JPH0437060B2 - - Google Patents
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、液晶形成能を有する芳香族ポリエス
テル類の製造にそのモノマーとして利用される6
−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸の製造方法に関す
る。 従来の技術 従来、6−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸(以下
BON−6と称する)の製造方法として下記に示
すような方法が知られている。 β−ナフトールのカリウム塩を高温加圧下に
炭酸ガスと反応させる方法(米国特許第
1593816号、第4287357号、第4345095号、第
4329494号、第4345094号)、 β−ナフトールのカリウム塩を高沸点媒体中
で高温高圧下に炭酸ガスと反応させる方法(特
開昭57−95939号、特開昭58−99436号)、及び 6−ブロム−2−ナフトールをメタノール中
で高圧下に一酸化炭素と反応させる方法(特開
昭57−91955号)。 しかし、これらの方法は次に述べるような欠点
があり、BON−6の工業的製造方法としては必
ずしも好ましいものとはいえない。 すなわち、上記及びの方法によるとBON
−6のほかに、その異性体である2,3−体
【式】の副生が避けられ ず、したがつて、BON−6の収率も低い。例え
ば、の方法ではBON−6の収率は26.5%程度
であり、また、の方法では45%程度である。更
に、及びの方法によると、多量のβ−ナフト
ールが副生するので、その分離のための煩雑な工
程が必要となる。 また、上記の方法では、70Kg/cm2に達する高
圧が必要であるため製造装置上コスト高となり、
加うるにBON−6の収率も37%程度にすぎない。 一方、反応様式として、一般式 【式】 (式中Arは芳香環を、Xは−OOH又は−OH
を表す) で示される化合物を、一般式 Ar−OHで示される化合物に変換する方法とし
て次のような方法が知られている。 (i) 上記一般式においてXが−OOHの場合に、
クメン法におけるクメンヒドロパーオキシドの
酸分解によりフエノールを製造する方法、及び (ii) 上記一般式においてXが−OHの場合に、溶
媒中で強度の存在下に過酸化水素で酸化してフ
エノール型化合物に変換する方法(特開昭52−
5718号、特公昭35−7558号、英国特許第910735
号、角田、加藤「日化誌80(7),689(1959)、M.
S.KHARASCH et al.,ジヤーナル・オブ・
オルガニツク・ケミストリイ(J.Org.Chem.)
15,748,775(1950)〕。 しかし、上記(i)の方法によると、Xが−OOH
である化合物を単独で反応させる場合には問題が
ないが、Xが−OHである化合物を反応させると
フエノール型化合物に変換されずに、一般式 【式】で示される化合物を経てハルツ 状物質を生成するので(特公昭51−29140号参
照)、XがOHである化合物又は該化合物とXが
−OOHである化合物との混合物を反応させる場
合には適当な方法とは言えない。 また上記(ii)の方法は、上掲の各文献に記載され
ている反応様式は、2−ヒドロキシ−2−プロピ
ルベンゼン、p−ジ(2−ヒドロキシ−2−プロ
ピル)ベンゼン並びにp−2−ヒドロキシ−2−
プロピル−2,2′ジメチルベンジルヒドロパーオ
キシド等をフエノールもしくはハイドロキノンに
変換する方法であつて、本発明が対象とするナフ
タレン骨格を有する化合物、特にナフトエ酸骨格
を有するカルビノール類をBON−6に変換する
方法については、上掲の各文献には見られない。 因に、先行文献中に記載されている溶媒中で本
発明の反応を行なおうとしても出発物質が該溶媒
に溶けないとか、原料が消失するにもかかわら
ず、BON−6が生成しないとか、溶媒自体が反
応するとか、反応速度が小さい等の理由でいずれ
も不適である。 発明が解決しようとする問題点 本発明は、上述したようなBON−6の製造上
