JPS61230332A - ウエハ等薄板体の搬送装置 - Google Patents
ウエハ等薄板体の搬送装置Info
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- JPS61230332A JPS61230332A JP7310485A JP7310485A JPS61230332A JP S61230332 A JPS61230332 A JP S61230332A JP 7310485 A JP7310485 A JP 7310485A JP 7310485 A JP7310485 A JP 7310485A JP S61230332 A JPS61230332 A JP S61230332A
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- Japan
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- basket
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- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
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- H01L21/67028—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
- H01L21/6704—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing
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- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔竜業上の利用分野〕
この発明は、例えば半導体ウニＩ・のエツチング等の表
面処理におけるウェハ等薄板体の搬送装置の改良に関す
るものである。
面処理におけるウェハ等薄板体の搬送装置の改良に関す
るものである。
半導体装置を製造するに際して、その基板たるウェハの
処理工桿には、ウニノ１を化学的にエツチングしてその
構酸材料たるシリコンや５１０２を代表とする酸化膜を
エツチングしたり、Ａ１などの電極部分を選択エツチン
グする操作≠；不可欠である。そして、化学的エツチン
グは古典的にはエッチャントを構酸する硝酸系統の酸化
剤で材料が酸化さね、同じくエッチャントを構駿する弗
や系統で酸化膜を溶解して、これを繰返してエツチング
を進めることで知られている。
処理工桿には、ウニノ１を化学的にエツチングしてその
構酸材料たるシリコンや５１０２を代表とする酸化膜を
エツチングしたり、Ａ１などの電極部分を選択エツチン
グする操作≠；不可欠である。そして、化学的エツチン
グは古典的にはエッチャントを構酸する硝酸系統の酸化
剤で材料が酸化さね、同じくエッチャントを構駿する弗
や系統で酸化膜を溶解して、これを繰返してエツチング
を進めることで知られている。
この場合、工業的にはエツチングの伴出、即ちクエンチ
は速く、且つ平均に、しかも微細パターンを損うことな
く進める事が重要であり、更には危険な薬液を人体から
隔離する為に自動搬送機構によるウェハのハンドリング
も重要になって来ている。
は速く、且つ平均に、しかも微細パターンを損うことな
く進める事が重要であり、更には危険な薬液を人体から
隔離する為に自動搬送機構によるウェハのハンドリング
も重要になって来ている。
クエンチングの手段としては、ウェハを急速に純水中に
没するのが一般的であるが、特殊な場合として、アルコ
ールに没してエッチャントの酸と反応させたり、ウェハ
と反応しない他の酸（例えば酢酸）に没する方法もある
。しかし、いすｈの場合モ、エツチングの終点において
はウェハよりエッチャントを素早く収り除かないと、■
