JPS61257942A - 6−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸の製造方法 - Google Patents
6−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸の製造方法Info
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- JPS61257942A JPS61257942A JP9914285A JP9914285A JPS61257942A JP S61257942 A JPS61257942 A JP S61257942A JP 9914285 A JP9914285 A JP 9914285A JP 9914285 A JP9914285 A JP 9914285A JP S61257942 A JPS61257942 A JP S61257942A
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C51/00—Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides
- C07C51/16—Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides by oxidation
- C07C51/285—Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides by oxidation with peroxy-compounds
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
主栗上皇肌里立!
本発明は、液晶形成能を有する芳香族ポリエステル類の
製造にそのモノマーとして利用される6−ヒドロキシ−
2−ナフトエ酸の製造方法に関する。
製造にそのモノマーとして利用される6−ヒドロキシ−
2−ナフトエ酸の製造方法に関する。
従漣Jυ九医
従来、6−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸(以下BON−
6と称する)の製造方法として下記に示すような方法が
知られている。
6と称する)の製造方法として下記に示すような方法が
知られている。
■ β−ナフトールのカリウム塩を高温加圧下に炭酸ガ
スと反応させる方法(米国特許第1,593,816号
、第4,287,357号、第4,345.095号、
第4,329.494号、第4,345,094号)、
■ β−ナフトールのカリウム塩を高沸点媒体中で高温
高圧下に炭酸ガスと反応させる方法(特開昭57−95
939号、特開昭58−99436号)、及び■ 6−
ブロム−2−ナフトールをメタノール中で高圧下に一酸
化炭素と反応させる方法(特開昭57−91955号)
。
スと反応させる方法(米国特許第1,593,816号
、第4,287,357号、第4,345.095号、
第4,329.494号、第4,345,094号)、
■ β−ナフトールのカリウム塩を高沸点媒体中で高温
高圧下に炭酸ガスと反応させる方法(特開昭57−95
939号、特開昭58−99436号)、及び■ 6−
ブロム−2−ナフトールをメタノール中で高圧下に一酸
化炭素と反応させる方法(特開昭57−91955号)
。
しかし、これらの方法は次に述べるような欠点があり、
BON−6の工業的製造方法としては必ずしも好ましい
ものとはいえない。
BON−6の工業的製造方法としては必ずしも好ましい
ものとはいえない。
すなわち、上記■及び■の方法によるとBON−6のほ
かに、その異性体である2、3一体(@≦&cooli
’の副生が避けられず、したがって、BON〜6の収
率も低い。例えば、■の方法ではBQN−6の収率は2
6.5%程度であり、また、■の方法では45%程度で
ある。更に、■及び■の方法によると、多量のβ−ナフ
トールが副生ずるので、その分離のための煩雑な工程が
必要となる。
かに、その異性体である2、3一体(@≦&cooli
’の副生が避けられず、したがって、BON〜6の収
率も低い。例えば、■の方法ではBQN−6の収率は2
6.5%程度であり、また、■の方法では45%程度で
ある。更に、■及び■の方法によると、多量のβ−ナフ
トールが副生ずるので、その分離のための煩雑な工程が
必要となる。
また、上記■の方法では、70kg/aJに達する高圧
が必要であるため製造装置上コスト高となり、加うるに
BON−6の収率も37%程度にすぎない。
