JPS61255351A - 光導電部材用の支持体及び該支持体を有する光導電部材 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は電気乃至電子デバイス、特に電子写真感光体等
の光導電部材の基体として利用し得る表面処理金属体及
びこの金属体を用いた光導電部材に関する。

〔従来の技術〕

アルミニウム合金は建材、自動車部品等各種構造体に幅
広く利用されているが、とりわけ、光導電部材の支持体
等精密加工を要求される電気乃至電子デバイスの構成部
材として、その利用度が高まりつつある。

しかしながら、例えば日本工業規格（Ｊ　Ｉ　Ｓ）によ
り規格化された展伸材、鋳物用、ダイカスト等の汎用の
アルミニウム合金には５Ｍｇ、Ｃｕ、Ｍｎ、Ｓ　ｔ、Ｚ
ｎ等の積極的に添加される成分をはじめとする各種組成
成分と共に各種不純物成分が含有されており、これらの
うちのあるものは介在物として組織中に局在したり。

粒界段差を生起させたり、或いは表面近傍に粒状析出物
として存在して、精密加工の際の加工性を損ない、延い
てはアルミニウム合金を構成部材とする電子部品等の特
性を劣化させる事になる。

この様な事情を光導電部材を１例として。

更に詳しく説明すると、例えば電子写真感光体は、通常
、アルミニウム合金から成る円筒状等の支持体表面上に
光導電層を設けて構成される。

光導電層の材料としては有機乃至無機の各種光導電物質
が用いられているが、例えば水素や原子やハロウゲン原
子等の１価の元素でダングリングボンドが修飾されたア
モルファスシリコン（以下、ａ−３ｔという）は、その
優れた光導電性、耐振性、耐熱性の為に光導電層の材料
としての応用が期待されている。このａ−３ｉを実用に
供する為には、ａ−３ｔの光導電層に加えて、支持体か
らの電荷の注入を阻止する電荷注入阻止層、５ｉＮ）（
，５ｉＣｘ等の表面保護層等を用い、目的に応じた多層
構成とする必要がある。そしてこの際の光導電部材の均
一性は極めて重要であり、光導電的特性の不均一やピン
ホール等の欠陥が存在すると美麗な画像が提供できない
ばかりでなく、実用に耐えないものとなる。

特にａ−３ｔは、膜の形態が支持体の表面形状に大きく
左右されることが知られている。

とりわけ、殆どの部分でほぼ均一の光導電特性が必要と
なる大面積の電子写真感光体ドラムにおいては、支持体
の表面状態は極めて重要であり、支持体表面に欠陥が存
在すると膜の均一性が悪くなり、柱状構造や球状突起が
形成される為、光導電的不均一さの生じる原因となる。

そこで、アルミニウム合金の管材等を支持体として使用
する場合、その表面に鏡面仕上げ、エンボス加工等精密
な各種切削乃至は研摩加工を施す過程において、前述し
た各種介在物により、例えばハードスポットと呼ばれる
固い部分が存在すると、例えば切削加工による鏡面化過
程において、切削バイトに対する切削抵抗となり、アル
ミニウムシリンダー表面に欠陥部分を生ずる原因となり
、アルミニウム支持体表面上に１〜１０　ＪＬｍ程度の
ひび割れ、エグレ状の傷、更には微細な凹凸、或いはス
ジ状キズを発生させる要因となっている。

しかしながら、従来においては、介在物、Ｈ２ガスによ
る空孔（Ｂｌｉｓｔｅｒ）を少なくする為１種々の対策
を施したＡｌ１合金素地を用いる必要があり、これらの
対策を施すことによって起る、工程の追加、コストの上
昇を免れることができなかった。

更に、電子写真感光体は、電子プロセスにおいて、残留
するトナーの除去の為にブレーン、ファーブラシ等によ
って１擦を繰返し受ける。

このとき、光導電層表面の耐摩耗特性と共に支持体の硬
度を上げることが感光体の耐久性向上には良い向で、従
来高硬度Ａｌ材等を使用する事例（例えば特開昭５６−
１１１０４６号）があったが、先に述べた様に、特にａ
−３ｔ感光体においては、Ａ１組織中の析出物による問
題点を生じており、特に高濃度Ｓｉ系ＡｆＬ合金におい
ては顕著であった。