の問題点に鑑み、BON−6の工業的に有利な製
造方法について検討した結果なされたものであつ
て、工業的に容易に入手し得る2,6ジイソプロ
ピルナフタレンから誘導される2−(2−ヒドロ
キシ−2−プロピル)ナフタレン−6−カルボン
酸 もしくは該ナフタレン−6−カルボン酸と2−
(2−ヒドロパーオキシ−2−プロピル)ナフタ
レン−6−カルボン酸 との混合物を出発物質として用い、これらの出発
物質を特定な条件下に酸化することにより、液晶
形成能を有する、いわゆる液晶ポリマーの製造原
料として有用なBON−6を有利に製造し得る方
法を提供することを目的とする。 以下本発明を詳しく説明する。 発明の構成 本発明の特徴は、2−(2−ヒドロキシ−2−
プロピル)ナフタレン−6−カルボン酸もしくは
該ナフタレン−6−カルボン酸と2−(2−ヒド
ロパーオキシ−2−プロピル)ナフタレン−6−
カルボン酸との混合物を、アセトニトリル及び/
又はジオキサン中で無機酸の存在下に過酸化水素
により酸化して6−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸
(BON−6)を得ることにある。 特に、本発明は、反応系の溶媒としてアセトニ
トリル又はジオキサンもしくは両者の混合物を用
いることが重要であつて、これらの溶媒を用いる
ことにより、2−(2−ヒドロキシ−2−プロピ
ル)ナフタレン−6−カルボン酸のみならず、該
ナフタレン−6−カルボン酸と2−(2−ヒドロ
パーオキシ−2−プロピル)ナフタレン−6−カ
ルボン酸との混合物からもBON−6を製造する
ことを可能としたものである。すなわち、これら
の出発物質からBON−6を製造するに当つては
使用する溶媒の種類により反応上の選択性が全く
異なるものであつて、前述した先行文献に示され
た溶媒、例えばアセトンはこの反応に対して不活
性ではなく、アセトン中でこの反応を行なうと
BON−6も一部生成するがそれ以外にアセトン
に由来する副生物が多量に生成する。また、エタ
ノール中の反応では反応速度が小さくBON−6
の収率も低い。次に酢酸中では、原料は消失する
がBON−6は殆んど生成せず副反応が優先する。
一方、炭化水素には本発明の原料は溶解しないの
で溶媒としては不適当である。 問題点を解決するための手段 本発明においては、まず、出発物質としての2
−(2−ヒドロキシ−2−プロピル)ナフタレン
−6−カルボン酸もしくは該ナフタレン−6−カ
ルボン酸と2−(2−ヒドロパーオキシ−2−プ
ロピル)ナフタレン−6−カルボン酸との混合物
を、溶媒としてのアセトニトリル又はジオキサン
もしくは両者の混合物に溶解し、この溶液に無機
酸及び過酸化水素を滴下して反応させる。 この場合、溶媒は出発物質に対して3〜30倍量
(vol/wt)用いる。過酸化水素は市販の30%水
溶液を使用するとよく、出発物質中の2−(2−
ヒドロキシ−2−プロピル)ナフタレン−6−カ
ルボン酸に対して1〜10倍モル用いる。 なお、出発物質に対する過酸化水素の量が少な
すぎると上記出発物質の転化率が低く、一方多す
ぎると反応生成物の着色が著しくなるので留意す
べきである。 また、無機酸としては硫酸又は過塩素酸を用い
るのが好ましく、硫酸は濃硫酸もしくは30%程度
の水分を含有するものでもよく、過塩素酸は70
%、60%並びに40%濃度の市販製品を用いるとよ
い。 これらの無機酸の使用量は出発物質に対して
0.5〜4倍量(wt)が好ましい。なお、無機酸の
使用量が少なすぎると反応が完結せず、一方多す
ぎると選択率が悪くなつて反応生成物の着色の原
因となる。 また、過酸化水素と無機酸を上述のようにして
出発物質へ添加するに際しては、両者の混合物を
加えるか、或は過酸化水素を加えた後に無機酸を
加えるようにして、常に無機酸は過酸化水素と共
存するように添加することが必要である。 本発明における反応温度は室温乃至80℃の範囲
で選択し得るが、好ましい範囲は30〜60℃であ
る。また、反応時間は、原料物質の仕込組成及び
反応温度により異なるも、通常10分〜3時間で反
応は完結する。 反応終了後は、反応混合物に苛性アルカリ、炭