が必要であるため製造装置上コスト高となり、加うるに
BON−6の収率も37%程度にすぎない。
一方、反応様式として、一般式
OHヨ
^r−C−X(式中Arは芳香環を、Xは−(101(
C1(ヨ 又は−OHを表す) で示される化合物を、一般式 Ar−OHで示される化合物に変換する方法として次の
ような方法が知られている。
C1(ヨ 又は−OHを表す) で示される化合物を、一般式 Ar−OHで示される化合物に変換する方法として次の
ような方法が知られている。
(i)上記一般式においてXが一00Hの場合に、クメ
ン法におけるクメンヒドロパーオキシドの酸分解により
フェノールを製造する方法、及び(ii)上記一般式に
おいてXが一〇Hの場合に、溶媒中で強酸の存在下に過
酸化水素で酸化してフェノール型化合物に変換する方法
〔特開昭52−5718号、特公昭35−7558号、
英国特許第910735号、角田、加藤[日化誌 80
(7)、689(1959) 、M、S、KHARAS
CHet al−+ジャーナル・オブ・オルガニック・
ケミストリイ (J、Org、Chem、)15,74
8,775(1950)) 。
ン法におけるクメンヒドロパーオキシドの酸分解により
フェノールを製造する方法、及び(ii)上記一般式に
おいてXが一〇Hの場合に、溶媒中で強酸の存在下に過
酸化水素で酸化してフェノール型化合物に変換する方法
〔特開昭52−5718号、特公昭35−7558号、
英国特許第910735号、角田、加藤[日化誌 80
(7)、689(1959) 、M、S、KHARAS
CHet al−+ジャーナル・オブ・オルガニック・
ケミストリイ (J、Org、Chem、)15,74
8,775(1950)) 。
しかし、上記(i)の方法によると、Xが一00Hであ
る化合物を単独で反応させる場合には問題がないが、X
が−OHである化合物を反応させるとフェノール型化合
物に変換されずに、一般式Ar C= CH2で示さ
れる化合物を経てハルツ状物質を生成するので(特公昭
51−29140号参照)、Xが−aHである化合物又
は該化合物とXが一00Hである化合物との混合物を反
応させる場合には適当な方法とは言えない。
る化合物を単独で反応させる場合には問題がないが、X
が−OHである化合物を反応させるとフェノール型化合
物に変換されずに、一般式Ar C= CH2で示さ
れる化合物を経てハルツ状物質を生成するので(特公昭
51−29140号参照)、Xが−aHである化合物又
は該化合物とXが一00Hである化合物との混合物を反
応させる場合には適当な方法とは言えない。
また上記(ii)の方法は、上掲の各文献に記載されて
いる反応様式は、2−ヒドロキシ−2−プロピルベンゼ
ン、p−ジ(2−ヒドロキシ−2−プロピル)ベンゼン
並びにp−2−ヒドロキシ−2−プロピル−2,21ジ
メチルベンジルヒドロパーオキシド等をフェノールもし
くはハイドロキノンに変換する方法であって、本発明が
対象とするナフタレン骨格を有する化合物、特にナフト
エ酸骨格を有するカルビノール類をBON−6に変換す
る方法については、上掲の各文献には見られない。
いる反応様式は、2−ヒドロキシ−2−プロピルベンゼ
ン、p−ジ(2−ヒドロキシ−2−プロピル)ベンゼン
並びにp−2−ヒドロキシ−2−プロピル−2,21ジ
メチルベンジルヒドロパーオキシド等をフェノールもし
くはハイドロキノンに変換する方法であって、本発明が
対象とするナフタレン骨格を有する化合物、特にナフト
エ酸骨格を有するカルビノール類をBON−6に変換す
る方法については、上掲の各文献には見られない。
因に、先行文献中に記載されている溶媒中で本発明の反
応を行なおうとしても出発物質が該溶媒に溶けないとか
、原料が消失するにもかかわらず、BON−6が生成し
ないとか、溶媒自体が反応するとか、反応速度が小さい
等の理由でいずれも不適である。
応を行なおうとしても出発物質が該溶媒に溶けないとか
、原料が消失するにもかかわらず、BON−6が生成し
ないとか、溶媒自体が反応するとか、反応速度が小さい
等の理由でいずれも不適である。
■が解′ しようとする間 声
本発明は、上述したようなり0N−6の製造上の問題点
に鑑み、BON−6の工業的に有利な製造方法について
検討した結果なされたものであって、工業的に容易に入
手し得る2、6ジイソプロビルナフタレンから誘導され
る2−(2−ヒドロキシ−2−プロピル)ナフタレン−
6−カルボン酸 もしくは該ナフタレン−6−カルボン酸と2−(2−ヒ
ドロパーオキシ−2−プロピル)ナフタレン−6−カル
ボン酸 との混合物を出発物質として用い、これらの出発物質を
