JPS58174355A - アミノフエニル−β−ヒドロキシエチルスルホンの製造方法 - Google Patents
アミノフエニル−β−ヒドロキシエチルスルホンの製造方法Info
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- JPS58174355A JPS58174355A JP5748382A JP5748382A JPS58174355A JP S58174355 A JPS58174355 A JP S58174355A JP 5748382 A JP5748382 A JP 5748382A JP 5748382 A JP5748382 A JP 5748382A JP S58174355 A JPS58174355 A JP S58174355A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、アミノフェニル−β−ヒドロキシエチルスル
ホンの新規な製造方法に関する。
ホンの新規な製造方法に関する。
更に詳しくは、本発明は、セルロース繊維材料の染色に
多用されているビニルスルホン型反応染料の重要な中間
体であるアミノフェニル−β−ヒドロキシエチルスルホ
ンの新規な製造方法に関する。
多用されているビニルスルホン型反応染料の重要な中間
体であるアミノフェニル−β−ヒドロキシエチルスルホ
ンの新規な製造方法に関する。
従来、ビニルスルホン型反応染料の重要な中間体である
下式（Ｉｌ で示すれるアミノフェニル−β−スルファトエチルスル
ホンは、アニリンに無水酢酸を作用させてアセトアニリ
ドとした後、大過剰のクロルスルホン酸中でスルホニル
クロライド化してアセチルアミノベンゼンスルホニルク
ロライドを得、これを亜硫酸ナトリウムで還元してスル
フィン酸とし、次いでエチレンオキサイドまたはエチレ
ンクロルヒドリンを作用させてアセチルアミノフェニル
−β−とドロキシエチルスルホンを得これを硫酸中で加
水分解すると共に硫酸エステル化することにより製造さ
れている。
下式（Ｉｌ で示すれるアミノフェニル−β−スルファトエチルスル
ホンは、アニリンに無水酢酸を作用させてアセトアニリ
ドとした後、大過剰のクロルスルホン酸中でスルホニル
クロライド化してアセチルアミノベンゼンスルホニルク
ロライドを得、これを亜硫酸ナトリウムで還元してスル
フィン酸とし、次いでエチレンオキサイドまたはエチレ
ンクロルヒドリンを作用させてアセチルアミノフェニル
−β−とドロキシエチルスルホンを得これを硫酸中で加
水分解すると共に硫酸エステル化することにより製造さ
れている。
あるいは、ニトロベンゼンを大過剰のクロルスルホン酸
中でスルホニルクロライド化して論−ニトロベンゼンス
ルホニルクロライトラ得、これを亜硫酸ナトリウムで還
元して対応するスルフィン酸とし、次いでエチレンオキ
サイドまたはエチレンクロルヒドリンを作用させてｍ
−二トロフェニルーβ−ヒドロキシエチルスルホンを得
、これを鉄粉還元してｍ−アミノフェニル−β−ヒドロ
キシエチルスルホンとし、次いで硫酸エステル化するこ
とにより製造されている。
中でスルホニルクロライド化して論−ニトロベンゼンス
ルホニルクロライトラ得、これを亜硫酸ナトリウムで還
元して対応するスルフィン酸とし、次いでエチレンオキ
サイドまたはエチレンクロルヒドリンを作用させてｍ
−二トロフェニルーβ−ヒドロキシエチルスルホンを得
、これを鉄粉還元してｍ−アミノフェニル−β−ヒドロ
キシエチルスルホンとし、次いで硫酸エステル化するこ
とにより製造されている。
しかし上記のいずれの方法もこれを工業的に実施するに
は以下に列挙する種々の問題があり□ 必ずしも工業的に有利な方法とはいえない。
は以下に列挙する種々の問題があり□ 必ずしも工業的に有利な方法とはいえない。
■ クロルスルホン酸中でのスルホニルクロライド化は
、本質的に平衡反応であり、アセチルアミノベンゼンス