酸ソーダ、重炭酸ソーダ等を添加して中和し、析
出した塩を濾別した後、溶媒を留去して、粗
BON−6を得る。このようにして得られた粗
BON−6を適当な溶媒、例えばアセトニトリル、
酢酸等を用いて再結晶することにより、精製され
たBON−6を得ることができる。 なお、本発明において出発物質として用いる2
−(2−ヒドロキシ−2−プロピル)ナフタレン
−6−カルボン酸と2−(2−ヒドロパーオキシ
−2−プロピル)ナフタレン−6−カルボン酸と
の混合物は、本発明者がさきに開発した方法(特
願昭60−57147号)に従つて、2−イソプロピル
−6−ナフトエ酸を炭酸ソーダ水溶液中で過硫酸
塩の存在下に自動酸化することにより得ることが
でき、また、2−(2−ヒドロキシ−2−プロピ
ル)ナフタレン−6−カルボン酸は上記混合物を
適当な還元剤、例えば亜硫酸ソーダで還元するこ
とにより得ることができる。 発明の効果 叙上のとおり、本発明によると、工業的に容易
に入手し得る2,6−ジイソプロピルナフタレン
から2−イソプロピル−6−ナフトエ酸を経て誘
導される上記出発物質を用いて、液晶ポリマーの
原料として有用な6−ヒドロキシ−2−ナフトエ
酸(BON−6)を、下記実施例に示すように高
収率で有利に製造することが可能となる。 以下に実施例を示して本発明を更に具体的に説
明する。 実施例 1 2−(2−ヒドロキシ−2−プロピル)ナフタ
レン−6−カルボン酸0.5gをアセトニトリル10
mlに溶解し、これに30%過酸化水素水1gと70%
過塩素酸1gとを順次的に加え、50℃で30分間撹
拌下に反応させた。 反応終了後、反応液を高速液体クロマトグラフ
イ(HPLC)で分析したところ、BON−6がほ
ぼ定量的に生成したことが確認された。ついで、
この反応液を20%炭酸ソーダ水溶液でPH3になる
まで中和した後、減圧下にアセトニトリルを留去
して析出するBON−6を濾別し、水洗し、乾燥
して0.4gの粗BON−6を得た。 収率はほぼ定量的であつた。 実施例 2 2−(2−ヒドロキシ−2−プロピル)ナフタ
レン−6−カルボン酸20重量%と2−(2−ヒド
ロパーオキシ−2−プロピル)ナフタレン−6−
カルボン酸80重量%とから成る混合物300gを、
アセトニトリル6に溶解し、これに30%過酸化
水素水120gと70%硫酸840gとの混合物を加え、
50℃で1時間撹拌下に反応させた。反応終了後、
反応液をHPLCで分析したところ、BON−6が
ほぼ定量的に生成したことが確認された。つい
で、この反応液を20%炭酸ソーダ水溶液でPH3に
なるまで中和した後、減圧下にアセトニトリルを
留去して析出するBON−6を濾別し、水洗し、
乾燥して225gの粗BON−6を得た。 得られた粗BON−6をアセトニトリルで再結
晶して純度99%以上の精製BON−6を得た。 実施例 3 実施例2で用いたと同様な混合物から成る出発
物質5gをジオキサン20gに溶解し、これに30%
過酸化水素水1gと90%硫酸2.5gを順次的に加
え、50℃で1時間撹拌下に反応させた。反応終了
後、反応液をHPLCで分析したところ、反応がほ
ぼ定量的に進行したことが確認されたので、この
反応液を20%炭酸ソーダ水溶液でPH3になるまで
中和し、ついで減圧下にジオキサンを留去した。
析出したBON−6を濾別し、水洗し、乾燥して
粗BON−6を3.75g得た。 実施例 4 実施例3において、溶媒としてジオキサンに代
えてアセトニトリル/ジオキサン==1/1容量の
混合溶媒を用いるほかは、実施例3に記載したと
同様の手順で反応を行なつた。その結果、粗
BON−6が3.8g得られた。 実施例 5 実施例2で用いたと同様な混合物から成る出発
物質0.1gをアセトニトリル2gに溶解し、これ
に30%過酸化水素水0.1gと40%過塩素酸0.2gを
順次的に加え、50℃で2時間反応させた。得られ
た反応液をHPLCで分析したところ、BON−6
が収率96%で得られた。 次に比較例として、溶媒にアセトニトリル及び
ジオキサン以外のものを用いた場合を示す。 比較例 1 2−(2−ヒドロキシ−2−プロピル)ナフタ
