JPS61159546A - 精密加工用アルミニウム合金、これを用いた管材及び光導電部材 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は光導電部材をはじめとする精密加工を要求され
る電気乃至電子デバイスなどの構成部材として好適なア
ルミニウム合金、このアルミニウム合金を用いた管材及
び光導電部材に関する。

〔従来の技術〕

アルミニウム合金は建材、自動車部品等各種構造体に幅
広く利用されているが、とりわけ、光導電部材の支持体
等精密加工を要求される電気乃至電子デバイスの構成部
材として、その利用度が高まりつつある。

しかしながら１例えば日本工業規格（Ｊ　Ｉ　Ｓ）によ
り規格化された展伸材、鋳物用、ダイガスト等の汎用の
アルミニウム合金には、Ｍｇ、Ｃｕ、Ｍｎ、Ｓｉ、Ｚｎ
等の積極的に添加される成分をはじめとする各種組成成
分と共に各種不純物成分が含有されており、これらのう
ちのあるものは介在物として組織中に局在したり１粒界
段差を生起させたり、あるいは表面近傍に粒状析出物と
して存在して、精密加工の際の加工性を損ない、延いて
はアルミニウム合金を構成部材とする電子部品等の特性
を劣化させることになる。

この様な事情を、光導電部材を１例として、更に詳しく
説明すると、例えば電子写真感光体は、通常、アルミニ
ウム合金から成る円筒状等の支持体表面上に光導電層を
設けて構成される。

光導電層の材料としては有機乃至ｆＩ！Ａ４１！の各種
光導電物質が用いられているが、例えば１価の元素でダ
ングリングボンドが修飾されたアモルファスシリコン（
以下、ａ−３ｉという）は、その優れた光導仏性、耐擦
性、耐熱性のために光導電層の材料としての応用が期待
されている。このａ　−３ｉを実用に供するためには、
ａ−３Ｌの光導電層に加えて、支持体からの電荷の注入
を阻止する電荷注入阻ＩＩ：層、ＳｉＮ　　、ＳｉＣ等
の表面像ｘ　　　　　　　　　　ｘ 護層等を用い、目的に応じた多層構成とする必要がある
。そしてこの際の光導電部材の均一性は極めて重要であ
り、光導電的特性の不均一やピンホール等の欠陥が存在
すると美麗な画像が提供できないばかりでなく、実用に
耐えないものとなる。

特にａ−３ｉは、膜の形態が支持体の表面形状に大きく
左右されることが知られている。とりわけ、殆どの部分
でほぼ均一の光導電特性が必要となる大面積の電子写真
感光体ドラムにおいては。

支持体の表面状態は極めて重要であり、支持体表面に欠
陥が存在すると膜の均一性が悪くなり、柱状構造や球状
突起が形成されるため、光導電的不均一さの生じる原因
となる。

そこで、アルミニウム合金の管材等を支持体として使用
する場合、その表面に鏡面仕上げ、エンボス加工等精密
な各種切削乃至は研摩加工を施す過程において、前述し
た各種介在物により、例えばハードスポットと呼ばれる
固い部分が存在すると、例えば切削加工による鏡面化過
程において、切削バイトに対する切削抵抗となり、アル
ミニウムシリシダー表面に欠陥部分を生ずる原因となり
、アルミニウム支持体表面上に１−１０４ｍ程度のひび
割れ、エグレ状の傷、更には微細な凹凸、あるいはスジ
状キズを発生させる要因となっている。

しかしながら、従来においては、介在物、Ｈ２ガスによ
る空孔（Ｂｌｉｓｔｅｒ）を少なくするため、種々の対
策を施したＡ１合金素地を用いる必要があり、これらの
対策を施すことによって起る、工程の追加、コストの上
昇を免れることができなかった。

更に、電子写真感光体は、電子プロセスにおいて、残留
するトナーの除去のためにブレーン、ファーブラシ等に
よって習擦を繰返し受る。このとき、光導電層表面の耐
摩耗特性と共に支持体の硬度を上げることが感光体の耐
久特性向上には良い向で、従来高硬度ＡＩ材等を使用す
る本例（例えば特開昭５６−１１１０４６号）があった
が、先に述べた様に、特にａ−５ｔ感光体においては、
Ａ１組織中の析出物による問題点を生じており。