ルホン酸の副生を抑えるため大過剰のクロルスルホン酸
が必要である。
、本質的に平衡反応であり、アセチルアミノベンゼンス
ルホン酸の副生を抑えるため大過剰のクロルスルホン酸
が必要である。
■ 上述の過剰クロルスルホン酸の回収が困難で、最終
的には酸性廃液として処理することが必要となる。
的には酸性廃液として処理することが必要となる。
■ アセチルアミノベンゼンスルホニルクロライドは不
安定で、収率低下の一因となっている。
安定で、収率低下の一因となっている。
■ 亜硫酸ナトリウムによるスルフィン酸への還元は、
スルフィン酸の安定性が低く、従って反応収率が低い。
スルフィン酸の安定性が低く、従って反応収率が低い。
■ アニリンを出発原料とする場合最終工程でのアセチ
ル基の加水分解で脱離した酢酸とヒドロキシル基との反
応により酢酸エステル体が副生じ純度低下を招き、更に
は系内に存在する脱離した酢酸が、反応器材の腐蝕ある
いは廃水の問題等大きな障害となる。
ル基の加水分解で脱離した酢酸とヒドロキシル基との反
応により酢酸エステル体が副生じ純度低下を招き、更に
は系内に存在する脱離した酢酸が、反応器材の腐蝕ある
いは廃水の問題等大きな障害となる。
本発明者らは、式（１）で示される化合物の中間体であ
るアミノフェニル−β−ヒドロキシエチルスルホンの工
業的有利な製法を見出すべくａ意検Ｎの結果、ニトロハ
ロベンゼンを出発原料とし、これにメルカプトエタノー
ルを作用させてスルフィド化合物を得、次いでこれを酸
化して得られるβ−ヒドロキシエチルスルホン化合物を
還元して目的のアミノフェニル−β−ヒドロキシエチル
スルホントスる新規な工程を経る製法を見出し更に各工
程の反応条件について詳しく検討し、本発明を完成する
に至った。
るアミノフェニル−β−ヒドロキシエチルスルホンの工
業的有利な製法を見出すべくａ意検Ｎの結果、ニトロハ
ロベンゼンを出発原料とし、これにメルカプトエタノー
ルを作用させてスルフィド化合物を得、次いでこれを酸
化して得られるβ−ヒドロキシエチルスルホン化合物を
還元して目的のアミノフェニル−β−ヒドロキシエチル
スルホントスる新規な工程を経る製法を見出し更に各工
程の反応条件について詳しく検討し、本発明を完成する
に至った。
即ち、本発明は、ニトロハロベンゼンを塩基の存在下、
メルカプトエタノールと反応させて下式（ＩＩ）、 で示されるスルフィド化合物を得、これを酸化して下式
＠）、 で示されるスルホン化合物とし、次いでこれを還元する
ことを特徴とする下式剃、 で示されるアミノフェニル−β−ヒドロキシエチルスル
ホンの製造方法を提供する。
メルカプトエタノールと反応させて下式（ＩＩ）、 で示されるスルフィド化合物を得、これを酸化して下式
＠）、 で示されるスルホン化合物とし、次いでこれを還元する
ことを特徴とする下式剃、 で示されるアミノフェニル−β−ヒドロキシエチルスル
ホンの製造方法を提供する。
本発明方法によれば上述したいずれの問題もなく、目的
とするアミノフェニル−β−ヒドロキシエチルスルホン
を高収率、高純度に工業的有利に製造することができる
。
とするアミノフェニル−β−ヒドロキシエチルスルホン
を高収率、高純度に工業的有利に製造することができる
。
以下に本発明方法を詳細に説明する。
本発明方法の出発原料であるニトロハロベンゼンとは、
たとえば、Ｐ−ニトロクロロベンゼン、ｍ−ニトロクロ
ロベンゼン、０−二トロクロルベンゼン、Ｐ−ニトロブ
ロモベンゼン、ｍ−ニトロブロモベンゼン、０−ニトロ
ブロモベンゼンなどであり、ヨードあるいはフルオロベ
ンゼンのニトロ置換体を含むことができる。またジニト
ロ体のハロベンゼン誘導体も例示できる。
たとえば、Ｐ−ニトロクロロベンゼン、ｍ−ニトロクロ
ロベンゼン、０−二トロクロルベンゼン、Ｐ−ニトロブ
ロモベンゼン、ｍ−ニトロブロモベンゼン、０−ニトロ
ブロモベンゼンなどであり、ヨードあるいはフルオロベ
ンゼンのニトロ置換体を含むことができる。またジニト
ロ体のハロベンゼン誘導体も例示できる。