そこで本発明者らは、アルミニウム合金におけるケイ素
含量を０．５〜７重量％とした場合に、ビッカース硬度
を５０Ｈｖ〜１００Ｈｖとする事により、前述した従来
の問題点が解決され、しかも含有する介在物の大きさを
微細化する事ができる事を見出し、本発明を完成するに
本発明の第１の目的は、精密加工後における表面欠陥が
抑制され、とりわけ精密加工による正確な表面形状が望
まれる光導電部材の構成部材に用いるのに適したアルミ
ニウム合金から成る光導電部材用表面処理金属体を提供
する事にある。

本発明の第２の目的は、とりわけ精密加工による正確な
表面形状並びに高い寸法精度が望まれる電子写真感光体
ドラムの支持体に適したアルミニウム合金から成る光導
電部材用表面処理金属体を提供する事にある。

本発明の第３の目的は、支持体の表面欠陥が抑制され、
電気的、光学的、光導電的特性の均一性に優れた光導電
部材を提供する事にある。

本発明の第４の目的は、画像欠陥が少なく、高品質な画
像を得る事ができる光導電部材を提供する事にある。

本発明の第５の目的は、表面欠陥等を顕現せずに所望の
表面仕上げや表面凹凸付与がなされた表面処理金属体を
支持体として用いる事により、成膜の均一性に優れた光
導電部材を提供する事にある。

本発明の第６の目的は、画像欠陥が少なく、高品質な画
像を得る事ができる電子写真用の光導電部材を提供する
本にある。

上記第１乃至第２の目的は、アルミニウムを基質とし且
つケイ素含量が０．５〜７重量％であるアルミニウム合
金であって、ビッカース硬度が５０Ｈｖ〜１００Ｈｖで
あり、その表面に複数の球状痕跡窪みによる凹凸を有す
る光電動部材用表面処理金属体によって達成される。

本発明の上記第３乃至第６の目的は支持体と光導電層を
有する光導電部材において、前記支持体が１表面に複数
の球状痕跡窪みによる凹凸を形成した金属体から成り、
該金属体がアルミニウムを基質とし且つケイ素含量０．
５〜７重量％であるアルミニウム合金であって、ビッカ
ース硬度が５０Ｈｖ〜１００Ｈｖである事を特徴とする
光導電部材によって達成される。

〔発明の詳細な説明及び実施例〕

汎用のアルミニム合金には、一般に、必要に応じて積極
的に添加される合金成分や、精錬、官製等の過程で止む
を得ず混入する不純物などに起因する析出物、介在物が
存在し、粒界等において異常成長したり、合金組織内に
ハードスポットと呼ばれる固い部分を生じ、精密加工の
際の加工性を損じたり、精密加工により得られる電子部
品等の特性を劣化させる原因となる。

前述した様に１例えばケイ素はアルミニウムと固溶しに
＜＜、Ｓｉ　、ＳｉＯ２，ＡｆＬ−５ｔ化合物、ＡｆＬ
−Ｆｅ−３ｔ化合物、ＡｌＡｌ１−３ｔ−化合物として
、またＡ見はａｆＬ２ｏ３としてアルミニウム組織中に
例えば島状等の形態で介在する。またＦｅ、Ｔｉ等も酸
化物等として堅い粒界析出物やハードスポットとして現
れる。特にＳｉは、板金０．５重量％未満と低い濃度で
含有されていても、Ａｎと固溶しにくく、硬い（特に５
ｉ０２）為、Ａ１合金の物理的な特性向上には大きく寄
与するが、表面処理仕上等加工時に、加工工具によるひ
っかかりを生じ、表面欠陥を生じる。