特定な条件下に酸化することにより、液晶形成能を有す
る、いわゆる液晶ポリマーの製造原料として有用なり0
N−6を有利に製造し得る方法を提供することを目的と
する。
に鑑み、BON−6の工業的に有利な製造方法について
検討した結果なされたものであって、工業的に容易に入
手し得る2、6ジイソプロビルナフタレンから誘導され
る2−(2−ヒドロキシ−2−プロピル)ナフタレン−
6−カルボン酸 もしくは該ナフタレン−6−カルボン酸と2−(2−ヒ
ドロパーオキシ−2−プロピル)ナフタレン−6−カル
ボン酸 との混合物を出発物質として用い、これらの出発物質を
特定な条件下に酸化することにより、液晶形成能を有す
る、いわゆる液晶ポリマーの製造原料として有用なり0
N−6を有利に製造し得る方法を提供することを目的と
する。
以下本発明の詳細な説明する。
皇夙■盪底
本発明の特徴は、2−(2−ヒドロキシ−2−プロピル
)ナフタレン−6−カルボン酸もしくは該ナフタレン−
6−カルボン酸と2−(2−ヒドロパーオキシ−2−プ
ロピル)ナフタレン−6−カルボン酸との混合物を、ア
セトニトリル及び/又はジオキサン中で無機酸の存在下
に過酸化水素により酸化して6−ヒドロキシ−2−ナフ
トエ酸(BON−6)を得ることにある。
)ナフタレン−6−カルボン酸もしくは該ナフタレン−
6−カルボン酸と2−(2−ヒドロパーオキシ−2−プ
ロピル)ナフタレン−6−カルボン酸との混合物を、ア
セトニトリル及び/又はジオキサン中で無機酸の存在下
に過酸化水素により酸化して6−ヒドロキシ−2−ナフ
トエ酸(BON−6)を得ることにある。
特に、本発明は、反応系の溶媒としてアセトニトリル又
はジオキサンもしくは両者の混合物を用いることが重要
であって、これらの溶媒を用いることにより、2−(2
−ヒドロキシ−2−プロピル)ナフタレン−6−カルボ
ン酸のみならず、該ナフタレン−6−カルボン酸と2−
(2−ヒドロパーオキシ−2−プロピル)ナフタレン−
6−カルボン酸との混合物からもBON−6を製造する
ことを可能としたものである。すなわち、これらの出発
物質からBON−6を製造するに当っては使用する溶媒
の種類により反応上の選択性が全く異なるものであって
、前述した先行文献に示された溶媒、例えばアセトンは
この反応に対して不活性ではなく、アセトン中でこの反
応を行なうとBON−6も一部生成するがそれ以外にア
セトンに由来する副生物が多量に生成する。
はジオキサンもしくは両者の混合物を用いることが重要
であって、これらの溶媒を用いることにより、2−(2
−ヒドロキシ−2−プロピル)ナフタレン−6−カルボ
ン酸のみならず、該ナフタレン−6−カルボン酸と2−
(2−ヒドロパーオキシ−2−プロピル)ナフタレン−
6−カルボン酸との混合物からもBON−6を製造する
ことを可能としたものである。すなわち、これらの出発
物質からBON−6を製造するに当っては使用する溶媒
の種類により反応上の選択性が全く異なるものであって
、前述した先行文献に示された溶媒、例えばアセトンは
この反応に対して不活性ではなく、アセトン中でこの反
応を行なうとBON−6も一部生成するがそれ以外にア
セトンに由来する副生物が多量に生成する。
また、エタノール中の反応では反応速度が小さくBON
−6の収率も低い。次に酢酸中では、原料は消失するが
BON−6は殆んど生成せず副反応が優先する。一方、
炭化水素には本発明の原料は溶解しないので溶媒として
は不適当である。
−6の収率も低い。次に酢酸中では、原料は消失するが
BON−6は殆んど生成せず副反応が優先する。一方、
炭化水素には本発明の原料は溶解しないので溶媒として
は不適当である。
4 点を解?するための
本発明においては、まず、出発物質としての2−(2−
ヒドロキシ−2−プロピル)ナフタレン−6−カルボン
酸もしくは該ナフタレン−6−カルボン酸と2−(2−
ヒドロパーオキシ−2−プロピル)ナフタレン−6−カ
ルボン酸との混合物を、溶媒としてのアセトニトリル又
はジオキサンもしくは両者の混合物に溶解し、この溶液
に無機酸及び過酸化水素を滴下して反応させる。
ヒドロキシ−2−プロピル)ナフタレン−6−カルボン
酸もしくは該ナフタレン−6−カルボン酸と2−(2−
ヒドロパーオキシ−2−プロピル)ナフタレン−6−カ
ルボン酸との混合物を、溶媒としてのアセトニトリル又
はジオキサンもしくは両者の混合物に溶解し、この溶液
に無機酸及び過酸化水素を滴下して反応させる。
この場合、溶媒は出発物質に対して3〜30倍量(vo
l/wt)用いる。過酸化水素は市販の30%水溶液を
使用するとよく、出発物質中の2−(2−ヒドロキシ−
2−プロピル)ナフタレン−6−カルボン酸に対して1