ニトロハロベンゼンとメルカプトエタノールとの反応は
それぞれを化学理論量、一般的にはメルカプトエタノー
ルの小過剰量を用い反応媒体中塩基の存在下に行う。
それぞれを化学理論量、一般的にはメルカプトエタノー
ルの小過剰量を用い反応媒体中塩基の存在下に行う。
使用される反応媒体としては水、メタノール、エタノー
ルなどのアルコール類、アセトニトリルなどのニトリル
類、ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリド
ンなどのＮ−アルキル置換アミド類、ジメチルスルホキ
サイドなどのスルホキサイド類、トルエンクロルベンゼ
ンなどのベンゼン置換体などの単独または混合物が例示
され、反応原料であるメルカプトエタノール自体も媒体
として使用することができる。これらの反応媒体中、目
的とするアミノフェニル−！−ヒドロキシエチルスルホ
ンの収率面からニトリル類、Ｎ−アルキル置換アミド類
およびスルホキサイド類が特に好ましい。反応媒体の使
用量は原料テするニトロハロベンゼン１に対して０．５
〜２０重量倍、好ましくは０．８−１０重量倍が使用さ
れる。
ルなどのアルコール類、アセトニトリルなどのニトリル
類、ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリド
ンなどのＮ−アルキル置換アミド類、ジメチルスルホキ
サイドなどのスルホキサイド類、トルエンクロルベンゼ
ンなどのベンゼン置換体などの単独または混合物が例示
され、反応原料であるメルカプトエタノール自体も媒体
として使用することができる。これらの反応媒体中、目
的とするアミノフェニル−！−ヒドロキシエチルスルホ
ンの収率面からニトリル類、Ｎ−アルキル置換アミド類
およびスルホキサイド類が特に好ましい。反応媒体の使
用量は原料テするニトロハロベンゼン１に対して０．５
〜２０重量倍、好ましくは０．８−１０重量倍が使用さ
れる。
また塩基としては水酸化アルカリ金属、炭酸アルカリ金
属、水酸化アルカリ土金属などが例示され、その使用量
は通常反応原料に対して化学理論量もしくはその少過剰
が好ましい。
属、水酸化アルカリ土金属などが例示され、その使用量
は通常反応原料に対して化学理論量もしくはその少過剰
が好ましい。
塩基は反応の進行と共に添加していくこともよいし、あ
るいは、あらかじめ反応系に添加しても良い。
るいは、あらかじめ反応系に添加しても良い。
また上記の塩基はその水溶液の形で用いることもできる
。
。
反応温度は３０〜７０℃、好ましくは４０〜６０℃が選
ばれる。
ばれる。
このような反応により得られた反応混合物からＰ別、分
液、蒸留などの操作により、スルフィド化合物用）が収
率よく得られる。
液、蒸留などの操作により、スルフィド化合物用）が収
率よく得られる。
次にこのスルフィド化合物（ＩＩ）を酸化してスルホン
化合物＠）を得る。
化合物＠）を得る。
酸化方法としては、たとえば過マンガン酸塩による方法
、りｄム酸による方法、四酸化ルテニウムによる方法、
ハロゲン詔よび次亜ハロゲン酸とその塩による方法、酸
素による方法、過酸化水素による方法、有機過酸による
方法等が例示される。
、りｄム酸による方法、四酸化ルテニウムによる方法、
ハロゲン詔よび次亜ハロゲン酸とその塩による方法、酸
素による方法、過酸化水素による方法、有機過酸による
方法等が例示される。
たとえば過酸化水素による酸化方法では使用される過酸
化水素は、化学理論量が使用されるが一般には少過剰を
使用すると反応が円滑に進行する。
化水素は、化学理論量が使用されるが一般には少過剰を
使用すると反応が円滑に進行する。
反応温度は通常２０〜９０℃の範囲が選ばれるが、好ま
しくは３０〜７０℃が採用される。反応は通常溶媒の存
在下に行なわれるがたとえば、水、メタノールなどのア
ルコール類、アセトニトリルなどのニトリル類、ジメチ
ルホルムアミドなどのＮ−アルキル置換アミド類などが