本発明においては、特にケイ素含量が０．５〜７重量％
のアルミニム合金において、ビッカース硬度を５０Ｈｖ
〜１００Ｈｖにすると共に前述した各種介在物の大きさ
く介在物粒子の最大長さで代表される粒径）を１０ＪＬ
、ｍ以下とした場合、精密加工の際の加工性や精密加工
により得られる電子部品等の特性や耐久性が予期せぬ程
に向１する為、好ましい、介在物の更に好ましい大きさ
は、５ｇｍ以下である。

アルミニウ合金中の介在物の大きさを１０μｍ以下に抑
制する具体的な方法としては、例えばアルミニウ合金中
解時に使用するセラミックフィルターの開孔径の小さい
ものを用いると共に、十分な管理のもとにフィルターの
効果を十分に活かす方法をとり、具体的にはフィルター
がある程度目詰まりを生じた時点でのロフトを使用する
。更には溶解炉材の混入防止対策、スラグの面削厚みの
増加などの方−法が挙げられる。

この様に１本発明においてはアルミニウム合金中に含有
される介在物の大きさを規定する事が好ましいが、基質
アルミニウムをはじめとするその他の合金成分について
は、特に制限はなく、成分の種類、組成等については任
意に選択する事ができるが、特にＡｎ−Ｍｇ−５ｉ系ア
ルミニウム合金が最適である。

アルミニウム合金中に含有される鉄は、共存するアルミ
ニウムやケイ素とＦ　ｅ−ＡＪＩＬ系やＦｅ−Ａｎ−５
ｔ系の金属間化合物を形成し、アルミニウムマトリック
ス中にハードスポットとして現われる。特にこのハード
スポットは鉄含量２０００ｐｐｍを境にして鉄が増加す
ると急激に増加し、例えば鏡面切削加工等の際に悪影響
を及ぼす、従って１本発明のアルミニウム合金における
好ましい鉄含量は、２０００ｐｐｍ以下、更には１１０
００ｐｐ以下である。

更に、アルミニウム合金中に含有される水素は、空孔（
Ｂｌｉｓｔｅｒ）等の組織異常を生起させ、精密加工の
際の加工性を損じたり、精密加工により得られる電子部
品等の特性を劣化させる原因となる。この様な不都合は
、特にアルミニウム合金中の水素量をアルミニウム１０
０グラムに対して１．ｏｃｃ以下、より好ましくは０．
７ｃｃ以下と抑制することにより解消することができる
。

アルミニウム合金中に含有される鉄の含量を２０００ｐ
ｐｍ以下に抑える具体的な方法としては、原料としての
Ａｎ地金の純度の高いもの、例えば、電解精錬を繰返し
行なったものを使用する。また、溶解、鋳込の各工程で
十分管理を行なうなどの方法が挙げられる。

アルミニウム合金中に含有される水素量を、アルミニウ
ム１００グラムに対して１．ｏｃｃ以下に抑える具体的
な方法としては、Ａ１合金溶解時に脱ガス工程として塩
素ガスを溶湯中に吹き込み合金組織中の存在するＨ２ガ
スを８０文として除去する方法、あるいは溶解したＡ１
合金を真空炉中に一定時間保持し、合金組織中に存在す
るＨ２ガスを真空中へ拡散除去する方法などが挙げられ
る。

因みに、本発明に係わるアルミニウム合金の具体的組成
を以下に例示する。

〔Ａ交−Ｍｇ−３ｉ系〕 ＭｇＯ，３５〜１．５重量％ ＳｉＯ，５〜７重量％以下 Ｆｅ　　２０００ｐｐｍ以下 Ｃｕ　　Ｏ，Ｉ　ＮＯ，４重量％ Ｍｎ　　０．０３〜０．８重量％ Ｃｒ　　０．０３〜０．３５重量％ Ｚｎ　　０．１〜０．２５重量％ Ｔ・ｉ　　Ｔｒ又は０．１〜０．１５重量％Ｈ２Ａ１１
ＯＯグラムに対して１．０　ｃｃ以下Ａ文　実質的に残
部 （但し、前記Ｔｒとは積極的に添加しない場合のに踏量
を意味する。） 本発明に係わるアルミニウム合金は、圧延、押出等の塑
性加工を経た後、切削乃至は研摩等の機械的方法、乃至
は化学エツチング等化学的乃至物理的方法を伴なう精密
加工を施し、必要に応じて熱処理、調質等を随時組合せ
て、使用目的に応じた適宜の形状に賦形される０例えば
電子写真感光体ドラム等の厳格な寸法精度を要求される
管状の構成部材に賦形する場合は、通常の押出加工によ
り得られるポートホール押出管或いはマンドレル押出管
を、更に冷間引抜加エして得られる引抜管を使用するの
が好ましい。

