JPS61266334A - ガラス基材表面に銀を密着させる方法およびこの方法による銀被覆鏡の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は鏡に関し、ざらに詳しくは、ガラスに銀を密
着させる方法に関する。

光の反射面である鏡は、ガラス面に金属製またはアマル
ガムの裏打ちを施すことによってふろくから広く作製さ
れてきた。銀の褒打ちが、°　　高い反射性をもたらす
ために好ましい。

この発明以前には、ガラス面に銀層を被覆する従来の方
法は一般に３種類に分類される。すなわち湿式化学的無
電解法、有機金属法および真空蒸着法である。ガラス面
を銀でメッキする例えば電解法のごとき別の゛周知方法
があるが、コスト高であるため商業的目的には適さない
。

ガラス面を被覆する従来の各方法では各々長所と短所が
ある。しかしながら、それらの方法は長年にわたって高
品質の鏡を作製するために好結果で使用されてきたが、
従来においては多くは室内にて使用されていた。ここ数
十年にわたって、へりオスタツトやその他の太陽コレク
タ用として室外で鏡を使用する関心が高まってくると、
これら従来の方法で作製された鏡の欠点が一層重大視さ
れてきた。

例えば、従来の銀被覆ガラス鏡は複合体構造となってい
る。これらの構造は通常、基材のガラス層、゛このガラ
ス面上の薄い銀反射体面、この銀層上の銅層、および主
として重合体、炭素。

鉛、バリウム、チタンその他の重金属類からなるペイン
ト物質の保護層から構成されている。

この種の鏡の構造は長年にわたって室内での使用に対し
て満足すべきものであったが、地上の室外環境に置かれ
た場合には、これら鎖構造の反射性能やその他の光学的
性質は劣化する。特に、銀は凝集しやすく、酸化物、硫
化物、塩化物が生成し、構成層間での拡散が起こり、ガ
ラス基材と銀層との密着性がなくなる。かような条件の
１つの例は、水分と酸素、硫化水素（ＨＳ）、二酸化イ
オウ（３０２）および／または塩化水素（ＨＣＩ　＞と
の結合物のごとき環境ガスや汚染物があり、かような結
合物はペイント保護層を通して拡散し、銅および銀反射
体層と反応する。銀反射体層とガラス基材との界面領域
や複合体鎖構造の側縁部で、電気化学的反応も起る。劣
化は代表的には数か月から数年で起り、太陽コレクタの
ごとき装置の所望寿命が２０〜３０年であるのに比べて
耐久性がない。

湿式化学的無電解や有機金属法で作製された銀被覆鏡は
化学的劣化を起して反射率の低下をもたらすが、スパッ
タリングや真空蒸発のごとき真空蒸着法で作製された鏡
は一般に光学的性質に優れかつ不純物も少ない。しかし
ながら、ガラス面と銀層との密着性がなくなりやすく、
銀層はフレイク状になってガラス基材面から剥がれ落ち
る。商業的規模のヘリオスタットや太陽コレクタ装置に
は表面積の非常に大きい鏡を必要とするため、鏡の耐久
性が数倍向上しなげればこれらの装置は経済的に成り立
たない。

従ってこの発明の一般的目的は、地上の室外環境で使用
する際に化学的劣化やフレイキングや剥離に耐性をもつ
銀被覆鏡を製造する方法を提供することである。

この発明の別な目的は、従来の銀被覆鎖構造における劣
化の原因を調べ、かような劣化の問題を軽減させる方法
を提供することである。

この発明のざらに別な目的は、銀被覆ガラス鏡の製造過
程で銀／ガラス界面に入り込む不純物を最少にし、得ら
れる多層鏡構造の安定性を最大にすることである。

この発明のざらに別の目的は、真空蒸着法において膨大
な数の銀−ケイ素結合をつくり、ガラス面からの銀層の
剥離やフレイキングをなくすことである。

上記の目的およびその他の目的を達成するために、この
発明の方法は、ガラス基材の表面を真空中でケイ素が富
化されるようにし、次いでこれを真空中に保持しながら
ケイ素富化表面上に銀の層を被覆することから構成され
る。必ずしも常に必要ではないが、本プロセス中にこの
ケイ素富化表面を紫外線に曝すことが望ましい場合もあ
る。