エツチング量が正確にコントロール出来ない、■微細パ
ターンがくずれ易い、■エツチング槽からクエンチ槽へ
の移行中に空気中の酸素や窒素と反応してウェハ表面に
不規則な醇化物や窒化物、例えばスティンフィルムなど
が形成される、等の不具合が生じやすい。
没するのが一般的であるが、特殊な場合として、アルコ
ールに没してエッチャントの酸と反応させたり、ウェハ
と反応しない他の酸（例えば酢酸）に没する方法もある
。しかし、いすｈの場合モ、エツチングの終点において
はウェハよりエッチャントを素早く収り除かないと、■
エツチング量が正確にコントロール出来ない、■微細パ
ターンがくずれ易い、■エツチング槽からクエンチ槽へ
の移行中に空気中の酸素や窒素と反応してウェハ表面に
不規則な醇化物や窒化物、例えばスティンフィルムなど
が形成される、等の不具合が生じやすい。
また、このようにウェハを液中でエツチングする工程で
は一般にエツチング量が大きい為に再エツチング工程は
採り難く、再生は極めて難しいとされている。
は一般にエツチング量が大きい為に再エツチング工程は
採り難く、再生は極めて難しいとされている。
従って、確実なりエンチは生産効率の面からも非常に重
要な意味をもっている。
要な意味をもっている。
さて、このような産業的要請に対し、従来は第４図のよ
うにエツチング槽ｉｌｌにウェハ（２）を多数収容シた
バスケット（３）を浸漬し、搬送ロボット（４１の腕（
４ａ）にてバスケットのハンドル（３ａ）を掴んで上下
動作させ、所定時間のエツチングが終ると腕（４ａ）を
大きく上昇させ、搬送ロボット【４）のキャスタ（４ｃ
）を介してレール（４ｂ）上を水槽（５１側へ移行させ
てクエンチし、再び腕（４ａ）の上下動作にて水洗する
方法が一般的に行カわｈてぃた。
うにエツチング槽ｉｌｌにウェハ（２）を多数収容シた
バスケット（３）を浸漬し、搬送ロボット（４１の腕（
４ａ）にてバスケットのハンドル（３ａ）を掴んで上下
動作させ、所定時間のエツチングが終ると腕（４ａ）を
大きく上昇させ、搬送ロボット【４）のキャスタ（４ｃ
）を介してレール（４ｂ）上を水槽（５１側へ移行させ
てクエンチし、再び腕（４ａ）の上下動作にて水洗する
方法が一般的に行カわｈてぃた。
従って、第５図に示すようにエツチング槽＋１１にある
ウェハ（２）を収容したバスケット（３）の位置をＡと
すると、クエンチの際は、まずバスケット（３）をＢの
位置まで上昇させ、次にＣの位置まで水平移動させ、更
にＤの位置、即ちクエンチ槽（５）に降す三つの動作が
必要であった。
ウェハ（２）を収容したバスケット（３）の位置をＡと
すると、クエンチの際は、まずバスケット（３）をＢの
位置まで上昇させ、次にＣの位置まで水平移動させ、更
にＤの位置、即ちクエンチ槽（５）に降す三つの動作が
必要であった。
従来のウェハ等薄板体の搬送装置は以上のように構成さ
れているので、素早いクエンチを行うには限界があり、
理想的には１秒以内でクエンチした（とも、実際には２
乃至４秒も所要せざるを得な（、前述したような緩慢な
りエンチ状態を招きやすかった。
れているので、素早いクエンチを行うには限界があり、
理想的には１秒以内でクエンチした（とも、実際には２
乃至４秒も所要せざるを得な（、前述したような緩慢な
りエンチ状態を招きやすかった。
本発明はこのような不具合事項を解決するためになされ
たもので、ウェハ等薄板体の搬送を素早〈実施できるウ
ェハ等薄板体の搬送装置を得ることを目的とするもので
ある。
たもので、ウェハ等薄板体の搬送を素早〈実施できるウ
ェハ等薄板体の搬送装置を得ることを目的とするもので
ある。
Ｃ問題点を解決するための手段）
この発明の＠ｌの発明に係るウェハ等薄板体の儒送装置
は、隣接された一対の摺の一方から他方へウェハ等薄板
体を搬送するウェハ等薄板体の搬送装置において、上記
一対の槽の境界付近上方Ｉζおいて、上記境界線方向に
配置された回転軸、この回転軸に一端側が結合され他端
側が一対の槽のいずれかに浸漬される腕、及びこの腕の