〜10倍モル用いる。
l/wt)用いる。過酸化水素は市販の30%水溶液を
使用するとよく、出発物質中の2−(2−ヒドロキシ−
2−プロピル)ナフタレン−6−カルボン酸に対して1
〜10倍モル用いる。
なお、出発物質に対する過酸化水素の量が少なすぎると
上記出発物質の転化率が低く、一方多すぎると反応生成
物の着色が著しくなるので留意すべきである。
上記出発物質の転化率が低く、一方多すぎると反応生成
物の着色が著しくなるので留意すべきである。
また、無機酸としては硫酸又は過塩素酸を用いるのが好
ましく、硫酸は濃硫酸もしくは30%程度の水分を含有
するものでもよく、過塩素酸は70%、60%並びに4
0%濃度の市販製品を用いるとよい。
ましく、硫酸は濃硫酸もしくは30%程度の水分を含有
するものでもよく、過塩素酸は70%、60%並びに4
0%濃度の市販製品を用いるとよい。
これらの無機酸の使用量は出発物質に対して0.5〜4
倍量(w t)が好ましい。なお、無機酸の使用量が少
なすぎると反応が完結せず、一方多すぎると選択率が悪
くなって反応生成物の着色の原因となる。
倍量(w t)が好ましい。なお、無機酸の使用量が少
なすぎると反応が完結せず、一方多すぎると選択率が悪
くなって反応生成物の着色の原因となる。
また、過酸化水素と無機酸を上述のようにして出発物質
へ添加するに際しては、両者の混合物を加えるか、或は
過酸化水素を加えた後に無機酸を加えるようにして、常
に無機酸は過酸化水素と共存するように添加することが
必要である。
へ添加するに際しては、両者の混合物を加えるか、或は
過酸化水素を加えた後に無機酸を加えるようにして、常
に無機酸は過酸化水素と共存するように添加することが
必要である。
本発明における反応温度は室温乃至80℃の範囲で選択
し得るが、好ましい範囲は30〜60℃である。
し得るが、好ましい範囲は30〜60℃である。
また、反応時間は、原料物質の仕込組成及び反応温度に
より異なるも、通常10分〜3時間で反応は完結する。
より異なるも、通常10分〜3時間で反応は完結する。
反応終了後は、反応混合物に苛性アルカリ、炭酸ソーダ
、重炭酸ソーダ等を添加して中和し、析出した塩を濾別
した後、溶媒を留去して、粗BON−6を得る。このよ
うにして得られた粗BON−6を適当な溶媒、例えばア
セトニトリル、酢酸等を用いて再結晶することにより、
精製されたBON−6を得ることができる。
、重炭酸ソーダ等を添加して中和し、析出した塩を濾別
した後、溶媒を留去して、粗BON−6を得る。このよ
うにして得られた粗BON−6を適当な溶媒、例えばア
セトニトリル、酢酸等を用いて再結晶することにより、
精製されたBON−6を得ることができる。
なお、本発明において出発物質として用いる2−(2−
ヒドロキシ−2−プロピル)ナフタレン−6−カルボン
酸と2−(2−ヒドロパーオキシ−2−プロピル)ナフ
タレン−6−カルボン酸との混合物は、本発明者がさき
に開発した方法(特願昭60−57147号)ニ従ッテ
、2−イソプロピル−6−ナフトエ酸を炭酸ソーダ水溶
液中で過硫酸塩の存在下に自動酸化することにより得る
ことができ、また、2−(2−ヒドロキシ−2−プロピ
ル)ナフタレン−6−カルボン酸は上記混合物を適当な
還元剤、例えば亜硫酸ソーダで還元することにより得る
ことができる。
ヒドロキシ−2−プロピル)ナフタレン−6−カルボン
酸と2−(2−ヒドロパーオキシ−2−プロピル)ナフ
タレン−6−カルボン酸との混合物は、本発明者がさき
に開発した方法(特願昭60−57147号)ニ従ッテ
、2−イソプロピル−6−ナフトエ酸を炭酸ソーダ水溶
液中で過硫酸塩の存在下に自動酸化することにより得る
ことができ、また、2−(2−ヒドロキシ−2−プロピ
ル)ナフタレン−6−カルボン酸は上記混合物を適当な
還元剤、例えば亜硫酸ソーダで還元することにより得る
ことができる。
光皿公処果
鋲止のとおり、本発明によると、工業的に容易に入手し
得る2、6−ジイツプロピルナフタレンから2−イソプ
ロピル−6−ナフトエ酸を経て誘導される上記出発物質
を用いて、液晶ポリマーの原料としてを用な6−ヒドロ
キシ−2−ナフトエ酸(BON−6)を、下記実施例に
示すように高収率で有利に製造することが可能となる。
得る2、6−ジイツプロピルナフタレンから2−イソプ
ロピル−6−ナフトエ酸を経て誘導される上記出発物質
を用いて、液晶ポリマーの原料としてを用な6−ヒドロ
キシ−2−ナフトエ酸(BON−6)を、下記実施例に
示すように高収率で有利に製造することが可能となる。
以下に実施例を示して本発明を更に具体的に説明する。
実施例1