特に高濃度Ｓｉ系Ａ１合金においてはｍ著であった。

そこで、本発明者らは、アルミニウム合金におけるケイ
素含量を０．５〜７重優％とした場合に、ビッカース硬
度を５０Ｈｖ−１００Ｈｖとすることにより、前述した
従来の問題点が解決され、しかも含有する介在物の大き
さを微細化することができることを見出し、本発明を完
成するに至った。

〔発明の目的及び概要〕

本発明の第１の目的は、含有する介在物による影響が抑
制され、精密加工に用いるのに適したアルミニウム合金
を提供することにある。

本発明の第２の目的は、精密加工後における表面欠陥が
抑制され、とりわけ精密加工による正確な表面形状が望
まれる光導電部材等電気乃至電子デバイスなどの構成部
材に用いるのに適した精密加工用アルミニウム合金を提
供することにある。

本発明の第３の目的は、介在物による影響が抑制される
と共に成形方法を最適化することにより、ヂに精密加工
への適応度が高められたアルミニウム合金管材を提供す
ることにある。

本発明のＭＳ４の目的は、とりわけ精密加工による正確
な表面形状並びに高い寸法精度が望まれる電子写真感光
体ドラムの支持体等電気乃至電子デバイスなどの管状構
成部材を精密加工するのに適したアルミニウム合金管材
を提供することにある。

本発明の第５の目的は、支持体の表面欠陥が抑制され、
　ｉ［気的、光学的、光導電的特性の均一性、耐久性に
優れた光導電部材を提供することにある。

本発明の第６の目的は、画像欠陥が少なく、高品質な画
像を得ることができ高い耐久性の光導電部材を提供する
ことにある。

上記第１乃至第２の目的は、アルミニウムを基質とし且
つケイ素含量が０．５〜７重畢％であるアルミニウム合
金であって、ビッカース硬度が５０Ｈｖ−１００Ｈｖで
あることを特徴とする本発明の精密加工用アルミニウム
合金（以下、本発明のアルミニウム合金という）によっ
て達成される。

上記第３乃至第４の目的は、アルミニウムを基質とし、
ケイ素含量が０．５〜７重量％であり、且つビッカース
硬度が５０Ｈｖ　Ｎ１００Ｈｖであるアルミニウム合金
を引抜加工により成形したことを特徴とする本発明のア
ルミニウム合金管材によって達成される。

一ヒ記第５乃至第６の目的は、支持体上に光導電層を有
する光導電部材において、前記支持体が。

アルミニウムを基質とし、ケイ素含量が０．５〜７重量
％であり、且つビッカース硬度が５０Ｈｖ〜１００Ｈｖ
であるアルミニウム合金から成ることを特徴とする本発
明の光導電部材によって達成される。

〔発明の詳細な説明及び実施例〕 汎用のアルミニウム合金には、一般に、必要に応じて積
極的に添加される合金成分や、精錬、官製等の過程で止
むを得ず混入する不純物などに起因する析出物、介在物
が存在し１粒界等において異常成長したり１合金組織内
にハードスポ・−／　）と呼ばれる固い部分を生じ、精
密加工の際の加工性を損じたり、精密加工により得られ
る電子部品等の特性を劣化させる原因となる。前述した
様に、例えばケイ素はアルミニウムと固溶しにくく、Ｓ
ｔ、５ｉｏ２．Ａｌ−Ｓｉ化合物、Ａｌ−Ｆｅ−Ｓｉ化
合物、Ａｌ−５１−Ｍｇ化合物として、ま？、ＡＩはＡ
ｌ２Ｏ３としてアルミニウム組織中に例えば島状等の形
態で介在する。またＦｅ、Ｔｉ等も酸化物等として堅い
粒界析出物やハードスポットとして現れる。特にＳｉは
、板金０．５重量％未満と低い濃度で含有されていても
、ＡＩと固溶しに〈＜、硬い（特に５ｉ０２）ため、Ａ
１合金の物理的な特性向上には大きく寄与するが、バイ
トによる精密鏡面仕゛上等加工時に、ダイヤバイト等の
切削工具によるひっかかりを生じ、表面欠陥を生じる。