他端側に保持されて上記ウェハ等薄板体を収容するバス
ケットを備えたものである。
は、隣接された一対の摺の一方から他方へウェハ等薄板
体を搬送するウェハ等薄板体の搬送装置において、上記
一対の槽の境界付近上方Ｉζおいて、上記境界線方向に
配置された回転軸、この回転軸に一端側が結合され他端
側が一対の槽のいずれかに浸漬される腕、及びこの腕の
他端側に保持されて上記ウェハ等薄板体を収容するバス
ケットを備えたものである。
また、この発明の他の発明に係るウェハ等薄板体の搬送
装置け、隣接された一対の槽の一方から他方へウェハ等
薄板体を搬送するウェハ等薄板体の搬送装置において、
上記一対の槽の境界付近上方において、上記境界線方向
に配置された中軸と外筒軸とからなる二重軸、上記外筒
軸に一端側が結合され、他端側か一対の槽のいずれかに
浸漬される腕、この腕の他端側に回転自在に保持されて
上記ウェハ等薄板体を収容するバスケット、上記腕に支
承されて上記中軸の回転力を上記バスケットに伝達する
伝達手段、及び上記中軸と外筒軸とを回転駆動させる駆
動手段を備えたものである。
装置け、隣接された一対の槽の一方から他方へウェハ等
薄板体を搬送するウェハ等薄板体の搬送装置において、
上記一対の槽の境界付近上方において、上記境界線方向
に配置された中軸と外筒軸とからなる二重軸、上記外筒
軸に一端側が結合され、他端側か一対の槽のいずれかに
浸漬される腕、この腕の他端側に回転自在に保持されて
上記ウェハ等薄板体を収容するバスケット、上記腕に支
承されて上記中軸の回転力を上記バスケットに伝達する
伝達手段、及び上記中軸と外筒軸とを回転駆動させる駆
動手段を備えたものである。
〔作用〕
この発明の第１の発明に係るウェハ等薄板体の搬送装置
では、一対の槽の境界方向に配置された回転軸が回転す
ると、この回転軸に一端が結合された腕が回転し、腕の
他端側に保持されたバスケットは一方の檜から他方の槽
へ素早ぐ搬送される。
では、一対の槽の境界方向に配置された回転軸が回転す
ると、この回転軸に一端が結合された腕が回転し、腕の
他端側に保持されたバスケットは一方の檜から他方の槽
へ素早ぐ搬送される。
また、この発明の他の発明に係るウェハ等薄板体の搬送
装置では、二重軸の中軸が回転すると、腕の他端に回転
自在に支承されたバスケットが伝達手段を介して回転さ
れる・ 〔実施例〕 第１図、第２図及び第３図は本発明の一実施例を示す断
面図及び斜視図である。同図において、（６）は略円筒
形の回転体からなるウニノ＼（２）の保持体で、バスケ
ットを構成し、ウェハ（２）を最低３点で保持するよう
に珠算状の保持具（ａａ） （ａｂ） （６Ｃ） （Ｍ
）（６ｅ）及び（６ｆ）が収りつけである。
装置では、二重軸の中軸が回転すると、腕の他端に回転
自在に支承されたバスケットが伝達手段を介して回転さ
れる・ 〔実施例〕 第１図、第２図及び第３図は本発明の一実施例を示す断
面図及び斜視図である。同図において、（６）は略円筒
形の回転体からなるウニノ＼（２）の保持体で、バスケ
ットを構成し、ウェハ（２）を最低３点で保持するよう
に珠算状の保持具（ａａ） （ａｂ） （６Ｃ） （Ｍ
）（６ｅ）及び（６ｆ）が収りつけである。
第２図において、（６ｂ）と（６ｃ）及び（６ｅ）と（
６ｆ）の保持具はそれぞれ１体となって保持体（６）の
内面に設けた案内溝（６ｇ）（６ｈ） （６ｔ）及び（
６ｊ）を介してウェハ（２）の直径に適応出来るように
してあり、例えば（６’ｂ）と（６Ｃ）からなる保持具
にウェハ（２）を載置して案内溝（〜）及び（６１）を
通すと、（６ｂ）と（６Ｃ）とをあらかじめ固定してい
る固定具（６ｋ）の外側に突き出した案内突起（６／、
）と係合して位置関係が合うようになっている。
６ｆ）の保持具はそれぞれ１体となって保持体（６）の
内面に設けた案内溝（６ｇ）（６ｈ） （６ｔ）及び（
６ｊ）を介してウェハ（２）の直径に適応出来るように
してあり、例えば（６’ｂ）と（６Ｃ）からなる保持具
にウェハ（２）を載置して案内溝（〜）及び（６１）を