例示され、ニトロハロヘンセンより化合物（ＩＩＩを得
るときに用いた溶媒が混入していてもよい。
しくは３０〜７０℃が採用される。反応は通常溶媒の存
在下に行なわれるがたとえば、水、メタノールなどのア
ルコール類、アセトニトリルなどのニトリル類、ジメチ
ルホルムアミドなどのＮ−アルキル置換アミド類などが
例示され、ニトロハロヘンセンより化合物（ＩＩＩを得
るときに用いた溶媒が混入していてもよい。
アセトニトリルなどのニトリル類を溶媒とすると反応を
円滑にかつ収率よく進めることができる。
円滑にかつ収率よく進めることができる。
なおこの時酢酸、炭酸アルカリ、重炭酸アルカリなどの
無機塩、水酸化アルカリ、あるいはタングステン酸など
の金属触媒などを存在させると反応は極めて円滑に進行
し、かつ反応収率も改善される。
無機塩、水酸化アルカリ、あるいはタングステン酸など
の金属触媒などを存在させると反応は極めて円滑に進行
し、かつ反応収率も改善される。
このようＫしてスルフィド化合物（ｍｌよりスルホン化
合物（ＩＩＩ）を得たのち、このものを還元してアミノ
フェニル−β−ヒドロキシエチルスルホンを得る。
合物（ＩＩＩ）を得たのち、このものを還元してアミノ
フェニル−β−ヒドロキシエチルスルホンを得る。
この還元法は一般の化学還元法、たとえば鉄粉還元法、
硫化アルカリ還元法などでもよいが、製品の収率、純度
、反応操作などを考慮に入れると活性化された金属を触
媒とした水素接触反応が好ましい。
硫化アルカリ還元法などでもよいが、製品の収率、純度
、反応操作などを考慮に入れると活性化された金属を触
媒とした水素接触反応が好ましい。
この時の触媒としては、ラネー型金属触媒、たとえばラ
ネーニッケル、ラネー銅、ラネー鉄など適当な担体に保
持された貴金属触飄たとえばパラジウム、ロジウム、ル
ビジウム、白金などを炭素、アルミナ、シリカ、沈降性
硫酸バリウムなどに保持されたもの、およびその他の金
属触媒、たとえば安定化ラネーニッケル、銅とクロムの
酸化混合物などがある。
ネーニッケル、ラネー銅、ラネー鉄など適当な担体に保
持された貴金属触飄たとえばパラジウム、ロジウム、ル
ビジウム、白金などを炭素、アルミナ、シリカ、沈降性
硫酸バリウムなどに保持されたもの、およびその他の金
属触媒、たとえば安定化ラネーニッケル、銅とクロムの
酸化混合物などがある。
反応媒体としては水、メタノール、エタノール、 ｍ−
４タハ１ｉｏ−プロパツール、ジオキサン、ジプロピル
エーテル、ジメチルホルムアミドなどの単独または混合
物が例示されその量はスルホン化合物（Ｉ［）に対して
０．５〜１０重量倍、好ましくは１〜５重量倍が使用さ
れる。反応圧力すなわち水素圧は常圧、加圧いずれでも
よいが、通常５〜６０Ｋｆ／ｃｍ” が反応速度的に
好適であり、反応温度としては３０〜１５０℃、好まし
くは４０〜１００℃が選ばれる。反応時間は３〜１２時
間で充分である。
４タハ１ｉｏ−プロパツール、ジオキサン、ジプロピル
エーテル、ジメチルホルムアミドなどの単独または混合
物が例示されその量はスルホン化合物（Ｉ［）に対して
０．５〜１０重量倍、好ましくは１〜５重量倍が使用さ
れる。反応圧力すなわち水素圧は常圧、加圧いずれでも
よいが、通常５〜６０Ｋｆ／ｃｍ” が反応速度的に
好適であり、反応温度としては３０〜１５０℃、好まし
くは４０〜１００℃が選ばれる。反応時間は３〜１２時
間で充分である。
このような条件下で還元反応を行なうとスルホン化合物
＠）はほとんど定量的に還元されてアミノフェニル−β
−ヒドロキシエチルスルホンとなり副生物は皆無である
。
＠）はほとんど定量的に還元されてアミノフェニル−β
−ヒドロキシエチルスルホンとなり副生物は皆無である
。
反応終了後、触媒は戸別され回収、再使用される。反応
液は蒸留などにより溶媒を留去し、遊離アミンとして目
的物を得る。
液は蒸留などにより溶媒を留去し、遊離アミンとして目
的物を得る。
このようなアミノフェニル−β−ヒドロキシエチルスル