表面処理金属体１の表面２に複数の球状痕跡窪み４によ
る凹凸を設けるには、例えば剛体真球３を表面２より所
定高さの位置より自然落下させて表面２に衝突させるこ
とにより、球状痕跡窪み４を形成する。従って、はぼ同
一径Ｒ′の複数の剛体真球３をほぼ同一高さｈより落下
させることにより、表面２にほぼ同一曲率Ｒ９同一幅り
の複数の球状痕跡窪み４を形成することができる。

第２図及び第３図は、この様な場合に形成される痕跡窪
みを例示したものである。

第２図の例では、金属体１′の表面２′の異なる部位に
、はぼ同一の径の複数の球体３′、３’−−−−一をほ
ぼ同一の高さより落下させてほぼ−の曲率及び幅の複数
の窪み４′、４’−−−−−−を互いに重複しない程度
に疏に生ぜしめて凹凸を形成している。

第３図の例では、金属体１″の表面２″の異なる部位に
、はぼ同一の径の複数の球体３″。

３″−−一−−−をほぼ同一の高さより落下させてほぼ
同一の曲率及び幅の複数の窪み４″、４″−一一一一一
を互いに重複し合うように密に形成して、第１図の例に
比較して凹凸の高さく表面粗さ）を小さくしている。な
お、この場合、互いに重複する窪み４″、４　”　−−
−−−一の形成時期、即ち球体３″、３″の金属体１″
の表面２″への衝突時期が、当然のことながら互いにず
れる様に球体を自然下させる必要がある。

一方、第４図の例では、互いに異なる数種の径の球体３
″′、３′″をほぼ同一の高さ又は異なる高さから落下
させて金属体１′″の表面２′″に夫々異なる曲率及び
幅の複数の窪み４“、４″′−−−ｍ−−を互いに重複
し合う様に密に生ぜしめて、表面に高さの不規則な凹凸
を形成している。

この様にすれば、剛体真珠と金属体表面との硬度、剛体
真珠の径、落下高さ、落下球量等の条件を適宜調節する
ことにより、金属体表面に所望の曲率、幅の複数の球状
痕跡窪みを所定密度で形成することができる。従って、
前記条件を選択する選択することにより、金属体表面を
鏡面に仕上げたり、或いは非鏡面に仕上げるなど、表面
粗さ、即ち凹凸の高さやピッチ等を自在に調節できるし
、また、使用目的に応じて所望される形状の凹凸を形成
することもできる。

更には、ボートホール管、或いはマンドレル押出し引抜
きＡｎ管表面の表面状態の悪さを、本発明の方法を用い
る事によって修正し、所望の表面状態に仕上げることが
できる。これは、表面の規則な凹凸が剛体真珠の衝突に
より塑性変形されることによるものである。

本発明の表面処理金属体の形状は任意に選択することが
できるが、例えば電子写真感光体の基体（支持体）とし
ては、板状、円筒状、柱状、無端ベルト状等の形状が実
用的である。

本発明で使用する球体は、例えばステンレス、アルミニ
ウム、鋼鉄、ニッケル、真鍮等の金属、セラミック、プ
ラスチック等の各種剛体球を使用することができ、とり
わけ耐久性及び低コスト化の理由により、ステンレス及
び鋼鉄の剛体球が好ましい０球体の硬度は、金属体の硬
度よりも高くても低くてもよいが、球体を繰返し使用す
る場合は、金属体の硬度よりも高くすることが好ましい
。