通すと、（６ｂ）と（６Ｃ）とをあらかじめ固定してい
る固定具（６ｋ）の外側に突き出した案内突起（６／、
）と係合して位置関係が合うようになっている。
また、（６ｍ）及び（＆ｌ） ｈ回転軸を支承する穴で
あり、少なくとも一方は内面が方形になって回転力を受
けやすいようにしである。（８ａ） （８ｂ）は保持体
（６）の支承穴（６ｍ）（６ｎ）に一端側が収すつけら
れた一対の腕、（ｇ＆）はこの腕（８ａ） （８ｂ）の
他端側が固定された外筒軸を構成する反転軸、（ｌＯ）
はチェーン（１）と反転スプロケット（９ｂ）とを介し
て反転軸（９ａ）に回転力を与える反転駆動用モーター
、α１）は伝達手段を構成する動力伝達ギヤで、反転軸
（９ａ）の中に設けられた中軸を構成する回転軸（１２
ａ）と保持体（６１とを連結している。Ｑ３Ｆｉ回転駆
動用モーターで、回転用プーリー（１２ｂ）とベルト（
財）を介して回転動力を回転体（６１に伝達してウェハ
（２）に回転運動を与えている。なお、回転駆動用モー
ターｔｔｏ＋ ａａで駆動手段を構成している。
あり、少なくとも一方は内面が方形になって回転力を受
けやすいようにしである。（８ａ） （８ｂ）は保持体
（６）の支承穴（６ｍ）（６ｎ）に一端側が収すつけら
れた一対の腕、（ｇ＆）はこの腕（８ａ） （８ｂ）の
他端側が固定された外筒軸を構成する反転軸、（ｌＯ）
はチェーン（１）と反転スプロケット（９ｂ）とを介し
て反転軸（９ａ）に回転力を与える反転駆動用モーター
、α１）は伝達手段を構成する動力伝達ギヤで、反転軸
（９ａ）の中に設けられた中軸を構成する回転軸（１２
ａ）と保持体（６１とを連結している。Ｑ３Ｆｉ回転駆
動用モーターで、回転用プーリー（１２ｂ）とベルト（
財）を介して回転動力を回転体（６１に伝達してウェハ
（２）に回転運動を与えている。なお、回転駆動用モー
ターｔｔｏ＋ ａａで駆動手段を構成している。
また、モーター（ＩＱＩ及び（至）以外の各構成材料は
塩化ビニルＷ脂、テフロン等の耐酸性材料が好ましい。
塩化ビニルＷ脂、テフロン等の耐酸性材料が好ましい。
上記のように構成されたものにおいては、エツチング槽
（１１内では、第Ｘｖ！Ｊ、第３図のようにエツチング
液（例えば硝酸中弗酸）（７１に没するように保持体（
６）が浸漬されている。ここで１回転駆動用モーター１
１３Ｉ／ｉベルト（ロ）９回転用プーリー（ｕｂ＞ 。
（１１内では、第Ｘｖ！Ｊ、第３図のようにエツチング
液（例えば硝酸中弗酸）（７１に没するように保持体（
６）が浸漬されている。ここで１回転駆動用モーター１
１３Ｉ／ｉベルト（ロ）９回転用プーリー（ｕｂ＞ 。
回転軸（ｍ） 、動力伝達ギヤαηを介して保持体（６
）を幻〜１１００ＲＰで回転させており、ウニＩ・（２
１表面での液の環流は促進されることになり、エツチン
グが均一に実施される。
）を幻〜１１００ＲＰで回転させており、ウニＩ・（２
１表面での液の環流は促進されることになり、エツチン
グが均一に実施される。
次に、回転駆動用モーター（１０１を回転させると、そ
の回転力はチェーン四２反転スプロケット（９１））を
介して反転軸（９ａ）に伝達される。このため、この反
転軸（９ａ）に一端が結合された腕（８ａ） （ｓｂ）
が回転し、保持体（６１ハエツチング槽１１＋からクエ
ンチ槽（６）へ素早く搬送され、更にクエンチ槽（６１
内では、エツチング槽１１１内と同様に保持体（６）が
回転さね、ウェハ（２）表面での純水の環流が促進され
、水洗効果が向上する。
の回転力はチェーン四２反転スプロケット（９１））を
介して反転軸（９ａ）に伝達される。このため、この反
転軸（９ａ）に一端が結合された腕（８ａ） （ｓｂ）
が回転し、保持体（６１ハエツチング槽１１＋からクエ
ンチ槽（６）へ素早く搬送され、更にクエンチ槽（６１
内では、エツチング槽１１１内と同様に保持体（６）が
回転さね、ウェハ（２）表面での純水の環流が促進され
、水洗効果が向上する。
ところで、この発明は半導体ウェハの搬送について述べ
たが、ウェハ以外の薄板体、例えば水晶基板、ガラス基