ホンの製造における本発明の方法は原料化合物よりの各
工程での反応収率が、それぞれ極めて高収率であり、従
って出発原料より目的化合物の通算収率も非常に高くか
つ得られた製品も高純度であり、しかも前述したような
従来法に比べて各工程で生成する中間物も安定にして取
り扱い易い物質であり、反応操作も非常に容易であるな
どの極めてすぐれた特徴をもつ製造法である。
ホンの製造における本発明の方法は原料化合物よりの各
工程での反応収率が、それぞれ極めて高収率であり、従
って出発原料より目的化合物の通算収率も非常に高くか
つ得られた製品も高純度であり、しかも前述したような
従来法に比べて各工程で生成する中間物も安定にして取
り扱い易い物質であり、反応操作も非常に容易であるな
どの極めてすぐれた特徴をもつ製造法である。
本発明方法によって得られたアミノフェニル−β−ヒド
ロキシエチルスルホンは通常の方法で容易に硫酸エステ
ル化され化合物ｆＩｌとすることができる。このように
して得られた化合物＋Ｉ＋は染料化に供されるが、高純
度であるため染料化の反応が極めて安定して実施でき、
また得られた染料の色相は安定したものとなる。
ロキシエチルスルホンは通常の方法で容易に硫酸エステ
ル化され化合物ｆＩｌとすることができる。このように
して得られた化合物＋Ｉ＋は染料化に供されるが、高純
度であるため染料化の反応が極めて安定して実施でき、
また得られた染料の色相は安定したものとなる。
以下に実施例で本発明の詳細な説明するが本発明は、こ
れ恰よって限定されるものではない。例中、部およびチ
は夫々重量部、重量％を表わす。
れ恰よって限定されるものではない。例中、部およびチ
は夫々重量部、重量％を表わす。
実施例１
４−ニトロクロロバフ４フ１５８部ヲジメチルホルムア
ミド１６０部に添加し、メルカプトエタノール９４部を
加え、５０℃に昇温した。
ミド１６０部に添加し、メルカプトエタノール９４部を
加え、５０℃に昇温した。
続いて水酸化ナトリウムの粉体４１部を４時間で添加し
た。添加終了後、更に１時間同温度で保温した。反応終
了後、反応マスを中和し析出している塩化ナトリウムを
戸別した後枦液をフラッシュ蒸留しジメチルホルムアミ
ドを留去した。
た。添加終了後、更に１時間同温度で保温した。反応終
了後、反応マスを中和し析出している塩化ナトリウムを
戸別した後枦液をフラッシュ蒸留しジメチルホルムアミ
ドを留去した。
４−＝）０７二二ルーβ−ヒドロキシエチルスルフィド
（Ｉ−１＞を１９３部得九０収率１１９７％である。コ
ノ（Ｉ−１）’−３９０部のアセトニトリルに加え４０
℃に系内を保ちながら３０％過酸化水素水２７５部を１
時間で添加した。 この時系内のｐＨを９．０に保つた
めに１〇−炭酸ナトリウム水溶液を滴下した。
（Ｉ−１＞を１９３部得九０収率１１９７％である。コ
ノ（Ｉ−１）’−３９０部のアセトニトリルに加え４０
℃に系内を保ちながら３０％過酸化水素水２７５部を１
時間で添加した。 この時系内のｐＨを９．０に保つた
めに１〇−炭酸ナトリウム水溶液を滴下した。
滴下終了後、更に３時間保温した。反応終了後、アセト
ニトリルを留去し、４−ニトロフェニル−β−ヒドロキ
シエチルスルホン（Ｉ−２）を濾過して反応系内より取
り出した。
ニトリルを留去し、４−ニトロフェニル−β−ヒドロキ
シエチルスルホン（Ｉ−２）を濾過して反応系内より取
り出した。
次いでメタノール１０００容量部と共にステンレス製オ
ートクレーブに入れラネーニッケル触媒２．５部を添加
し、３ｏＫｆ／ｃＩ？で水素添加還元を８時間要して行
なった。反応液より触媒などの固型物を熱時濾過によっ
て除き、続いて水を留去した後冷却し４−アミノフェニ
ル−β−ヒドロキシエチルスルホン１８５部得た。
ートクレーブに入れラネーニッケル触媒２．５部を添加
し、３ｏＫｆ／ｃＩ？で水素添加還元を８時間要して行
なった。反応液より触媒などの固型物を熱時濾過によっ
て除き、続いて水を留去した後冷却し４−アミノフェニ