2−(2−ヒドロキシ−2−プロピル)ナフタレン−6
−カルボン酸0.5gをアセトニトリルLow (lに
溶解し、これに30%過酸化水素水1gと70%過塩素
酸1gとを順次的に加え、50℃で30分間攪拌下に反
応させた。
−カルボン酸0.5gをアセトニトリルLow (lに
溶解し、これに30%過酸化水素水1gと70%過塩素
酸1gとを順次的に加え、50℃で30分間攪拌下に反
応させた。
反応終了後、反応液を高速液体クロマトグラフィ(HP
LC)で分析したところ、BON−6がほぼ定量的に生
成したことが確認された。ついで、この反応液を20%
炭酸ソーダ水溶液でpH3になるまで中和した後、減圧
下にアセトニトリルを留去して析出するBON−6を濾
別し、水洗し、乾燥して0.4gの粗BON−6を得た
。
LC)で分析したところ、BON−6がほぼ定量的に生
成したことが確認された。ついで、この反応液を20%
炭酸ソーダ水溶液でpH3になるまで中和した後、減圧
下にアセトニトリルを留去して析出するBON−6を濾
別し、水洗し、乾燥して0.4gの粗BON−6を得た
。
収率はほぼ定量的であった。
実施例2
2−(2−ヒドロキシ−2−プロピル)ナフタレン−6
−カルボン酸20重量%と2−(2−ヒドロパーオキシ
−2−プロピル)ナフタレン−6−カルボン酸80重量
%とから成る混合物300gを、アセトニトリル61に
溶解し、これに30%過酸化水素水120gと70%硫
酸840gとの混合物を加え、50℃で1時間攪拌下に
反応させた。反応終了後、反応液をIPLcで分析した
ところ、BON−6がほぼ定量的に生成したことが確認
された。ついで、この反応液を20%炭酸ソーダ水溶液
でpH3になるまで中和した後、減圧下にアセトニトリ
ルを留去して析出するBON−6を濾別し、水洗し、乾
燥して225gの粗BON−6を得た。
−カルボン酸20重量%と2−(2−ヒドロパーオキシ
−2−プロピル)ナフタレン−6−カルボン酸80重量
%とから成る混合物300gを、アセトニトリル61に
溶解し、これに30%過酸化水素水120gと70%硫
酸840gとの混合物を加え、50℃で1時間攪拌下に
反応させた。反応終了後、反応液をIPLcで分析した
ところ、BON−6がほぼ定量的に生成したことが確認
された。ついで、この反応液を20%炭酸ソーダ水溶液
でpH3になるまで中和した後、減圧下にアセトニトリ
ルを留去して析出するBON−6を濾別し、水洗し、乾
燥して225gの粗BON−6を得た。
得られた粗BON−6をアセトニトリルで再結晶して純
度99%以上の精製BON−6を得た。
度99%以上の精製BON−6を得た。
実施例3
実施例2で用いたと同様な混合物から成る出発物質5g
をジオキサン20gに溶解し、これに30%過酸化水素
水1gと90%硫酸2.5gを順次的に加え、50℃で
1時間攪拌下に反応させた。反応終了後、反応液をHP
LCで分析したところ、反応がほぼ定量的に進行したこ
とが確認されたので、この反応液を20%炭酸ソーダ水
溶液でpH3になるまで中和し、ついで減圧下にジオキ
、サンを留去した。
をジオキサン20gに溶解し、これに30%過酸化水素
水1gと90%硫酸2.5gを順次的に加え、50℃で
1時間攪拌下に反応させた。反応終了後、反応液をHP
LCで分析したところ、反応がほぼ定量的に進行したこ
とが確認されたので、この反応液を20%炭酸ソーダ水
溶液でpH3になるまで中和し、ついで減圧下にジオキ
、サンを留去した。
析出したBON−6を濾別し、水洗し、乾燥して粗BO
N−6を3.75g得た。
N−6を3.75g得た。
実施例4
実施例3において、溶媒としてジオキサンに代えてアセ
トニトリル/ジオキサン−171容量の混合溶媒を用い
るほかは、実施例3に記載したと同様の手順で反応を行
なった。その結果、粗BON−6が3.8g得られた。
トニトリル/ジオキサン−171容量の混合溶媒を用い
るほかは、実施例3に記載したと同様の手順で反応を行
なった。その結果、粗BON−6が3.8g得られた。
実施例5
実施例2で用いたと同様な混合物から成る出発物質0.
1gをアセトニトリル2gに熔解し、これに30%過酸
化水素水0.1gと401%過塩素酸0.2gを順次的
に加え、50℃で2時間反応させた。得られた反応液を
HPLCで分析したところ、BON−6が収率96%で
得られた。
1gをアセトニトリル2gに熔解し、これに30%過酸
化水素水0.1gと401%過塩素酸0.2gを順次的
に加え、50℃で2時間反応させた。得られた反応液を
HPLCで分析したところ、BON−6が収率96%で
得られた。
次に比較例として、溶媒にアセトニトリル及びジオキサ
ン以外のものを用いた場合を示す。
