子、アルキル基、アルケニル基、
    アリール基又はアラルキル基を示し、R^3及びR^4
    は同一又は異なり、水素原子、アルキル基又はアルコキ
    シ基を示し、x^■はアニオンを示す)で表わされるジ
    アゾ化合物を結合してなるジアゾ樹脂を含有することを
    特徴とする感光性組成物。 2、該一般式 I において、R^3及びR^4が水素原
    子である特許請求の範囲第1項記載の感光性組成物。 3、該一般式 I において、R^1が2−ヒドロキシエ
    チル基である特許請求の範囲第1項記載の感光性組成物
    。 4、該一般式 I において、R^1が2−ヒドロキシエ
    チル基で、R^2がエチル基である特許請求の範囲第1
    項記載の感光性組成物。 5、該一般式 I において、x^■がPF_6又はBF
    _4である特許請求の範囲第1項記載の感光性組成物。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0561191A (ja) * 1991-09-04 1993-03-12 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性平版印刷版
JPH05165206A (ja) * 1991-12-17 1993-07-02 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物
US6514657B1 (en) 2000-07-19 2003-02-04 Kodak Polychrome Graphics, L.L.C. Photosensitive composition for lithographic printing plate and photosensitive lithographic printing plate
US6689539B2 (en) 2000-01-05 2004-02-10 Kodak Polychrome Graphics Llc Photosensitive composition and photosensitive lithographic printing plate

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JPH05165206A (ja) * 1991-12-17 1993-07-02 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物
US6689539B2 (en) 2000-01-05 2004-02-10 Kodak Polychrome Graphics Llc Photosensitive composition and photosensitive lithographic printing plate
US6514657B1 (en) 2000-07-19 2003-02-04 Kodak Polychrome Graphics, L.L.C. Photosensitive composition for lithographic printing plate and photosensitive lithographic printing plate

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