ル−β−ヒドロキシエチルスルホン１８５部得た。
４−二トロク口口ベンゼンからのｉ算収率は９２，５％
であった。
であった。
実施例２
４−ニトロクロロバ２４フ１５８部ヲジメチルスルホキ
シド１６０部に添加し、メルカプトエタノール１１５部
を加え５０℃に昇温した。
シド１６０部に添加し、メルカプトエタノール１１５部
を加え５０℃に昇温した。
水酸化ナトリウムの粉体４１部を５時間にゎたって添加
した。添加終了後、更に１時間同温度で保温した。反応
終了後、反応マスを中和し、析出している塩化ナトリウ
ムを戸別した後、Ｐ液をフラッシュ蒸留し、ジメチルス
′ルホキシドを留去した。
した。添加終了後、更に１時間同温度で保温した。反応
終了後、反応マスを中和し、析出している塩化ナトリウ
ムを戸別した後、Ｐ液をフラッシュ蒸留し、ジメチルス
′ルホキシドを留去した。
４−ニトロフェニル−β−ヒトロキシェチルスルフィド
（ＩＩ−１）１９１部を得た。収率は９６チである。
（ＩＩ−１）１９１部を得た。収率は９６チである。
この（Ｉｔ−１）をアセトニトリル５５０部、６％炭酸
す） ＩＪウム水溶液４００部に加え３０％過酸化水素
水２７２部を、４５℃に系内を保温しながら２時間にわ
たって滴下した。滴下終了後、更に３時間保温した。反
応終了後、アセトニトリルヲ留去し４−二トロフェニル
ーβ−ヒドロキシエチルスルホン（ＩＩ−２）を−過し
て反応系内より取り出した。得量は２０６部であった。
す） ＩＪウム水溶液４００部に加え３０％過酸化水素
水２７２部を、４５℃に系内を保温しながら２時間にわ
たって滴下した。滴下終了後、更に３時間保温した。反
応終了後、アセトニトリルヲ留去し４−二トロフェニル
ーβ−ヒドロキシエチルスルホン（ＩＩ−２）を−過し
て反応系内より取り出した。得量は２０６部であった。
次いでこの（Ｉ−２）をメタノール１０３０部、ラネー
ニッケル触媒２部を混じ、８０℃ ３ｏ々／ｃｓ”で水
素添加還元を８時間を要して行なった。反応液より触媒
などの固型物をｐ別後、溶媒を留去した。
ニッケル触媒２部を混じ、８０℃ ３ｏ々／ｃｓ”で水
素添加還元を８時間を要して行なった。反応液より触媒
などの固型物をｐ別後、溶媒を留去した。
４−アミノフェニル−β−ヒドロキシエチ１１１、′
ルスルホン１７８部得た。
実施例３
２−ニトロクロロベンゼン７９部をジメチルホルムアミ
ド８０部に添加し、メルカプトエタノール４７部を加え
５０℃に昇温した。
ド８０部に添加し、メルカプトエタノール４７部を加え
５０℃に昇温した。
水酸化ナトリウムの粉体２１部を５時間で添加した。添
加終了後見に１時間、同温度で保温した。反応終了後反
応マスを中和し、析出している塩化ナトリウムをｐ別後
、ｒ液を蒸留し、ジメチルホルムアミドを留去した。
加終了後見に１時間、同温度で保温した。反応終了後反
応マスを中和し、析出している塩化ナトリウムをｐ別後
、ｒ液を蒸留し、ジメチルホルムアミドを留去した。
２−ニトロフェニル−β−Ｔｃ ）／ ｏ ４ シｘ
ｆルスルフィド（１−１）９６部九九。収率は９６．５
％である。この（ｌ［−１）をアセトニトリル２００
部、６％炭酸水素ナトリウム水溶液１５０部に加え、４
０℃で３０−過酸化水素水１３７部、１時間で滴下した
。滴下終了後、更に２時間保温した。
ｆルスルフィド（１−１）９６部九九。収率は９６．５
％である。この（ｌ［−１）をアセトニトリル２００
部、６％炭酸水素ナトリウム水溶液１５０部に加え、４
０℃で３０−過酸化水素水１３７部、１時間で滴下した
。滴下終了後、更に２時間保温した。
反応終了後アセトニ） ＩＪルを留去し生成した２−ニ
トロフェニル−β−ヒドロキシエチルスルホン（１−２
）を濾過により反応系内１ より取り出した。得量は１０３部であった。
トロフェニル−β−ヒドロキシエチルスルホン（１−２
）を濾過により反応系内１ より取り出した。得量は１０３部であった。
次いでこの（ＩＩＩ−２）を鉄粉還元に供した。
まず水３００部、８０メツシュ鉄粉７２部に９８嘩硫酸