ン以外のものを用いた場合を示す。
比較例1
2−(2−ヒドロキシ−2−プロピル)ナフタレン−6
−カルボン酸1gを酢酸20ca lに溶解し、これに
30%過酸化水素水1gと70%過塩素酸2gを順次加
え、50℃で30分間反応させた。反応終了後、反応液
をHPLCで分析したところ、上記出発物質はほぼ消失
したにもかかわらず、BOX−6の生成量は少量であっ
た。
−カルボン酸1gを酢酸20ca lに溶解し、これに
30%過酸化水素水1gと70%過塩素酸2gを順次加
え、50℃で30分間反応させた。反応終了後、反応液
をHPLCで分析したところ、上記出発物質はほぼ消失
したにもかかわらず、BOX−6の生成量は少量であっ
た。
比較例2
比較例ILこおいて、酢酸に代えてエタノールを用いる
以外は比較例1に記載と同様の手順で反応を行なった。
以外は比較例1に記載と同様の手順で反応を行なった。
反応終了後、反応液をHPLCで分析したところ、得ら
れたBON−6の収率は10%であった。
れたBON−6の収率は10%であった。
比較例3
比較例1において、酢酸に代えてトルエンを用いる以外
は比較例1に記載と同様の手順で反応を行なったが、出
発物質及び生成物は共にトルエンに殆んど熔解せず、し
たがってBON−6の収率も16%と低かった。
は比較例1に記載と同様の手順で反応を行なったが、出
発物質及び生成物は共にトルエンに殆んど熔解せず、し
たがってBON−6の収率も16%と低かった。
比較例4
2−(2−ヒドロキシ−2−プロピル)ナフタレン−6
−カルボン酸20重量%と2−(2−ヒドロパーオキシ
−2−プロピル)ナフタレン−6−カルボン酸80ff
i1%とから成る混合物1gを、エタノール20gに熔
解し、これに30%過酸化水素水2g及び70%過塩素
酸2gを加えて50℃で30分間反応を行なったところ
、得られたBON−6の収率は10%で、残余は殆んど
未反応物であった。
−カルボン酸20重量%と2−(2−ヒドロパーオキシ
−2−プロピル)ナフタレン−6−カルボン酸80ff
i1%とから成る混合物1gを、エタノール20gに熔
解し、これに30%過酸化水素水2g及び70%過塩素
酸2gを加えて50℃で30分間反応を行なったところ
、得られたBON−6の収率は10%で、残余は殆んど
未反応物であった。
比較例5
比較例1において過塩素酸に代えて70%硫酸2gを用
いる以外は比較例1に記載と同様の手順で反応を行なっ
た。反応に伴なって出発原料は消失したものの、BON
−6は殆んど生成しなかった。
いる以外は比較例1に記載と同様の手順で反応を行なっ
た。反応に伴なって出発原料は消失したものの、BON
−6は殆んど生成しなかった。
Claims (2)
- (1)2−(2−ヒドロキシ−2−プロピル)ナフタレ
ン−6−カルボン酸もしくは該ナフタレン−6−カルボ
ン酸と2−(2−ヒドロパーオキシ−2−プロピル)ナ
フタレン−6−カルボン酸の混合物を、アセトニトリル
及び/又はジオキサン中で無機酸の存在下に過酸化水素
により酸化することを特徴とする6−ヒドロキシ−2−
ナフトエ酸の製造方法。 - (2)無機酸が硫酸又は過塩素酸である特許請求の範囲
第(1)項記載の製造方法。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9914285A JPS61257942A (ja) | 1985-05-10 | 1985-05-10 | 6−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸の製造方法 |
CA000508727A CA1267911A (en) | 1985-05-10 | 1986-05-08 | Process for producing 6-hydroxy-2-naphthoic acid |
GB08611311A GB2174706B (en) | 1985-05-10 | 1986-05-09 | Process for producing 6-hydroxy-2-naphthoic acid |
FR8606720A FR2581642B1 (fr) | 1985-05-10 | 1986-05-09 | Procede pour la production d'acide 6-hydroxy-2-naphtoique |