本発明においては、特にケイ素含量が０．５〜７重量％
のアルミニウム合金において、ビッカース硬度を５０Ｈ
ｖ−１００Ｈｖにすると共に前述した各種介在物の大き
さく介在物粒子の最大長さで代表される粒径）を１１０
７ｚ以下とした場合、精密加工の際の加工性や精密加工
により得られる電子部品等の特性や耐久性が予期せぬ程
に向上するため、好ましい、介在物の更に好ましい大き
さは、５ＩＬｍ以下である。

アルミニウム合金中の介在物の大きさを１０ｇｍ以下に
抑制する具体的な方法としては、例気ば、アルミニウム
合金溶解時に使用するセラミックフィルターの開孔径の
小さいものを用いるとともに、十分な管理のもとにフィ
ルターの効果を十分に活かす方法をとり、具体的にはフ
ィルターがある程度目詰まりを生じた時点でのロフトを
使用する。更には、溶解炉材の混入防止対策、スラグの
面削厚みの増加などの方法が挙げられる。

この様に１本発明においてはアルミニウム合金中に含有
される介在物の大きさを規定することが好ましいが、基
質アルミニウムをはじめとするその他の合金成分につい
ては、特に制限はなく、成分の種類１組成等については
任意に選択することができるが、特にＡｌ−Ｍｇ−３Ｌ
系アルミニウム合金が最適である。

アルミニウム合金中に含有される鉄は共存するるアルミ
ニウムやケイ素とＦｅ−Ａｌ系やＦｅ−Ａｌ−３ｉ系の
金属間化合物を形成し、アルミニウムマトリックス中に
ハードスポットとして現れる。特にこのハードスポット
は鉄含量２０００ｐｐｍを境にして鉄が増加すると急激
に増加し１例えば鏡面切削加工等の際に悪影響を及ぼす
、従って、本発明のアルミニウム合金における好ましい
鉄含量は、２０００ｐｐｍ以下、更にはｔｏｏ。

ｐｐｍ以下である。

更に、アルミニウム合金中に含有される水素は、空孔（
Ｂ　ｌ　ｉ　ｓ　ｔ　ｅ　ｒ）等の組織異常を生起させ
、精密加工の際の加工性を損じたり、精密加工により得
られる電子部品等の特性を劣化させる原因となる。この
様な不都合は、特にアルミニウム合金中の水素量をアル
ミニウム１００グラムに対して１．Ｏｃｃ以下、より好
ましくは０．７ｃｃ以下と抑制することにより解消する
ことができる。

アルミニウム合金中に含有される鉄の含量を２０００ｐ
ｐｍ以下に抑える具体的な方法としては、原料としての
ＡＩ地金の純度の高いもの、例えば、電解精錬を繰返し
行なったものを使用する。また、溶解、鋳込の各工程で
十分管理を行なうなどの方法が挙げられる。

アルミニウム合金中に含有される水素量を、アルミニウ
ム１００グラムに対して１．Ｏｃｃ以下に抑える具体的
な方法としては、Ａ１合金溶解時に脱ガス工程として塩
素ガスを溶湯中に吹き込み合金組織中に存在するＨ２ガ
スをＭＣＩとして除去する方法、あるいは溶解したＡ１
合金を真空炉中に一定時間保持し、合金組織中に存在す
るＨ２ガスを真空中へ拡散除去する方法などが挙げられ
る。

因みに、本発明のアルミニウム合金の具体的組成を以下
に例示する。

（Ａｔ−Ｍｇ−５ｉ系〕 Ｍｇ　　　０．３５〜１．５重量％ ’　　Ｓｔ　　　Ｏ，５〜７重量％以下Ｆｅ　　　２０
００ｐｐｍ以下 Ｃｕ　　　Ｏ，１〜０．４１１Ｉ量％ Ｍ　ｎ　　　０　、０３〜０　、８重量％Ｃｒ　　　０
．０３〜０．３５重量％ Ｚｎ　　　０．１−０．２５重量％ Ｔｉ　　　Ｔｒ又はＯ−１〜０．１５％量％Ｈ２Ａｌ　
　１００グラムに対して １．０ｃｃ以下 ＡＩ　　　実質的に残部 （但し、前記Ｔｒとは積極的に添加しない場合の痕跡量
を意味する。） 本発明のアルミニウム合金は、圧延、押出等の塑性加工
を経た後、切削乃至は研摩等の機械的方法、乃至は化学
エツチング等化学的乃至物理的方法を伴なう精密加工を
施し、必要に応じて熱処理、調質等を随時組合せて、使
用目的に応じた適宜の形状に賦形される０例えば電子写
真感光体ドラム等の厳格な寸法精度を要求される管状の
構成部材に賦形する場合は１通常の押出加工により得ら
れるポートホール押出管あるいはマンドレル押出管を、
更に冷間引抜加工して得られる引抜管を使用するのが好
ましく、この様な管を用い、例えば管表面に鏡面仕上げ
、エンポシング等のための切削乃至は研摩等の機械的方
法、乃至は化学エツチング等化学的乃至物理的方法を伴
なう精密加工を施した場合に１本発明のアルミニウム合
金の特長が特に顕著に現すれる。