基材表面から酸素を除去してケイ素富化表面とする方法
には、電子ビーム衝撃、イオンビーム衝撃および中性ビ
ーム衝撃等がある。基材表面のケイ素富化は、酸素に対
する親和力がケイ素よりも大きいアルミニウムのごとき
金属を基材表面に被覆することによっても達成できる。

このアルミニウムがケイ素から酸素を引張り出して基材
表面上に酸化アルミニウム層を形成する。そしてアルミ
ニウムの酸化反応により酸素が除去された基材表面はケ
イ素富化層となって酸化アルミニウム層の下層に形成さ
れる。この酸化反応を促進させるために熱が用いられる
。

次に、この酸化アルミニウム層は、例えば真空中でのイ
オンビーム衝撃によって食刻除去でき、これによってケ
イ素富化基材表面が露出された状態となる。ケイ素富化
基材表面を（ｑる別な方法としては、基材表面にケイ素
富化層を真空蒸着する方法がある。

この発明は、鎖構造体を重合体で包封することも含んで
いる。この発明により製造された望ましい鎖構造体は、
酸化ケイ素または酸化アルミニウムといった透明金属酸
化物の拡散バリヤ層を基材表面に真空蒸着した透明重合
体基材を備えている。９銀層はこの拡散バリヤ層上に被
覆される。そしてもう１つの同様な拡散バリヤ層がこの
露出銀層表面に被覆される。この銀層および拡散バリヤ
層は次いで重合体シェルによって包封され、各層の表面
、端縁部および界面縁部がすべて密封的にシールされる
。

この発明による銀被覆鏡の優れた効果を理解するために
、野外環境に曝された場合に劣化ヤフレイキングや剥離
問題を起す従来の鏡製造方法に起因する欠陥について考
察することも有益であろう。これらの欠陥は本発明者等
によって発見されたものであり、この発明以前には認識
されていなかった。実際に、銀−ガラス結合の特性や特
徴はこの発明以前には理解されていなかった。ここで１
ｑられた理解は、後述するようにこの発明による鎖構造
に反映されている。

従来の湿式化学的無電解法により製造された鎖構造体１
０を第１図に示す。ガラス基材１２はその表面に銀（Ａ
ｇ）層１４を有している。

この銀層１４の上には銅（Ｃｕ）層１６が設けられ、こ
の銅層１６の上には保護ペイント被膜１・８が設けられ
ている。このペイント被膜１８は通常、鉛、バリウム、
チタン等の重金属類や炭素と重合体との混合物からなり
、酸素および水に対する厚い密なバリヤをもたらず。

自然環境でのガラスの表面層は、ガラス酸化ケイ素（Ｓ
ｉＯｘ）格子のケイ素（Ｓ　ｉ　）原子に結合した水酸
化物イオン（ＯＨＭから形成されているゲル層を有して
いる。従って、銀層を被覆する前に、従来の湿式化学的
無電解法においては研磨剤で数分間ガラス表面を洗浄し
て、このゲル層を除去している。この研磨剤洗浄でゲル
層のほとんどは除去できる。しかしながら第２図に示し
たように、酸素と水が存在するとガラス表面上に少なく
とも１層の水酸化物イオン（０１−ＩＮを常に残留させ
る。

従来の湿式化学的無電解法における次の工程は、このガ
ラス表面を塩化スズ（ＳｎＣ１２・２日２ｏ）溶液で洗
い、次いで水で洗うことである。次に亜硝酸銀をショ糖
のごとき還元剤および水酸化ナトリウム（ＮａＯＨ＞の
どときＯＨ−の追加的給源とともに添加して銀層１４を
形成する。カルシウム水素化物や鉄ヤスリ屑のごとき還
元剤とともに硫酸銅を用いることによって、銀（Ａｑ＞
層の上に銅（Ｃ（Ｊ）層１６を設ける。次にこの構造体
を赤外ランプ下で乾燥したのちペイントを塗布する。

上述したように、従来の湿式化学的無電解法により製造
された鏡は優れた光学的特性をもたらすが、室外・環境
では急速に劣化する。上記のプロセスがどのように働く
か、あるいは何がその欠陥を構成するのかということは
従前は知られていなかった。しかしながら、本発明者等
は、このプロセスがどのように働くか、どんな欠陥が急
速な劣化に寄与するか、また、どのようにしたらこの問
題を解決できるかを調べた。以下に、湿式化学的無電解
法の本発明者等の分析とその欠陥の説明を述べる。