レン−6−カルボン酸1gを酢酸20mlに溶解し、
これは30%過酸化水素水1gと70%過塩素酸2g
を順次加え、50℃で30分間反応させた。反応終了
後、反応液をHPLCで分析したところ、上記出発
物質はほぼ消失したにもかかわらず、BON−6
の生成量は少量であつた。 比較例 2 比較例1において、酢酸に代えてエタノールを
用いる以外は比較例1に記載と同様の手順で反応
を行なつた。反応終了後、反応液をHPLCで分析
したところ、得られたBON−6の収率は10%で
あつた。 比較例 3 比較例1において、酢酸に代えてトルエンを用
いる以外は比較例1に記載と同様の手順で反応を
行なつたが、出発物質及び生成物は共にトルエン
に殆んど溶解せず、したがつてBON−6の収率
も16%と低かつた。 比較例 4 2−(2−ヒドロキシ−2−プロピル)ナフタ
レン−6−カルボン酸20重量%と2−(2−ヒド
ロパーオキシ−2−プロピル)ナフタレン−6−
カルボン酸80重量%とから成る混合物1gを、エ
タノール20gに溶解し、これに30%過酸化水素水
2g及び70%過塩素酸2gを加えて50℃で30分間
反応を行なつたところ、得られたBON−6の収
率は10%で、残余は殆んど未反応物であつた。 比較例 5 比較例1において過塩素酸に代えて70%硫酸2
gを用いる以外は比較例1に記載と同様の手順で
反応を行なつた。反応に伴なつて出発原料は消失
したものの、BON−6は殆んど生成しなかつた。 参考例 アセトン20mlに、30%H2O21gと70%過塩素酸
2gとを加えて50℃で30分撹拌したところ、白色
の沈澱を生じた。この沈澱は、刺激臭を有し、ア
セトンの縮合物であると思われ、アセトンが本反
応系では不活性溶媒ではなく、反応溶媒として不
適当であることが判明した。
テル類の製造にそのモノマーとして利用される6
−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸の製造方法に関す
る。 従来の技術 従来、6−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸(以下
BON−6と称する)の製造方法として下記に示
すような方法が知られている。 β−ナフトールのカリウム塩を高温加圧下に
炭酸ガスと反応させる方法(米国特許第
1593816号、第4287357号、第4345095号、第
4329494号、第4345094号)、 β−ナフトールのカリウム塩を高沸点媒体中
で高温高圧下に炭酸ガスと反応させる方法(特
開昭57−95939号、特開昭58−99436号)、及び 6−ブロム−2−ナフトールをメタノール中
で高圧下に一酸化炭素と反応させる方法(特開
昭57−91955号)。 しかし、これらの方法は次に述べるような欠点
があり、BON−6の工業的製造方法としては必
ずしも好ましいものとはいえない。 すなわち、上記及びの方法によるとBON
−6のほかに、その異性体である2,3−体
【式】の副生が避けられ ず、したがつて、BON−6の収率も低い。例え
ば、の方法ではBON−6の収率は26.5%程度
であり、また、の方法では45%程度である。更
に、及びの方法によると、多量のβ−ナフト
ールが副生するので、その分離のための煩雑な工
程が必要となる。 また、上記の方法では、70Kg/cm2に達する高
圧が必要であるため製造装置上コスト高となり、
加うるにBON−6の収率も37%程度にすぎない。 一方、反応様式として、一般式 【式】 (式中Arは芳香環を、Xは−OOH又は−OH
を表す) で示される化合物を、一般式 Ar−OHで示される化合物に変換する方法とし
て次のような方法が知られている。 (i) 上記一般式においてXが−OOHの場合に、
クメン法におけるクメンヒドロパーオキシドの
酸分解によりフエノールを製造する方法、及び (ii) 上記一般式においてXが−OHの場合に、溶
媒中で強度の存在下に過酸化水素で酸化してフ
エノール型化合物に変換する方法(特開昭52−
5718号、特公昭35−7558号、英国特許第910735
号、角田、加藤「日化誌80(7),689(1959)、M.