板、レンズ等のエツチング洗浄処理等における搬送装置
として利用できることは勿論である。
たが、ウェハ以外の薄板体、例えば水晶基板、ガラス基
板、レンズ等のエツチング洗浄処理等における搬送装置
として利用できることは勿論である。
以上のように、この発明は、隣接された一対の槽の一方
から他方へウェハ等簿板体を搬送するウェハ等薄板体の
搬送装置において、上記一対の槽の境界付近上方におい
て、上記境界線方向に配置された回転軸、この回転軸に
一端側が結合さね他端側か一対の槽のいずれかに浸漬さ
れる腕、及びこの腕の他端側に保持されて上記ウェハ等
薄板体を収容するバスケットを備えたので、バスケット
を瞬時に一方の槽から仲方の檜へ搬送でき、正確なエツ
チング量を制御でき、確実な微細パターンを得ることが
できるばかりで′ｆｘ（、搬送途中における酸化や窒化
を抑制できる効果がある。
から他方へウェハ等簿板体を搬送するウェハ等薄板体の
搬送装置において、上記一対の槽の境界付近上方におい
て、上記境界線方向に配置された回転軸、この回転軸に
一端側が結合さね他端側か一対の槽のいずれかに浸漬さ
れる腕、及びこの腕の他端側に保持されて上記ウェハ等
薄板体を収容するバスケットを備えたので、バスケット
を瞬時に一方の槽から仲方の檜へ搬送でき、正確なエツ
チング量を制御でき、確実な微細パターンを得ることが
できるばかりで′ｆｘ（、搬送途中における酸化や窒化
を抑制できる効果がある。
また、この発明の他の発明では、隣接さｉ′Ｉた一対の
槽の一方から他方へウェハ等薄板体を搬送するウェハ等
薄板体の搬送装ａｔこおいて、上記一対の槽の境界付近
上方において、上記境界線方向に配置さｆ１７：中軸と
外筒軸とからなる二重軸、上記外筒軸に一端側が結合さ
れ、他端側か一対の槽のいずれかに浸漬される腕、この
腕の他端側に回転自在に保持されて上記ウェハ等薄板体
を収容するバスケット、上記腕に支承されて上記中軸の
回転力を上記バスケットｊこ伝達する伝達手段、及び上
記中軸と外筒軸とを回転駆動させる駆動半没を備エタの
で、各槽内でバスケットが回転されることになり１例え
ばエツチング槽内ではエツチング処理のムラを防止でき
、またクエンチ槽内では水洗処理ムラを確実に防止でき
る効果がある。
槽の一方から他方へウェハ等薄板体を搬送するウェハ等
薄板体の搬送装ａｔこおいて、上記一対の槽の境界付近
上方において、上記境界線方向に配置さｆ１７：中軸と
外筒軸とからなる二重軸、上記外筒軸に一端側が結合さ
れ、他端側か一対の槽のいずれかに浸漬される腕、この
腕の他端側に回転自在に保持されて上記ウェハ等薄板体
を収容するバスケット、上記腕に支承されて上記中軸の
回転力を上記バスケットｊこ伝達する伝達手段、及び上
記中軸と外筒軸とを回転駆動させる駆動半没を備エタの
で、各槽内でバスケットが回転されることになり１例え
ばエツチング槽内ではエツチング処理のムラを防止でき
、またクエンチ槽内では水洗処理ムラを確実に防止でき
る効果がある。
＠１図はこの発明の一実施例を示す斜視図、第２図及び
第３図は本発明の要部の一実施例を示す要部断面図及び
斜視図、＠４図及び第５図は従来装置の斜視図である。 図中、１ｌｌＩ／′ｉエツチング槽、＋２１ ＃−ｊウ
ェハ、（５）はクエンチ槽、＋６１１−１保持体、（ａ
ａ） （ｓｂ）は腕、（９ａ） Ｈ反転軸１１０１（１
：ｌＦｉ回転駆動用モータ、αυは勢力伝達ギヤー（１
２ａ）は回転軸である。 なか、各図中、同一符号は同−又は相当部分を示す。
第３図は本発明の要部の一実施例を示す要部断面図及び
斜視図、＠４図及び第５図は従来装置の斜視図である。 図中、１ｌｌＩ／′ｉエツチング槽、＋２１ ＃−ｊウ
ェハ、（５）はクエンチ槽、＋６１１−１保持体、（ａ
ａ） （ｓｂ）は腕、（９ａ） Ｈ反転軸１１０１（１
：ｌＦｉ回転駆動用モータ、αυは勢力伝達ギヤー（１
２ａ）は回転軸である。 なか、各図中、同一符号は同−又は相当部分を示す。
Claims (2)
- （１）隣接された一対の槽の一方から他方へウェハ等薄