上述したように、第２図に示した格子は、表面からゲル
層が洗浄されたのちに、下層の隣接原子層のケイ素（Ｓ
　ｉ　）原子に結合した水酸化物イオン（０１−ＩＮの
表面層が残留しているガラス基材（Ｓ１０ｘ）の表面層
を表わしている。

この表面を塩化スズ（ＳｎＣｌ２）−溶液で洗うと、第
３図に示したように（ＳｎＣ１３）−錯体が３ｉ原子と
ＯＨイオンとの間の共有結合中に入り込んでくる。その
結果、第４図に示したように、（ＳｎＣｌ２　（ＯＲ＞
）−錯体が８１原子に結合する。　　゛ 次に、この表面を水で洗い流すことにより、下式に従っ
て０１−が除かれる。

！−１２０＋ＣＩ−→１ｌｃＩ＋ＯＨ″′その結果、３
ｎに付いていたＣ１−イオンは洗い流されて第５図に示
したように水酸化物イオン０１−１−に置換される。

１つの追加的ＯＨ−は５配位子Ｓｎ錯体を６配位子Ｓｎ
錯体に変換する。第６図は、１つの追加的ＯＨ−がＳｎ
に付いた状態を示している。

この工程は、例えば水酸化す１−リウム（ＮａＯＨ）を
添加して１）Ｉ−（を上げることによって促進される。

次いでＡｇがＳｉを攻撃してこれと結谷し、第７図に示
したように、３ｉに以前から結合していたＯＨ−イオン
と置換する。

そして２つの置換されたＯＨ−イオンはＳｎ原子と結合
する。３ｎは６個のＯＨ−イオンとともに５ｎ（ＯＨ）
６”−となり、余った１つのＯＨ−基がＳｎの代りに３
ｉに結合する。その結果第８図に示したように、１個の
Ｓｎ錯体が結合していた３ｉ原子群毎に、２個のＡｇ原
子が結合することになる。最後に、第９図のように、還
元剤がざらに多数のＡ（ＩＩ原子を結合させて、約７０
０人の厚さに被覆する。換言すれば、八ｇ　イオ゛ンが
還元剤か２ら電子を取入れ、下式のように金属銀となる
。

ＡＣ）　　＋ｅ　　−）Ａｇ” 従って、本発明者等によって見出されたように、従来の
方法で得られたガラス基材１２と銀層１４との間の密着
は、Ａｇと＄１とを直接結合させている△ＣＸ−５＋共
有結合に由来している。しかしながら、本発明者等の実
験によれば、従来の湿式化学的無電解法においては、利
用可能なＳｉ原子の３０％以下しかＳｎ錯体と結合して
いないことを示していた。このことは、銀の６０％以下
が表面ケイ素に結合されうろことを意味する。事実、第
８図と第９図に示したように、湿式化学的無電解法にお
ける完全な条件下で得られる理論的Ａｇ−５＋結合の最
大値は、３ｉ原子３個のうちの２個、すなわち表面層の
３ｉ原子のうちの６７％にしか過ぎない。なぜならば、
この方法においてはこれら３個の８１原子のうち１個は
ＯＨイオンを保持しているからである。従って、ガラス
基材１２に対する銀層１４の密着は、比較的低い理論的
最大強度を有し、実際にはざらに低い強度となる。

ざらに、この種の湿式化学的無電解法で製造された鏡１
０における化学的劣化を受けやすいという特性は、この
製造方法においてＡｇ−８１界面に残留するｓ　ｎ　＋
２やＣトイオンのごとき不純物に起薗する。隣接の銅層
からの銅や不純物、さらにはペイント層からの不純物等
も、銀層の劣化を促進させることになる。従って、これ
らの化学的不純物は鏡１０内に含まれ、この性質はこの
製造方法に本来的なものとなる。

それ故、こうした従来の鏡１０は、本来的に弱い銀−ガ
ラス結合と、それ自体が有する化学的に活性な不純物の
双方を備えており、地上環境での自己破壊を引起すこと
になる。

有機金属法による鏡の製造方法は、有機分子内で錯体化
した銀をガラス基材に適用するものである。有機金属溶
液をガラス基材表面で熱的に分解させるには、溶液２組
成、燃焼温度、燃焼雰囲気等の条件を注意深く制御しな
ければならない。例えば、ガラス基材は先ずクロム酸で
清浄にしてから蒸溜水とアルコールで洗う。次に、錯体
化した銀を含む有機物質溶液をスプレィ等で基月上に単
一被膜または多重層として適用する。最後に、被覆基材
をガラスの軟化点以下の温度、すなわち約４００〜７０
０℃に加熱する。