S.KHARASCH et al.,ジヤーナル・オブ・
オルガニツク・ケミストリイ(J.Org.Chem.)
15,748,775(1950)〕。 しかし、上記(i)の方法によると、Xが−OOH
である化合物を単独で反応させる場合には問題が
ないが、Xが−OHである化合物を反応させると
フエノール型化合物に変換されずに、一般式 【式】で示される化合物を経てハルツ 状物質を生成するので(特公昭51−29140号参
照)、XがOHである化合物又は該化合物とXが
−OOHである化合物との混合物を反応させる場
合には適当な方法とは言えない。 また上記(ii)の方法は、上掲の各文献に記載され
ている反応様式は、2−ヒドロキシ−2−プロピ
ルベンゼン、p−ジ(2−ヒドロキシ−2−プロ
ピル)ベンゼン並びにp−2−ヒドロキシ−2−
プロピル−2,2′ジメチルベンジルヒドロパーオ
キシド等をフエノールもしくはハイドロキノンに
変換する方法であつて、本発明が対象とするナフ
タレン骨格を有する化合物、特にナフトエ酸骨格
を有するカルビノール類をBON−6に変換する
方法については、上掲の各文献には見られない。 因に、先行文献中に記載されている溶媒中で本
発明の反応を行なおうとしても出発物質が該溶媒
に溶けないとか、原料が消失するにもかかわら
ず、BON−6が生成しないとか、溶媒自体が反
応するとか、反応速度が小さい等の理由でいずれ
も不適である。 発明が解決しようとする問題点 本発明は、上述したようなBON−6の製造上
の問題点に鑑み、BON−6の工業的に有利な製
造方法について検討した結果なされたものであつ
て、工業的に容易に入手し得る2,6ジイソプロ
ピルナフタレンから誘導される2−(2−ヒドロ
キシ−2−プロピル)ナフタレン−6−カルボン
酸 もしくは該ナフタレン−6−カルボン酸と2−
(2−ヒドロパーオキシ−2−プロピル)ナフタ
レン−6−カルボン酸 との混合物を出発物質として用い、これらの出発
物質を特定な条件下に酸化することにより、液晶
形成能を有する、いわゆる液晶ポリマーの製造原
料として有用なBON−6を有利に製造し得る方
法を提供することを目的とする。 以下本発明を詳しく説明する。 発明の構成 本発明の特徴は、2−(2−ヒドロキシ−2−
プロピル)ナフタレン−6−カルボン酸もしくは
該ナフタレン−6−カルボン酸と2−(2−ヒド
ロパーオキシ−2−プロピル)ナフタレン−6−
カルボン酸との混合物を、アセトニトリル及び/
又はジオキサン中で無機酸の存在下に過酸化水素
により酸化して6−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸
(BON−6)を得ることにある。 特に、本発明は、反応系の溶媒としてアセトニ
トリル又はジオキサンもしくは両者の混合物を用
いることが重要であつて、これらの溶媒を用いる
ことにより、2−(2−ヒドロキシ−2−プロピ
ル)ナフタレン−6−カルボン酸のみならず、該
ナフタレン−6−カルボン酸と2−(2−ヒドロ
パーオキシ−2−プロピル)ナフタレン−6−カ
ルボン酸との混合物からもBON−6を製造する
ことを可能としたものである。すなわち、これら
の出発物質からBON−6を製造するに当つては
使用する溶媒の種類により反応上の選択性が全く
異なるものであつて、前述した先行文献に示され
た溶媒、例えばアセトンはこの反応に対して不活
性ではなく、アセトン中でこの反応を行なうと
BON−6も一部生成するがそれ以外にアセトン
に由来する副生物が多量に生成する。また、エタ
ノール中の反応では反応速度が小さくBON−6
の収率も低い。次に酢酸中では、原料は消失する
がBON−6は殆んど生成せず副反応が優先する。
一方、炭化水素には本発明の原料は溶解しないの
で溶媒としては不適当である。 問題点を解決するための手段 本発明においては、まず、出発物質としての2
−(2−ヒドロキシ−2−プロピル)ナフタレン
−6−カルボン酸もしくは該ナフタレン−6−カ
ルボン酸と2−(2−ヒドロパーオキシ−2−プ
ロピル)ナフタレン−6−カルボン酸との混合物
を、溶媒としてのアセトニトリル又はジオキサン
もしくは両者の混合物に溶解し、この溶液に無機
酸及び過酸化水素を滴下して反応させる。 この場合、溶媒は出発物質に対して3〜30倍量
(vol/wt)用いる。過酸化水素は市販の30%水
溶液を使用するとよく、出発物質中の2−(2−
ヒドロキシ−2−プロピル)ナフタレン−6−カ
ルボン酸に対して1〜10倍モル用いる。 なお、出発物質に対する過酸化水素の量が少な