本発明のアルミニウム合金は、電子写真感光体等の光導
電部材の支持体、コンピューターメモリー用磁気ディス
ク基板、レーザースキャン用のポリゴンミラー基体に最
適であり、またダイヤバイトによる鏡面仕上げ１円筒研
削仕上げ、ラッピング什丘げ等の手段を用いて、Ｒ＝１
ｐｍ以　ａ　ｘ 下の表面粗さ、好ましくはＲ＝０．０５　ａ　ｘ ｇｍ以下の平面度に仕上げられる各種電気乃至は電子デ
バイスの構成部材として有用である。

以下、本発明のアルミニウム合金を支持体として用い、
光導電物質としてａ−３ｉを用いた電子写真用の光導電
部材について、本発明の光導電部材の構成例を説明する
。

この様な光導電部材は１例えば支持体上に電荷注入阻４
ヒ屑、光導電層（感光層）及び表面保護層を順次積層し
た構成を有している。

支持体の形状は、所望によって決定されるが。

例えば電子写真用として使用するのであれば、連続高速
複写の場合には、無端ベルト状又は円筒状とするのが９
ましい、支持体の厚みは、所望通りの光導電部材が形成
される様に適宜決定されるが、光導電部材として可撓性
が要求される場合には、支持体としての機能が十分発揮
される範囲内であれば可能な限り薄くされる。しかしな
がら、この様な場合にも、支持体の製造上及び取扱い上
、更には機械的強度等の点から、通常は、ｌＯルｍ以上
とされる。

支持体表面は、光導電部材の均一性を保つために例えば
鏡面化切削加工等により鏡面仕上げが施され、また、感
光体を光源としてレーザー光等の可干渉性単色光を使用
するデジタル画像情報記録に使用する場合に、干渉縞模
様を防止するためなどに、例えば旋盤、フライス＠等を
用いたダイヤモンド切削等機械的精密加工あるいは化学
エツチング等地の精密加工により規則的乃至は不規則の
例えば螺旋状の微細な凹凸が付される。

電荷注入阻止層は、例えば水素原子及び／又はハロゲン
原子を含有するａ−５ｉで構成されると共に、伝導性を
支配する物質として、通常半導体の不純物として用いら
れる周期律表第１ＩＩ族乃至は第Ｖ族に属する元素の原
子が含有される。電々注入阻＋Ｉト層の層厚は、好まし
くは０．０ｌ−１０ｕ、ｍ、より好適には０．０５〜８
ＩＬｍ、最適には０．０７〜５ｇ、ｍとされるのが望ま
しい。

電荷注入阻止層の代りに、例えばＡＩ、０３゜ｓｔｏ、
、５ｉ３Ｎ、、ポリカーボネート等の電気絶縁材料から
成る障壁層を設けてもよいし、あるいは電荷注入阻止層
と障壁層とを併用することもできる。

光導電層は１例えば水素原子とハロゲン原子を含有する
ａ−３ｉで構成され、所望により電荷注入阻１Ｆ暦に用
いるのとは別種の伝導性を支配する質が含有される。光
導電層の層厚は、好ましくは１１−１Ｏ０１Ｌ、より好
適には１〜８０１Ｌｍ、最適には２〜５０４ｍとされる
のが望ましい。

等で構成され、層厚は、好ましくは０．０１〜１０糾ｍ
、より好適には０．０２〜５ｕ、ｍ、最適には０．０４
〜５ｇｍとされるのが望ましい。

本発明において、ａ−５ｉで構成される光導電層等を形
成するには１例えばグロー放電法、スパッタリング法、
あるいはイオンブレーティング法等の従来公知の種々の
放電現象を利用する真空堆積法が適用される。