この有機金属法により製造された鏡の本発明者等による
試験および分析の結果、有効な銀−ガラス密着または結
合は、銀−ガラス界面でのＡｇ−３ｉ共有結合によりも
たらされねばならないことを示した。セバスチャン接着
試験機を用いた接着試験は、銀−ガラス界面での引張り
応力下の破損表面は約９５％ガラスおよび５％銀である
ことを示した。従って、接着試験における破損は、主と
してガラスにおける凝集性であり、銀／ガラス界面での
強いＡｃｘ−ｓ＋結合を示している。

有機金属法で製造された鏡における銀／ガラス界面での
密着または結合の機構は、有機錯体の分解的酸化による
ガラス基材表面でのＳｊの富化に由来することが本発明
者０等により発見された。それらの試験および分析の結
果、ガラスは本来的に高酸素含但を有することを示した
。

しかしながら、上述したごとき有機金属法により得られ
た鏡の銀−ガラス界面でのガラス表面層には酸素が殆ん
どない。有機錯体の４００〜７００℃での熱分解の間、
ガラス面を攻撃して酸素を失う反応が起り、これによっ
てケイ素富化層が残留する。次に溶液中の銀は酸素を失
った３ｉ部位で共有結合を形成する。ガラス面の殆んど
の部分が共有結合した銀で被覆されると、金属銀が無電
解的にこの表面に結合して、厚い比較的純粋な膜を形成
する。

この有機金属法で製造された鏡もまた、いくつかの要因
によって、地上環境で化学的劣化を受けやすいという性
質を有する。有機金属溶液の熱分解中に生成されるガス
類は、銀層表面にボイドおよびざらつきを形成する原因
となるか少なくともその形成に寄与し、曇った乳白色の
外観と劣った反射能をもたらす。これによって、高い反
射能が経済的応用にとって必要とされる太陽コレクタ用
途にかような鏡を有効に使用することができなくなる。

また、この有機金属メッキ法の間に、ガラス基材中の不
純物は表面に移行し、このことが、太陽の紫外線やその
他の地上環境条件に曝されたときに、銀／ガラス界面で
化学的劣化を受けやすくさせる。

スパッタリングや真空蒸発のごとき従来の真空蒸着法に
より製造された鏡は、最高の反射率（９７％の範囲内）
および太陽コレクタ用途に望ましいその他の光学的性質
を有していることが見出されている。じかしながら、ガ
ラス基材に対する銀の密着性は非常に劣っている。事実
、有機金属メッキ法による銀フィルムの密着性は、ガラ
スに銀を真空蒸着させて得られた銀フィルムよりも約１
０倍も強い。明らかに、従来の真空蒸着法で１ｑられた
鏡におけるＡｑ−ｓｉ共有結合は、もしあるとしても、
非常に少ない。

湿式化学的無電解法および有機金属法により製造された
鏡における優れた銀−ガラス密着性の機構としてのへ〇
−８ｉ共有結合に関する本発明者等の発見は、太陽コレ
クタとして戸外で使用した場合にこれらの鏡が劣化を受
けやすい原因についての発見とともに、この発明による
銀のガラスへの新規な密着法およびこの発明の方法によ
り製造された耐久性のある優れた鏡の開発に寄与してい
る。この発明による鏡は、ガラス基材に対する銀層の強
力な密着性のための非常に強いかつ高い割合のＡｇ−３
ｉ共有結合を有し、化学的劣化に寄与する銀／ガラス界
面での不純物を実質的に排除し、真空蒸着による銀被覆
鏡の優れた光学的性質を有している。

この発明の方法は、ガラス基材表面における３ｉ富化を
最大にし、一方、汚染物や不純物を除去するとともに３
ｉ富化表面にＡｑ層を真空蒸着して、最大のＡｑ−ｓ＋
共有結合を得ることを目指している。この発明による銀
のガラスへの密着法に関連する４つの方法を以下に説明
する。

第１の方法は、先ず酸化セリウムのごとき研磨剤でガラ
スを洗浄し、表面の不純物とゲルを除去する。勿論、ガ
ラスが空気中にある場合には常に、第２図に示したよう
なＯＨ−イオンの表面層が存在し、これは空気中の水分
に起因してなくすことはできない。洗浄したガラス基材
は次に真空室に置かれて排気される。１０−４〜１Ｏ−
６Ｐａの範囲の真空によって、通常の条件では満足すべ
き結果を与える。