本発明の表面処理金属体は、電子写真感光体等の・光導
電部材の支持体として用いる場合、アルミニウム合金等
を通常の押出加工により得られるボートホール管或いは
マンドレル管を、更に引抜加工して得られる引抜管に必
要に応じて熱処理、調質等の処理を加え、この円筒（シ
リンダー）を、例えば第５図（正面図）及び第６図（縦
断面図）に示した構成の装置を用いて本発明方法を実施
し、支持体を作成する。

第５図及び第６図において、１１は支持体作成用の例え
ばアルミニウムシリンダーである。

シリンダー１１は予め表面を適宜の平面度に仕上げられ
ていてもよい、シリンダー１１は、回転軸１２に軸支さ
れ、モータ等の適宜の駆動手段１３で駆動され、はぼ軸
芯のまわりで回転可使とされている０回転速度は、形成
する球状痕跡窪みの密度及び剛体真珠の供給量等を考慮
して適宜に決定され、制御される。

１４は剛体真珠（ポール）１５を自然落下させるための
落下装置であり、剛体真球１５を貯留し落下させるため
のポールフィーダー１６、フィーダー１６から剛体真球
１５が落下し易い様に揺動する振動機１７、シリンダー
に衝突して下する剛体真球１５を回収するための回収槽
１８、回収槽１８で回収される剛体真球１５をフィーダ
ー１６まで管輸送するためのポール送り装置１９、送り
装置１９の途中で剛体真球１５を液洗浄するするための
洗浄装置２０、この洗浄装ａ１２０にノズル等を介して
洗浄液（溶剤等）を供給する液だめ２１．洗浄に使用し
た液を回収する回収槽２２などで構成されている。

フィーダー１６から自然落下する剛体真珠の量は、落下
口２３の開閉度、振動１１１７による揺動の程度等によ
り適宜調整される。

以下、前述した表面性を有するアルミニウム合金を支持
体として用い、光導電物質としてａ−３ｉを用いた電子
写真用の光導電部材について、本発明の光導電部材の構
成例を説明する。

この様な光導電部材は、例えば支持体上に電荷注入阻止
層、光導電層（感光層）及び表面保護層を順次積層した
構成を有している。

支持体の形状は、所望によって決定されるが、例えば電
子写真用として使用するのであれば、連続高速複写の場
合には、無端ベルト状又は円筒状とするのが望ましい、
支持体の厚みは。

所望通りの光導電部材が形成される様に適宜決定される
が、光導電部材として可撓性が要求される場合には、支
持体としての機能が十分発揮される範囲内であれば可能
な限り薄くされる。

しかしながら、この様な場合にも、支持体の製造上及び
取扱い上、更には機械的強度等の点から、通常は、１０
μｍ以上とされる。

支持体表面は、前述した様な表面性を有する様に表面処
理を施され、鏡面とされ乃至は干渉縞防止等の目的で非
鏡面とされ、或いは所望形状の凹凸が付与される。

例えば支持体表面を非鏡面化したり、表面に凹凸を付与
して粗面化すると、支持体表面の凹凸と合せて感光層表
面にも凹凸が生ずるが、露光の際にこれら支持体表面及
び感光層表面での反射光に位相差が生じ、シェアリング
干渉による干渉縞を生じ、或いは反転現像時に黒斑点或
いはスジを生じて画像欠陥を生ずる。この様な現象は特
に可干渉光であるレーザビーム露光を行なった場合に顕
著に現れる。

本発明においては、この様な干渉縞を、支持体表面に形
成される球状痕跡窪みの曲率Ｒと幅りとを調節する事に
より防止する事ができる。

即ち、本発明の表面処理金属体を支持体とし跡窪み内に
シェアリング干渉によるニュートリとすると、この様な
二ニードリングが１本以上存在することになり、光導電
部材全体の干渉縞を各痕跡窪み内に分散して存在させる
ことができ、干渉防止が可能となる。