次にグロー放電分解法による光導電部材の製造法の１例
について説明する。

＠１図にグロー放電分解法による光導電部材の製造装置
を示す、堆積槽ｌは、ベースプレート２と槽Ｍ１３とト
ッププレート４とから構成され、この堆積槽ｌ内には、
カソード電極５が設けられており、ａ−５ｉ堆積膜が形
成される特定の組成を有するアルミニウム合金製のドラ
ム状支持体６はカソード電極５の中央部に設置され、７
ノード電極としての役割も兼ねている。

この製造装置を使用してａ−５ｉ堆積膜をドラム状支持
体上に形成するには、まず、原料ガス流入バルブ７及び
リークバルブ８を閉じ、排気バルブ９を開け、堆積槽１
内を排気する。ｔＬ空計１０の読みが５ＸＩＯ””ｔｏ
ｒｒになった時点で原料ガス流入バルブ７を開いて、マ
スフローコントローラー１１内で所定の混合比に調整さ
れた、例えばＳｉＨ，ガス、Ｓｉ２Ｈ６ガス、ＳｉＦ４
ガス等の原料混合ガスを堆積槽ｌ内に流入させる。この
とき堆積槽ｌ内の圧力が所望の値になる様に真空計ｌＯ
の読みを見ながら排気パルプ９の開口度を調整する。そ
してドラム状支持体６の表面温度が加熱ヒーター１２に
より所定の温度に設定されていることを確認した後、高
周波電源１３を所望の電力に設定して堆積槽１内にグロ
ー放電を生起させる。

また、層形成を行なっている間は、層形成の均一化を図
るためにドラム状伎持体６をモータ１４により一定速度
で回転させる。このようにしてドラム状支持体６上に、
ａ−５ｉ堆積膜を形成することができる。

以下、本発明を実施例に基きより詳細に説明する。

実施例１〜３、比較例１．２ 精密切削用のエアーダンパー付旋盤 （ＰＮＥＵＭＯＰＲＥＣＩＳＩＯＮ　　ＩＮＣ。

製）に、先端部曲率０．０１（ｍｍ−’）のダイヤモン
ドバイトを、シリンダー中心角に対して５°の負のすく
い角を得る様にセットした０次にこの旋盤の回転軸フラ
ンジに、第１表に示したＳｉ含ダグ−Ｍｇ含量は何れも
４重着％、Ｆｅ含￥は何れも１１０００ｐｐ以下水素含
量は何れも、アルミニウム１００グラムに対して１．０
ｃｃ以下）を真空チャックし、付設したノズルからの白
燈油噴霧、同じく付設した真空ノズルからの切り粉の吸
引を併用しつつ１周速１０００　（ｍ／ｍ　ｉｎ）、送
り速度０　、０１　（ｍｍ／Ｒ）の条件で、外径が８０
　ｍ　ｍΦとなる様鏡面切削を施した。このようにして
鏡面加工したシリンダーにつき、鏡面加工後に生じてい
る表面欠陥（エグレ状の傷、ひび割れ、スジ状キズ）を
目視及び金属顕微鏡により検査し、その数を調べた。な
お、シリンダイーに含量される水素の量は作製したシリ
ンダーの一部を切りとり、これをサンプルとし、ラボラ
トリ−・イクイップメンツ・コーポレーション９１ＲＨ
−ＩＥ型を用い、その仕様書に従って測定した。

次に、これらの鏡面加工したアルミニウム合金製シリン
ダーのそれぞれの上に、第１図に示した光導電部材の製
造装置を用い、先に詳述したグロー放電分解法に従い、
下記の条件により光導電部材を作製した。