排気された室内のガラス基材の表面は、電子ビームｐ衝
撃を与えられ、表面が還元され、すなわち表面から酸素
が除去される。この目的のためには、１０００〜５００
０ボルトの範囲のビームで十分である。この電子ビーム
は個々のケイ素−酸素結合を破壊する。表面の酸素は、
それを基材に取付ける１個の結合のみを有しているから
、酸素は除かれ、ケイ素はその別な結合によりマトリッ
クス内に保持される。このプロセスは同様にして継続し
、ガラス基材の酸化ケイ素（ＳｉＯｘ）から酸素を放出
し、かくして基材の表面層を３ｉが富化された状態にす
る。との状態はダングリングボンドすなわち部分的に満
たされた電子軌道を基材表面にもたらし、これによって
Ａｇはきわめて容易に結合することになる。従って次の
工程は、スパッタリングまたは真空蒸発のごとき方法に
よって、５ｉ富化基材表面にＡｇを真空蒸着することで
ある。Ａｇと８１は容易に強力な共有結合を形成し、基
材が清浄になっている限り、すなわち基材が真空中に置
かれている限り、基材表面に銀を密着させる。勿論、一
旦表面がＡｃｔで被覆されると、蒸着は継続してＡＱの
追加的層が所望厚ざまで形成される。

この方法においては、電子ビーム衝撃によって基材表面
から酸素の実質的量を除去して、はぼ１００％の利用可
能なケイ素部位へＡｇを結合させることが可能である。

さらに、他の化学物質は導入されることがなく、またこ
の全プロセスを通じて真空が維持されているため、ＡＱ
−３ｉ界面を汚染する不純物は実質的に存在しない。そ
の結果、非常に強力な密着と、きわめて純粋なＡｇ−３
ｉ界面をもたらし、得られる銀層は、有効な太陽コレク
タ用途に望ましいかつ必要な蒸＠鏡の高品質反射性能と
その他の光学的性質とを備えている。

プロセスの時間の経過とともに、基材表面での８１イオ
ンはそれ自体で再構成して、ダングリングボンドずなわ
ら部分的に満たされた電子軌道がなくなる。しかしなが
ら、△ａ　−Ｓ　ｉ結合は３ｉ−３ｉ結合よりも活性で
あるため、Ａ（Ｊの蒸着に先立つかような３ｉ再構成は
、基材表面での３ｉ富化が殆んど純粋で実質的にすべて
の酸素が除去されている限り、Δｃ２−３ｉ結合の最終
的形成を通常阻害することはない。

加えて、紫外線が５ｉ−３ｉ結合を壊すことになる。従
って、このプロセスの間にＳｉ富化基材表面が紫外線に
対して曝されることは、ダングリング８１結合を維持し
かつこれらをＡＱ原子に対する共有結合に利用されるよ
うに維持する。

この発明の第２の方法は第１の方法と非常に類似してい
る。しかしながら、酸素を除去しかつ基材表面をケイ素
富化とするために電子ビーム衝撃を使用するよりも、イ
オンビームを用いて基材表面に衝撃を与えるものでおる
。このイオンビーム衝撃技法を用いる基材表面からの酸
素放出は、電子ビーム技法に類似する機構または推進力
によってなされるが、酸素と衝突して物理的侵食または
表面からの酸素の優先的スパッタも生じさせる衝撃イオ
ンの量によっても促進される。

この第２の方法の有効な変法は、基材表面から酸素をス
パッタして、基材表面にケイ素富化外層を残さしめるた
めに、ヘリウム、ネオンまたはアルゴンのごとき中性ビ
ームを用いることである。実際、不純物や汚染物質を導
入することなく真空中で基材表面から酸素を優先的に除
去することができる技術であればどんな方法でも、この
プロセスに必要なケイ素富化表面を形成するために有効
であろう。

ガラス基材表面をケイ素富化とする第３の方法は、先ず
研磨剤でガラス表面を洗い流して、できるだけ多足のゲ
ルを除去する。次に、第１０図に示したように、この基
材４２を真空室に置いて、この表面にアルミニウム（Ａ
１）の層４４を真空蒸着またはスパッタリングにより形
成する。このＡ１層４４は、第１０図に示したようにΔ
１原子の単層から１０００Å以上の厚さまで所望の範囲
とすることができる。