又、朕跡窪みの幅りは、５００ｇｍ以下、更には２００
μｍ以下、より更には１００　ｇ、ｍ以下とされるのが
望ましく、又光照射スポット径以下が望ましく、特に、
レーザービームを使用する場合には、解像力以下とする
のが望ましい。

電・荷注入阻止層は１例えば水素原子及び／又はハロゲ
ン原子を含有するａ−３ｔで構成されると共に、伝導性
を支配する物質として、通常半導体の不純物として用い
られる周期律表■族乃至は第Ｖ族に属する元素の原子が
含有される。電荷注入阻止層の層厚は、好ましくは０．
０１〜１０μｍ、より好適には０．０５〜８ＩＬｍ、最
適には０．０７〜５ｇｍとされるのが望ましい。

電荷注入阻止層の代りに、例えばＡ１２ｏ３゜５ｉ０２
．５ｉ３Ｎａ、ポリカーボネート等の電気絶縁材料から
成る障壁層を設けてもよいし。

或いは電荷注入阻止層と障壁層とを併用することもでき
る。

光導電層は１例えば、水素原子とハロゲン原子を含有す
るａ−３ｔで構成され、所望により電荷注入阻止層に用
いるのとは別種の伝導性を支配する質が含有される。光
導電層の層厚は、好ましくは１〜１００ｇｍ、より好適
には１〜８０ｇｍ、最適には２〜５０ｇｍとされるのが
望ましい。

表面保護層は、例えば５ｉＣＸ、５ｉＮＸ等で構成され
、層厚は、好ましくは０．０１〜１０ｇｍ、より好適に
は０．０２〜５ｇｍ、最適には０．０４〜５ＩＬｍとさ
れるのが望ましい。

本発明において、ａ−Ｓｔで構成される光導電層等を形
成するには、例えばグロー放電法、スパッタリング法、
或いはイオンブレーティング法等の従来公知の種々の放
電現象を利用する真空堆積法が適用される。

次に、グロー放電分解法による光導電部材の製造法の１
例について説明する。

第７図にグロー放電分解法による光導電部材の製造装置
を示す、堆積槽ｌは、ベースプレート２と槽壁３とトッ
ププレート４とから構成され、この堆積槽ｌ内には、カ
ソード電極５が設けられており、ａ−３ｔ堆積膜が形成
される例えばアルミニウム合金製の本発明に係る支持体
６はカソード電極５の中央部に設置され、７ノード電極
としての役割も兼ている。

この製造装置を使用してａ−３ｉ堆積膜を支持体上に形
成するには、まず、原料ガス流入バルブ７及びリークバ
ルブ８を閉じ、排気バルブ９を開け、堆積槽ｌ内を排気
する。真空計１０の読みが５ＸｌＯ−６ｔｏｒｒになっ
た時点で原料ガス流入バルブ７を開いて、マスフローコ
ントローラー１１内で所定の混合比に調整された、例え
ばＳｉＨ４ガス、Ｓｉ２Ｈ６ガス、ＳｉＦ４ガス等を用
いた原料混合ガスを堆積槽１内の圧力が所望の値になる
様に真空計ｌＯの読みを見ながら排気バルブ９の開口度
を調整する。そしてドラム状支持体６の表面温度が加熱
ヒータ１２により所定の温度に設定されていることを確
認した後、高周波電源１３を所望の電力に設定して堆積
槽１内にグロー放電を生起させる。

又、層形成を行なっている間は、層形成の均一化を図る
ためにドラム状支持体６をモータ１４により一定速度で
回転させる。このようにしてドラム状支持体６上にａ−
３ｔ堆積膜を形成することができる。

以下、本発明を試験例、実施例に基づき、より詳細に説
明する。

試験例１ 径２ｍｍのＳＵＳステンレス製剛体真珠を用い、第５図
及び第６図に示した装置を用い。

Ｓｔ含量３重量％、ビッカース硬度７０Ｈｖ、介在物の
最大大きさ２μｍ、のＡ　ｌ　−Ｍ　ｇ　−３ｉ系アル
ミニウム合金製シリンダー（径６０ｍｍ、長さ２９８　
ｍ　ｍ　；　Ｍ　ｇ含量４重量％。