５部添加し、９５℃に昇温して０．５時間保温した。続
いて同温度で（１−２）を１時間にわたって添加した後
、更に同温度で１時間保温した。７０℃まで冷却砲、炭
酸水素ナトリウムで中和後、−過し、軟泥をＦ別した。
５部添加し、９５℃に昇温して０．５時間保温した。続
いて同温度で（１−２）を１時間にわたって添加した後
、更に同温度で１時間保温した。７０℃まで冷却砲、炭
酸水素ナトリウムで中和後、−過し、軟泥をＦ別した。
得られたＦ液は２層に分離しているためオイル層を分岐
により分離した。
により分離した。
２−アミノフェニル−β−ヒドロキシエチルスルホン８
８部を得た。
８部を得た。
実施例４
２−ニトロクロロベンゼン１５８部をジメチルホルムア
ミド１６０部に添加し、メルカプトエタノール９４部を
加え５０℃に昇温した。
ミド１６０部に添加し、メルカプトエタノール９４部を
加え５０℃に昇温した。
続いて４９嗟水酸化す） ＩＪウム水溶液８４部を５時
間で添加した。添加終了後、更に１時間、同温度で保温
した。反応終了後反応マスを中和した後、水を留去した
。析出する塩化ナトリウムをＰ別した後、Ｐ液をそのま
ま次の酸化反応に供した。
間で添加した。添加終了後、更に１時間、同温度で保温
した。反応終了後反応マスを中和した後、水を留去した
。析出する塩化ナトリウムをＰ別した後、Ｐ液をそのま
ま次の酸化反応に供した。
ジメチルホルムアミドに溶解している２−二トロフェニ
ルーβ−ヒドロキシエチルスルホンをアセトニトリル５
８０部、６チ炭酸水素す） ＩＪウム水溶液５８０部に
加え４０℃に系内を保ちながら３０％過酸化水素２７５
部を２時間で添加した０滴下終了後、更に５時間保温し
た。。反応終了後、アセトニトリルを留去し２−ニトロ
フェニル−β−ヒドロキシエチルスルホンを含む溶液を
ステンレス製オートクレーブに入れラネーニッケル触媒
２．５部を添加し８０℃、３０ Ｋｐ／ｍ”で水素添加
還元を８時間行なった。反応液より触媒を熱濾過によっ
て除き、続いて水詔よびジメチルホルムアミドを留去す
ることによってオイル状の２−アミノフェニル−β−ヒ
ドロキシエチルスルホン１８７部を得た。
ルーβ−ヒドロキシエチルスルホンをアセトニトリル５
８０部、６チ炭酸水素す） ＩＪウム水溶液５８０部に
加え４０℃に系内を保ちながら３０％過酸化水素２７５
部を２時間で添加した０滴下終了後、更に５時間保温し
た。。反応終了後、アセトニトリルを留去し２−ニトロ
フェニル−β−ヒドロキシエチルスルホンを含む溶液を
ステンレス製オートクレーブに入れラネーニッケル触媒
２．５部を添加し８０℃、３０ Ｋｐ／ｍ”で水素添加
還元を８時間行なった。反応液より触媒を熱濾過によっ
て除き、続いて水詔よびジメチルホルムアミドを留去す
ることによってオイル状の２−アミノフェニル−β−ヒ
ドロキシエチルスルホン１８７部を得た。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 ニトロハロベンゼンを塩基の存在下、メルカプトエタノ
ールと反応させて下式 で示されるスルフィド化合物を得、これを酸化して下式 で示されるスルホン化合物とし、次いでこれを還元する
ことを特徴とする下式 で示されるアミノフェニル−β−ヒドロキシエチルスル
ホンの製造方法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5748382A JPS58174355A (ja) | 1982-04-06 | 1982-04-06 | アミノフエニル−β−ヒドロキシエチルスルホンの製造方法 |
| US06/477,443 US4612394A (en) | 1982-04-06 | 1983-03-21 | Process for producing aminophenyl-β-hydroxyethylsulfone |