次の工程で、基材４２とＡ１層４４をガラスの軟化点以
下の温度、例えば約６００℃に加熱する。ＡＩは基材の
外側層の酸素と反応して酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３
）を形成し、これによってケイ素から酸素を取出すので
ある。その結果ｊｑられる構造は、第１１図に示したよ
うな３層を有する。ガラス基材４２は酸化ケイ素（Ｓｉ
ｎｘ）である。純ケイ素（Ｓ　ｉ　）からなる中間層４
６は、基材から酸素が取出された部分で生成される。酸
化アルミニウム （Ａ１２０３）の層４８は、最初のＡＩ層４４が蒸着さ
れた部分で生成される。

真空が保たれている間、Ａｌ２Ｏ３の層４．８はイオン
ビームまたは中性ビーム衝撃により食刻除去されて、第
１２図に示すように純３ｉの層４６が露出する。最後に
、第１３図に示したように、かつ上述したように、Ａｇ
Ｇ５０をＳｔ層４６の上に真空蒸着し、そこに強力なＡ
ｇ−３ｉ共有結合を形成させる。この場合もまた、不純
物または汚染物質を導入することなく真空中でＩＦｉＩ
ｉｓ；富化基材表面が得られるため、形成されるＡｑ−
ｓ；共有結合は非常に強力で耐久性があり、真空蒸着で
銀被覆された鏡の高品質な光学的特性を備えている。ケ
イ素よりも酸素に対する強い親和力を有する例えばジル
コニウム、クロム、チタン等のアルミニウム以外の金属
も、アルミニウムに代えて使用することができる。

この第３の方法の変法は、第１１図に示したＡｌ２Ｏ３
層を食刻除去せずに、残すものである。その場合、この
種の格子構造においてはＡ１は３ｉと同様に作用するた
め、第１４図に示したように、Ａｌ２Ｏ３層４８上にＡ
ｇ層５０を真空蒸着させることができる。得られる格子
構造は第１５図に示したと同様な構造となろう。

基材表面にケイ素富化層をもたらす第４の方法は、Ｓｉ
Ｏｘ基材の洗浄表面上に純Ｓｉを真空蒸着して、第１２
図に示したような構造を得るものである。次いでこのＳ
ｉ層の上にＡ′ｇ層５０を真空蒸着して、第１３図に示
した鏡構造を１ｑることかできる。

上述したごときこの発明によって鏡構造が得られたのち
、銀被覆反射層５０を空気と水分を透過させない物質で
包封することによって、この銀被覆反射層５０を保護し
、一層耐久性のあるものとすることができる。なぜなら
ば銀は酸素と反応性を有し、腐蝕あるいは曇りを使用す
るからである。この場合、前述したように銀層に対して
有害な効果を伴う銅やペン４１〜層は使用しない。例え
ば第１６図に示したように、銀層５０の上に薄いガラス
層５１を積層することができ、これによってガラス基材
４２とガラス層５１との間に銀層５０を挟み込むように
する。

第１７図は別なシール構造を示すもので、５層０２層５
２が銀層５０の上に真空蒸着される。端部すなわち縁部
は端キャップ５４でシールされる。この端キャップ５４
はエポキシまたはアクリル結合剤から形成されるか、あ
るいはガラス端部を熱またはレーザ溶融することにより
形成される。

第１８図はざらに別なシール構造を示すものでおり、銀
層５０の表面をポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）
のごときプラスチック材料５６で被覆しておる。ＰＭＭ
Ａは市販品として入手しうる最も耐拡散性に優れた重合
体の１つでおり、溶液状の液体として適用することがで
きる。この溶液から溶剤を蒸発させることにより、強靭
な実質的な不透過性のシール層５６が得られる。

この発明によって製造された新規な銀被覆鏡のシールさ
れた複合体構造６０を第１９図に示す。この構造は耐久
性があり、軽旦で、かつ地上環境において劣化から保護
される。ＰＭＭＡのごとき透明重合体基材６２はその上
に、拡散バリヤとなるＳ　ｉ　０２　Ｅ６４が真空蒸着
されている。このＳｉ０３層６４の表面６５は上述した
ようにケイ素富化されており、このケイ素富化表面には
銀層６６が真空蒸着される。この銀層６６の上には５１
０２からなるもう１つの拡散バリヤ層６８が真空蒸着さ
れる。、この工程に先立って、ＳｉＯ２層６８の銀層６
６への密着性を高めるために、銀層６６の上にケイ素富
化被膜６７が真空蒸着される。次に、かくして得られた
構造体を真空室から取出して、その上面および端縁部７
２を重合体層７０で被覆する。