Ｆｅ含１ｌｌ１０００ｐｐ以下、水素含量アルミニウム
１００グラムにして１．０ｃｃ以下）の表面を処理し、
凹凸を形成させた。

真球の径Ｒ′、落下高さｈと痕跡窪みの曲率Ｒ１幅りと
の関係を調べたところ、痕跡窪みの曲率Ｒと幅りとは、
真珠の径Ｒ′と落下高さｈ等の条件により決められるこ
とが確認された。

又、痕跡窪みのピッチ（ｌ［ｉｓ窪みの密度、又凹凸の
ピッチ）は、シリンダーの回転速度、回転数乃至は剛体
真珠の落下量等を制御して所望・のピッチに調整するこ
とができることが確認された。

実施例１〜６、比較例Ｉ 第１表に示した□に制御した以外は、試験例１と同様に
同質のアルミニウム合金製シリンダーの表面を処理し、
これを電子写真用光導電部材の支持体として利用した。

その際、各表面処理シリンダーについて、表面処理後に
生じている表面欠陥（エグレ状の傷、ひび割れ、スジ状
キズ等）を目視及び金属顕微鏡により検査した。結果を
表に示した。

次に、これらの表面処理を施したアルミニウム合金製シ
リンダーのそれぞれの上に、第７図に示した光導電部材
の製造装置を用い、先に詳述したグロー放電分解法に従
い、下記の条件により光導電部材を作製した。

文月」１１工２　狡に仁と１） ■電荷注入阻止層　Ｓ　ｉ　Ｈ４／　　　　０．６２Ｈ
６ ■光導電層　　　　ＳｉＨ４２０ ■表面保護層　　　Ｓ　ｉ　Ｈ４／　　　　０．１２Ｈ
４ こうして得られた各光導電部材を、キャノン（株）製レ
ーザービームプリンターＬＢＰ−Ｘに設置して画出しを
行ない、干渉縞、黒ポチ、画像欠陥等の総合評価を行な
った。結果を第１表に示した。

なお、比較として、従来法によってダイヤモンドバイト
により表面処理された従来の材質のアルミニウム合金製
シリンダーを用いて光導電部材を作製し、同様に総合評
価した。

第　　　１　　　表 （木）：×実用不能 Δ実用に向かない Ｏ実用性良好 ０実用性特に良好 なお、実施例１〜６の光導電部材の支持体におけるＤは
、何れも５００ｐｍとした。

実施例７〜１０、比較例２ 第２表に示したＳｉ含量、ビッカース硬度及び介在物の
大きさの異なる５種のＡＪＬ−Ｍｇ　−５ｉ系アルミニ
ウム合金製シリンダー（Ｍｇ含量は何れも４重量％、Ｆ
ｅ含量は何れも１１０００ｐｐ以下）に、夫々実施例１
〜６と同様に表面処理加工を行った。

次に、これらの表面処理加工したアルミニウム合金製シ
リンダーのそれぞれの上に、第７図に示した光導電部材
の製造装置を用い、先に詳述したグロー放電分解法に従
い、下記の条件により光導電部材を作製した。

吏且見上ｊノ　１１ユ上」） ■電荷注入阻止層　Ｓ　ｉ　Ｈ４／　　　　０．６２Ｈ
８ ■光導電層　　　　ＳｉＨ４２０ ■表面保Ｗ層　　　Ｓ　ｉ　Ｈ４／　　　　０．　Ｉ２
Ｈ４ アルミニウムシリンダ一温度：　２５０℃堆積膜形成時
の堆積室内内圧：　　０．３Ｔｏｒｒ放電周波数　　　
：　　１３．５６ＭＨｚ放電膜形成速度　：　２０人／
　ｓ　ｅ　ｃ放電電力　　　　：　　０．１８Ｗ／ｃｍ
″こうして得られた各電子写真感光体ドラムを、キャノ
ン（株）製４００ＲＥ複写装置に設置して画出しを行な
い、白点状の画像欠陥（０，３ｍ　ｍΦ以上）の評価を
実施した。この評価結果を第２表に示した。