すぎると上記出発物質の転化率が低く、一方多す
ぎると反応生成物の着色が著しくなるので留意す
べきである。 また、無機酸としては硫酸又は過塩素酸を用い
るのが好ましく、硫酸は濃硫酸もしくは30%程度
の水分を含有するものでもよく、過塩素酸は70
%、60%並びに40%濃度の市販製品を用いるとよ
い。 これらの無機酸の使用量は出発物質に対して
0.5〜4倍量(wt)が好ましい。なお、無機酸の
使用量が少なすぎると反応が完結せず、一方多す
ぎると選択率が悪くなつて反応生成物の着色の原
因となる。 また、過酸化水素と無機酸を上述のようにして
出発物質へ添加するに際しては、両者の混合物を
加えるか、或は過酸化水素を加えた後に無機酸を
加えるようにして、常に無機酸は過酸化水素と共
存するように添加することが必要である。 本発明における反応温度は室温乃至80℃の範囲
で選択し得るが、好ましい範囲は30〜60℃であ
る。また、反応時間は、原料物質の仕込組成及び
反応温度により異なるも、通常10分〜3時間で反
応は完結する。 反応終了後は、反応混合物に苛性アルカリ、炭
酸ソーダ、重炭酸ソーダ等を添加して中和し、析
出した塩を濾別した後、溶媒を留去して、粗
BON−6を得る。このようにして得られた粗
BON−6を適当な溶媒、例えばアセトニトリル、
酢酸等を用いて再結晶することにより、精製され
たBON−6を得ることができる。 なお、本発明において出発物質として用いる2
−(2−ヒドロキシ−2−プロピル)ナフタレン
−6−カルボン酸と2−(2−ヒドロパーオキシ
−2−プロピル)ナフタレン−6−カルボン酸と
の混合物は、本発明者がさきに開発した方法(特
願昭60−57147号)に従つて、2−イソプロピル
−6−ナフトエ酸を炭酸ソーダ水溶液中で過硫酸
塩の存在下に自動酸化することにより得ることが
でき、また、2−(2−ヒドロキシ−2−プロピ
ル)ナフタレン−6−カルボン酸は上記混合物を
適当な還元剤、例えば亜硫酸ソーダで還元するこ
とにより得ることができる。 発明の効果 叙上のとおり、本発明によると、工業的に容易
に入手し得る2,6−ジイソプロピルナフタレン
から2−イソプロピル−6−ナフトエ酸を経て誘
導される上記出発物質を用いて、液晶ポリマーの
原料として有用な6−ヒドロキシ−2−ナフトエ
酸(BON−6)を、下記実施例に示すように高
収率で有利に製造することが可能となる。 以下に実施例を示して本発明を更に具体的に説
明する。 実施例 1 2−(2−ヒドロキシ−2−プロピル)ナフタ
レン−6−カルボン酸0.5gをアセトニトリル10
mlに溶解し、これに30%過酸化水素水1gと70%
過塩素酸1gとを順次的に加え、50℃で30分間撹
拌下に反応させた。 反応終了後、反応液を高速液体クロマトグラフ
イ(HPLC)で分析したところ、BON−6がほ
ぼ定量的に生成したことが確認された。ついで、
この反応液を20%炭酸ソーダ水溶液でPH3になる
まで中和した後、減圧下にアセトニトリルを留去
して析出するBON−6を濾別し、水洗し、乾燥
して0.4gの粗BON−6を得た。 収率はほぼ定量的であつた。 実施例 2 2−(2−ヒドロキシ−2−プロピル)ナフタ
レン−6−カルボン酸20重量%と2−(2−ヒド
ロパーオキシ−2−プロピル)ナフタレン−6−
カルボン酸80重量%とから成る混合物300gを、
アセトニトリル6に溶解し、これに30%過酸化
水素水120gと70%硫酸840gとの混合物を加え、
50℃で1時間撹拌下に反応させた。反応終了後、
反応液をHPLCで分析したところ、BON−6が
ほぼ定量的に生成したことが確認された。つい
で、この反応液を20%炭酸ソーダ水溶液でPH3に
なるまで中和した後、減圧下にアセトニトリルを
留去して析出するBON−6を濾別し、水洗し、
乾燥して225gの粗BON−6を得た。 得られた粗BON−6をアセトニトリルで再結
晶して純度99%以上の精製BON−6を得た。 実施例 3 実施例2で用いたと同様な混合物から成る出発
物質5gをジオキサン20gに溶解し、これに30%
過酸化水素水1gと90%硫酸2.5gを順次的に加
え、50℃で1時間撹拌下に反応させた。反応終了
後、反応液をHPLCで分析したところ、反応がほ
ぼ定量的に進行したことが確認されたので、この
反応液を20%炭酸ソーダ水溶液でPH3になるまで
中和し、ついで減圧下にジオキサンを留去した。
析出したBON−6を濾別し、水洗し、乾燥して