ガラス基材表面をケイ素富化してこのケイ素富化表面に
銀を真空中で被覆するためのこの発明の方法は、シリカ
基材に銀を強力に密着させることが必要なあらゆるプロ
セス、例えば電子回路の製造において二酸化ケイ素を熱
的に成長させる方法等に対しても応用可能である。

以上の記述はこの発明の詳細な説明するためのものでお
って、この発明は上述した実施例のみに限定されること
なく、特許請求の範囲内で種々の変形や変法が可能であ
る。

【図面の簡単な説明】

第１図は従来の銀被覆ガラス鎖構造の代表例を示す断面
図：第２図はガラスの原子格子構造を示１説明図：第３
図、第４図、第５図、第６図、第７図、第８図および第
９図は従来の湿式化学的無電解法においてガラス基材に
銀を適用したときの原子格子構造の変化を示す説明図：
第１０図；第１１図、第１２図および第１３図はこの発
明の１つの方法によってガラスを製造する各工程の鎖構
造を示す断面図：第１４図はこの発明の別な方法によっ
て製造された鎖構造を示す断面図；第１５図は第１４図
の鏡の原子格子構造を示す説明図：第１６図はこの発明
の鎖構造における銀層の保ｒ！！ｉ層を示す断面図：第
１７図は第１６図と類似した保護層の他の実施例を示す
断面図：第１８図は重合体で包封されたこの発明の銀被
覆ガラス鏡を示す断面図：および第１９図は透明基材を
もつこの発明の重合体包封鎖構造を示す断面図である。 ４２・・・ガラス基材、４４・・・アルミニウム層、４
６・・・ケイ素層、４８・・・酸化アルミニウム層、５
０・・・銀層、５１・・・ガラス層、５２・・・５１０
２層、５４・・・端キヤツプ層、５６・・・プラスチッ
ク層、６２・・・透明重合体基材、６４．６８・・・拡
散バリヤ層、６５．６７・・・ケイ素富化層、７０・・
・重合体層。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、ガラス基材を排気室内に置き、該ガラス基材の表面
   から酸素を実質的に除去しかつ該表面を不純物や汚染物
   質から実質的に保護するようにして該排気室内で該ガラ
   ス基材表面をケイ素原子で富化せしめ、該排気室内でガ
   ラス基材の該ケイ素富化表面上に銀原子を被覆せしめ、
   これによって地上環境条件により生じる劣化に耐えるに
   充分な強度と耐久性を有するケイ素原子と銀原子との間
   の結合をもたらすことができる、ガラス基材表面に銀を
   密着させる方法。 ２、ガラス基材を排気室内に置き、該排気室内で該ガラ
   ス基材の表面を還元して該ガラス基材の表面から酸素を
   実質的になくしかつ該表面が実質的に金属様のケイ素層
   のみからなるようにし、該還元面上に銀層を被覆せしめ
   て複合構造体を形成させて銀−ケイ素の直接的な共有結
   合を形成させ、これによってかような銀−ケイ素の共有
   結合により規定されるようなガラス基材への銀層の密着
   性を向上させることができる、ガラス基材をもつ銀被覆
   鏡の製造方法。 ３、重合体基材を排気室内に置き、該重合体基材の表面
   上に透明な第１の金属酸化物の層を被覆し、該第１の金
   属酸化物層の露出面をケイ素原子で富化し、該第１の金
   属酸化物層の該ケイ素富化面上に銀層を被覆し、該銀層
   の露出面上に第２の金属酸化物層を被覆し、かくして得
   られた重合体基材に第１および第２の金属酸化物層およ
   び銀層を結合してなる複合構造体を該排気室から取出し
   、該各層同士の間および各層と重合体基材との間のすべ
   ての界面の端縁を含む該複合構造体を溶液状の重合体で
   包封したのち該溶液の溶媒を蒸発させて、該第１および
   第２の金属酸化物層、銀層および各層と基材との界面の
   端縁を大気から密封的にシールする硬化した重合体シェ
   ルを形成せしめることからなる銀被覆鏡の製造方法。