なお、実施例７〜１０の各電子写真感光体ドラムについ
ては、更に１００万枚の耐久試験を、２３℃／相対湿度
５０％、３０℃／相対湿度９０％、５℃／相対湿度２０
％の各環境下で実施したが、画像欠陥、特に白抜は等の
欠陥の増加もなく、良好な耐久性を有していることが確
認された。

第　　　２　　　表 （本１）　：ｌ１１ｍ鏡観察による （木２）：目視検査による＜ｒａｍ鏡観察では５終ｍで
あるものがスジ状となって目視できる。

〔発明の効果〕

本発明によれば、所望の使用特性を損う表面欠陥を生じ
やすい切削加工を伴わずに表面処理がなされ、成膜の均
一性、電気的、光学的乃至は光導電的特性の均一性に優
れた光導電部材が得られ、特に、電子写真感光用として
用いた場合、画像欠陥が少なく、高品質の画像を得るこ
とができる。

【図面の簡単な説明】

第１図乃至欧第４図は、本発明に係わる金属体表面の凹
凸の形状を説明するための模式図である。第５図及び第
６図は、それぞれ本発明に係わる表面処理金属体の製造
法を実施するための装置の一構成例を説明するための正
面図及び縦断面図、第７図はグロー放電分解法による光
導電部材の製造装置を示した模式図である。 １　、ｌ’、　ｉ　”　、　ｉ”’　　−−−一表面処
理金属体、２．２’、２″、　２　”’　　−−−一表
面、３　、３’　、　３″、３′″　−一一一剛体真珠
、４．４’、４″、４″’−−−一球状痕跡窪み。 あ４図

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 （１）支持体と光導電層を有する光導電部材において、
   前記支持体が、表面に複数の球状痕跡窪みによる凹凸を
   形成した金属体から成り、該金属体がアルミニウムを基
   質とし且つケイ素含量が０．５〜７重量％であるアルミ
   ニウム合金であって、ビッカース硬度が５０Ｈｖ〜１０
   ０Ｈｖであることを特徴とする光導電部材。 （２）凹凸がほぼ同一の曲率及び幅の窪みにより形成さ
   れている特許請求の範囲第（１）項記載の光導電部材。 （３）窪みの曲率Ｒと幅Ｄとが、 ０．０３５≦Ｄ／Ｒ を満足する値をとる特許請求の範囲第（２）項記載の光
   導電部材。 （４）窪みの幅Ｄが５００μｍ以下である特許請求の範
   囲第（２）項又は第（３）項記載の光導電部材。 （５）アルミニウムを基質とする結晶粒の平均の大きさ
   が１００μｍ以下である特許請求の範囲第（１）項記載
   の光導電部材。 （６）含有する介在物の大きさが１０μｍ以下である特
   許請求の範囲第（１）項又は第（５）項記載の光導電部
   材。 （７）マグネシウム含量が０．５〜１０重量％である特
   許請求の範囲第（１）項、第（５）項及び第（６）項の
   うちの１つに記載の光導電部材。 （８）鉄含量が２０００ｐｐｍ以下である特許請求の範
   囲第（１）項乃至第（７）項記載の光導電部材。 （９）マグネシウム含量が０．５〜１０重量％である特
   許請求の範囲第（１）項乃至第（８）項記載の光導電部
   材。 （１０）銅含量が０．５〜１０重量％である特許請求の
   範囲第（１）項乃至第（９）項に記載の光導電部材。 （１１）含有する水素の量がアルミニウム１００グラム
   に対して１．０ｃｃ以下である特許請求の範囲第（１）
   項乃至第（１０）項に記載の光導電部材。 （１２）アルミニウムを基質とし且つケイ素含有量が０
   ．５〜７重量％であるアルミニウム合金であって、ビッ
   カース硬度が５０Ｈｖ〜１００Ｈｖであり、その表面に
   複数の球状痕跡窪みによる凹凸を有する光導電部材用表
   面処理金属体。