板体を搬送するウェハ等薄板体の搬送装置において、上
記一対の槽の境界付近上方において上記境界線方向に配
置された回転軸、この回転軸に一端側が結合され他端側
が一対の槽のいずれかに浸漬される腕、及びこの腕の他
端側に保持されて上記ウェハ等薄板体を収容するバスケ
ットを備えたウェハ等薄板体の搬送装置。 - （２）隣接された一対の槽の一方から他方へウェハ等薄
板体を搬送するウェハ等薄板体の搬送装置において、上
記一対の槽の境界付近上方において上記境界線方向に配
置された中軸と外筒軸とからなる二重軸、上記外筒軸に
一端側が結合され、他端側が一対の槽のいずれかに浸漬
される腕、この腕の他端側に回転自在に保持されて上記
ウェハ等薄板体を収容するバスケット、上記腕に支承さ
れて上記中軸の回転力を上記バスケットに伝達する伝達
手段、及び上記中軸と外筒軸とを回転駆動させる駆動手
段を備えたウェハ等薄板体の搬送装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7310485A JPS61230332A (ja) | 1985-04-04 | 1985-04-04 | ウエハ等薄板体の搬送装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7310485A JPS61230332A (ja) | 1985-04-04 | 1985-04-04 | ウエハ等薄板体の搬送装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61230332A true JPS61230332A (ja) | 1986-10-14 |
Family
ID=13508664
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7310485A Pending JPS61230332A (ja) | 1985-04-04 | 1985-04-04 | ウエハ等薄板体の搬送装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61230332A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0297648A2 (en) * | 1987-06-29 | 1989-01-04 | STMicroelectronics S.r.l. | Method of shaping the edges of slices of semiconductor material and corresponding apparatus |
| KR100359228B1 (ko) * | 2000-03-15 | 2002-11-04 | 네오세미테크 주식회사 | 반도체 웨이퍼의 표면 평탄화용 에칭장치 및 이를 이용한표면 평탄화 에칭방법 |
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1985
- 1985-04-04 JP JP7310485A patent/JPS61230332A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0297648A2 (en) * | 1987-06-29 | 1989-01-04 | STMicroelectronics S.r.l. | Method of shaping the edges of slices of semiconductor material and corresponding apparatus |
| KR100359228B1 (ko) * | 2000-03-15 | 2002-11-04 | 네오세미테크 주식회사 | 반도체 웨이퍼의 표면 평탄화용 에칭장치 및 이를 이용한표면 평탄화 에칭방법 |
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