粗BON−6を3.75g得た。 実施例 4 実施例3において、溶媒としてジオキサンに代
えてアセトニトリル/ジオキサン==1/1容量の
混合溶媒を用いるほかは、実施例3に記載したと
同様の手順で反応を行なつた。その結果、粗
BON−6が3.8g得られた。 実施例 5 実施例2で用いたと同様な混合物から成る出発
物質0.1gをアセトニトリル2gに溶解し、これ
に30%過酸化水素水0.1gと40%過塩素酸0.2gを
順次的に加え、50℃で2時間反応させた。得られ
た反応液をHPLCで分析したところ、BON−6
が収率96%で得られた。 次に比較例として、溶媒にアセトニトリル及び
ジオキサン以外のものを用いた場合を示す。 比較例 1 2−(2−ヒドロキシ−2−プロピル)ナフタ
レン−6−カルボン酸1gを酢酸20mlに溶解し、
これは30%過酸化水素水1gと70%過塩素酸2g
を順次加え、50℃で30分間反応させた。反応終了
後、反応液をHPLCで分析したところ、上記出発
物質はほぼ消失したにもかかわらず、BON−6
の生成量は少量であつた。 比較例 2 比較例1において、酢酸に代えてエタノールを
用いる以外は比較例1に記載と同様の手順で反応
を行なつた。反応終了後、反応液をHPLCで分析
したところ、得られたBON−6の収率は10%で
あつた。 比較例 3 比較例1において、酢酸に代えてトルエンを用
いる以外は比較例1に記載と同様の手順で反応を
行なつたが、出発物質及び生成物は共にトルエン
に殆んど溶解せず、したがつてBON−6の収率
も16%と低かつた。 比較例 4 2−(2−ヒドロキシ−2−プロピル)ナフタ
レン−6−カルボン酸20重量%と2−(2−ヒド
ロパーオキシ−2−プロピル)ナフタレン−6−
カルボン酸80重量%とから成る混合物1gを、エ
タノール20gに溶解し、これに30%過酸化水素水
2g及び70%過塩素酸2gを加えて50℃で30分間
反応を行なつたところ、得られたBON−6の収
率は10%で、残余は殆んど未反応物であつた。 比較例 5 比較例1において過塩素酸に代えて70%硫酸2
gを用いる以外は比較例1に記載と同様の手順で
反応を行なつた。反応に伴なつて出発原料は消失
したものの、BON−6は殆んど生成しなかつた。 参考例 アセトン20mlに、30%H2O21gと70%過塩素酸
2gとを加えて50℃で30分撹拌したところ、白色
の沈澱を生じた。この沈澱は、刺激臭を有し、ア
セトンの縮合物であると思われ、アセトンが本反
応系では不活性溶媒ではなく、反応溶媒として不
適当であることが判明した。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 2−(2−ヒドロキシ−2−プロピル)ナフ
タレン−6−カルボン酸もしくは該ナフタレン−
6−カルボン酸と2−(2−ヒドロパーオキシ−
2−プロピル)ナフタレン−6−カルボン酸の混
合物を、アセトニトリル及び/又はジオキサン中
で無機酸の存在下に過酸化水素により酸化するこ
とを特徴とする6−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸
の製造方法。 2 無機酸が硫酸又は過塩素酸である特許請求の
範囲第1項記載の製造方法。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9914285A JPS61257942A (ja) | 1985-05-10 | 1985-05-10 | 6−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸の製造方法 |
CA000508727A CA1267911A (en) | 1985-05-10 | 1986-05-08 | Process for producing 6-hydroxy-2-naphthoic acid |
GB08611311A GB2174706B (en) | 1985-05-10 | 1986-05-09 | Process for producing 6-hydroxy-2-naphthoic acid |
FR8606720A FR2581642B1 (fr) | 1985-05-10 | 1986-05-09 | Procede pour la production d'acide 6-hydroxy-2-naphtoique |