| DE8383301683T DE3373093D1 (en) | 1982-04-06 | 1983-03-25 | Process for producing aminophenyl-beta-hydroxyethylsulfone |
| EP83301683A EP0092909B1 (en) | 1982-04-06 | 1983-03-25 | Process for producing aminophenyl-beta-hydroxyethylsulfone |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5748382A JPS58174355A (ja) | 1982-04-06 | 1982-04-06 | アミノフエニル−β−ヒドロキシエチルスルホンの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58174355A true JPS58174355A (ja) | 1983-10-13 |
Family
ID=13056952
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5748382A Pending JPS58174355A (ja) | 1982-04-06 | 1982-04-06 | アミノフエニル−β−ヒドロキシエチルスルホンの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58174355A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0295527A2 (de) * | 1987-06-17 | 1988-12-21 | Bayer Ag | Verfahren zur Herstellung von (3-Aminophenyl)(2-hydroxyethyl)sulfon |
| CN103467347A (zh) * | 2013-08-30 | 2013-12-25 | 江苏和利瑞科技发展有限公司 | 一种m-(β-羟乙砜基)苯胺的制备方法 |
| CN112593255A (zh) * | 2020-12-10 | 2021-04-02 | 华东理工大学 | 一种对-氨基苯基-β-羟乙基砜的电化学制备方法 |
-
1982
- 1982-04-06 JP JP5748382A patent/JPS58174355A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0295527A2 (de) * | 1987-06-17 | 1988-12-21 | Bayer Ag | Verfahren zur Herstellung von (3-Aminophenyl)(2-hydroxyethyl)sulfon |
| JPS63316764A (ja) * | 1987-06-17 | 1988-12-26 | バイエル・アクチエンゲゼルシヤフト | ３−アミノフエニル２−ヒドロキシエチル スルホンの製造方法 |
| CN103467347A (zh) * | 2013-08-30 | 2013-12-25 | 江苏和利瑞科技发展有限公司 | 一种m-(β-羟乙砜基)苯胺的制备方法 |
| CN103467347B (zh) * | 2013-08-30 | 2015-07-08 | 江苏和利瑞科技发展有限公司 | 一种m-(β-羟乙砜基)苯胺的制备方法 |
| CN112593255A (zh) * | 2020-12-10 | 2021-04-02 | 华东理工大学 | 一种对-氨基苯基-β-羟乙基砜的电化学制备方法 |
| CN112593255B (zh) * | 2020-12-10 | 2023-10-10 | 华东理工大学 | 一种对-氨基苯基-β-羟乙基砜的电化学制备方法 |
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