DE19863615811 DE3615811A1 (de) | 1985-05-10 | 1986-05-10 | Verfahren zum herstellen von 6-hydroxy-2-naphthoesaeure |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9914285A JPS61257942A (ja) | 1985-05-10 | 1985-05-10 | 6−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61257942A true JPS61257942A (ja) | 1986-11-15 |
JPH0437060B2 JPH0437060B2 (ja) | 1992-06-18 |
Family
ID=14239449
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9914285A Granted JPS61257942A (ja) | 1985-05-10 | 1985-05-10 | 6−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸の製造方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61257942A (ja) |
CA (1) | CA1267911A (ja) |
DE (1) | DE3615811A1 (ja) |
FR (1) | FR2581642B1 (ja) |
GB (1) | GB2174706B (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3800989A1 (de) * | 1988-01-15 | 1989-07-27 | Hoechst Ag | Verfahren zur reinigung von 2-hydroxy-naphthalin-6-carbonsaeure |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US1593816A (en) * | 1924-08-16 | 1926-07-27 | Grasselli Dyestuffs Corp | Making 2-hydroxy-naphthalene-6-carboxylic acid |
BE608250A (ja) * | 1960-09-17 | |||
US4345095A (en) * | 1980-03-06 | 1982-08-17 | American Cyanamid Company | Process for the production of 6-hydroxy-2-naphthoic acid |
JPS60243063A (ja) * | 1984-05-17 | 1985-12-03 | Kureha Chem Ind Co Ltd | 2−(2−ハイドロパ−オキシ−2−プロピル)ナフタリン−6−カルボン酸メチルおよびその製造方法 |
-
1985
- 1985-05-10 JP JP9914285A patent/JPS61257942A/ja active Granted
-
1986
- 1986-05-08 CA CA000508727A patent/CA1267911A/en not_active Expired - Fee Related
- 1986-05-09 FR FR8606720A patent/FR2581642B1/fr not_active Expired
- 1986-05-09 GB GB08611311A patent/GB2174706B/en not_active Expired
- 1986-05-10 DE DE19863615811 patent/DE3615811A1/de active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
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FR2581642A1 (fr) | 1986-11-14 |
FR2581642B1 (fr) | 1989-06-02 |
CA1267911A (en) | 1990-04-17 |
DE3615811A1 (de) | 1986-11-13 |
GB2174706B (en) | 1988-11-23 |
JPH0437060B2 (ja) | 1992-06-18 |
GB2174706A (en) | 1986-11-12 |
GB8611311D0 (en) | 1986-06-18 |
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