DE19863615811 DE3615811A1 (de) | 1985-05-10 | 1986-05-10 | Verfahren zum herstellen von 6-hydroxy-2-naphthoesaeure |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9914285A JPS61257942A (ja) | 1985-05-10 | 1985-05-10 | 6−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61257942A JPS61257942A (ja) | 1986-11-15 |
JPH0437060B2 true JPH0437060B2 (ja) | 1992-06-18 |
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ID=14239449
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9914285A Granted JPS61257942A (ja) | 1985-05-10 | 1985-05-10 | 6−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸の製造方法 |
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CA (1) | CA1267911A (ja) |
DE (1) | DE3615811A1 (ja) |
FR (1) | FR2581642B1 (ja) |
GB (1) | GB2174706B (ja) |
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---|---|---|---|---|
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Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US1593816A (en) * | 1924-08-16 | 1926-07-27 | Grasselli Dyestuffs Corp | Making 2-hydroxy-naphthalene-6-carboxylic acid |
BE608250A (ja) * | 1960-09-17 | |||
US4345095A (en) * | 1980-03-06 | 1982-08-17 | American Cyanamid Company | Process for the production of 6-hydroxy-2-naphthoic acid |
JPS60243063A (ja) * | 1984-05-17 | 1985-12-03 | Kureha Chem Ind Co Ltd | 2−(2−ハイドロパ−オキシ−2−プロピル)ナフタリン−6−カルボン酸メチルおよびその製造方法 |
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1985
- 1985-05-10 JP JP9914285A patent/JPS61257942A/ja active Granted
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1986
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- 1986-05-09 GB GB08611311A patent/GB2174706B/en not_active Expired
- 1986-05-10 DE DE19863615811 patent/DE3615811A1/de active Granted
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GB2174706A (en) | 1986-11-12 |
DE3615811A1 (de) | 1986-11-13 |
JPS61257942A (ja) | 1986-11-15 |
FR2581642B1 (fr) | 1989-06-02 |
GB2174706B (en) | 1988-11-23 |
GB8611311D0 (en) | 1986-06-18 |
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