■電荷注入阻止層　ＳｉＨ４／　　　　０．６Ｂ２Ｈ。

（り光導電層　　　　Ｓ　ｉ　Ｈ４２０■表面保ｊｆｔ
＆ｔ　　　　Ｓ　ｉ　Ｈａ　／　　　　０　、１ｃ２Ｈ
。

アルミニウムシリンダ一温度：　　２５０℃堆積膜形成
時の堆積室内内圧：　　０．３Ｔｏｒｒ放電周波数＝　
　１３．５６ＭＨｚ　　　　’堆積膜形成速度：　　２
０Ａ／ｓｅｃ 放電電カニ　　０．１８Ｗ／ｃｍ２ こうして得られた各電子写真感光体ドラムを、キャノン
（株）製４００ＲＥ複写装置に設置して画出しを行ない
、白点状の画像欠陥（０、３ｍｍΦ以１：）の評価を実
施した。これらの評価結果を第１表に示した。

なお、実施例１〜３の各電子写真感光体ドラムについて
は、更に１００万枚の耐久試験を、２３℃／相対湿度５
０％、３０℃／相対湿度９０％、５℃／相対湿度２０％
の各環境下で実施したが、画像欠陥、特に白抜は等の欠
陥の増加もなく、良好な耐久性を有していることが確認
された。

〔発明の効果〕

本発明のアルミニウム合金によれば、ＳＬ含量とビッカ
ース硬度を最適化しているため、精密加工による加工性
や加工製品の所望される特性が飛躍的に向上し、また含
有する介在物による影響が抑制され、乃至は全くなくな
り、これによる精密加工の加工性の低下や加工製品の所
望される特性の劣化が抑えられるため、精密加工が必要
とされる電気乃至は電子デバイスの構成部材、とりわけ
精密加工による正確な表面形状が望まれる光導電部材、
コンピューターメモリー用磁気ディスク基板、レーザー
スキャン用のポリゴンミラー基体等の電気乃至は電子デ
バイスの構成部材として好適である。

また、このアルミニウム合金を引抜加工して得られる管
材は、正確な表面形状並びに高い寸法精度、高硬度が得
られるため、とりわけ電子写真感光体ドラムの支持体等
精密な管状構成部材等を構成するのに好適である。

更に、本発明のアルミニウム合金を支持体として用いた
光導電部材は、電気的、光学的乃至は光導電的特性の均
一性、耐久性に優れ、就中、電子写真用として用いた場
合１画像欠陥が少なく、高品質な画像を得ることができ
る。

【図面の簡単な説明】

第１図は、グロー放電解法による光導電部材の製造装置
を示した図である。 １　・　拳　・　塩４ノＩ尋−ｉ、 ２・１ベースプレート。 ３・・・槽壁、 ４・・・トッププレート、 ５・・・カソード電極、 ６・・・ドラム状支持体。 ７・・ＩＩ原料ガス流入バルブ、 ８・・・リークバルブ。 ９曖・・排気バルブ、 ｌＯ・・・真空計。 １１・・・マスフローコントローラ。 １２拳・・加熱ヒーター、 １３・・・高周波電源、 ｌ４・・ｅモータ。 代理人　弁理士　　山　ド　　穣　平 第１図

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. （１）アルミニウムを基質とし且つケイ素含量が０．５
   〜７重量％であるアルミニウム合 金であって、ビッカース硬度が５０Ｈｖ〜 １００Ｈｖであることを特徴とする精密加 工用アルミニウム合金。
2. （２）鉄含量が２０００ｐｐｍ以下である特許請求の範
   囲第（１）項記載の精密加工用ア ルミニウム合金。
3. （３）含有する水素の量がアルミニウム１００グラムに
   対して１．０ｃｃ以下である特許 請求の範囲第（１）項又は第（２）項記載 の精密加工用アルミニウム合金。
4. （４）アルミニウムを基質とし、ケイ素含量が０．５〜
   ７重量％であり且つ含有するビ ッカース硬度が５０Ｈｖ〜１００Ｈｖであ るアルミニウム合金を引抜加工により成形 したことを特徴とするアルミニウム合金管 材。
5. （５）管表面に切削乃至は研摩加工を施している特許請
   求の範囲第（４）項記載のアルミ ニウム合金管材。
6. （６）支持体上に光導電層を有する光導電部材において
   、前記支持体が、アルミニウムを 基質とし、ケイ素含量が０．５〜７重量％ であり且つビッカース硬度が５０Ｈｖ〜 １００Ｈｖであるアルミニウム合金から成 ることを特徴とする光導電部材。
7. （７）光導電層が、ケイ素原子を含む非晶質材料から成
   る層を含むものである特許請求の 範囲第（８）項記載の光導電部材。