JPS61228643A - ウエハのアライメント装置 - Google Patents
ウエハのアライメント装置Info
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- JPS61228643A JPS61228643A JP6838385A JP6838385A JPS61228643A JP S61228643 A JPS61228643 A JP S61228643A JP 6838385 A JP6838385 A JP 6838385A JP 6838385 A JP6838385 A JP 6838385A JP S61228643 A JPS61228643 A JP S61228643A
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- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/68—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for positioning, orientation or alignment
- H01L21/681—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for positioning, orientation or alignment using optical controlling means
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は、半導体ウェハの加工工程において該ウェハの
位置及び姿勢（水平面内における角位置）を精密に決め
る機能を備えたアライメント装置に関するものである。
位置及び姿勢（水平面内における角位置）を精密に決め
る機能を備えたアライメント装置に関するものである。
半導体ウェハ１は一般に第２図に示すごとく、はぼ円形
の薄板に構成され、粗位置決め（プリアライメント）を
行う為の切欠（オリフラ）ｌａが設けられている。
の薄板に構成され、粗位置決め（プリアライメント）を
行う為の切欠（オリフラ）ｌａが設けられている。
このウェハ１を自動機器に供給して露光などの加工を行
う場合、精密な位置決めをする為の準備工程としてプリ
アライメントが行われる。
う場合、精密な位置決めをする為の準備工程としてプリ
アライメントが行われる。
上記のプリアライメントの技術として、第３図に示すよ
うな３点ローラ式のプリアライメント装置が公知である
。
うな３点ローラ式のプリアライメント装置が公知である
。
本第３図に仮想線で描いた１はウェハの外形を対比する
為に示したものであり、所望のプリアライメント位置を
表わしている。
為に示したものであり、所望のプリアライメント位置を
表わしている。
オリフラ１ａに沿って３個のローラ２ａ、 ２ｂ。
２ｃが設けられている。詳しくは１両端のローラ２ａ、
２ｃがオリフラ１ａに接し、中央のローラ２ｂはオリフ
ラ１ａから微小寸法ｄだけ離間するようにオフセットさ
れている。
２ｃがオリフラ１ａに接し、中央のローラ２ｂはオリフ
ラ１ａから微小寸法ｄだけ離間するようにオフセットさ
れている。
左端のローラ２ａは図の左回りに、中央のローラ２ｂと
右端のローラ２ｃとは右回りに、それぞれ回転せしめら
れる。
右端のローラ２ｃとは右回りに、それぞれ回転せしめら
れる。
上記３個のローラ（３点ローラと呼ぶ）２ａ。
２ｂ、２ｃに対して適宜に離れた位置に１位置決め用の
ローラ３が設けられ、かつ、ウェハ１を矢印Ａの如く（
即ち１位置決めローラと３点ローラとの中間に向かう方
向に）押動する手段が設けられる。
ローラ３が設けられ、かつ、ウェハ１を矢印Ａの如く（
即ち１位置決めローラと３点ローラとの中間に向かう方
向に）押動する手段が設けられる。
上記の矢印入方向の押動手段としては、プリアライメン
トの途中では例えばエアーを吹きつける方法が用いられ
、プリアライメントを終了する時点ではブツシャローラ
などの機械的部材が用いられる。
トの途中では例えばエアーを吹きつける方法が用いられ
、プリアライメントを終了する時点ではブツシャローラ
などの機械的部材が用いられる。
第４図に示すごとく、任意の姿勢にウェハ１を供給して
矢印入方向に押しつけると（偶然にオリフラ１ａが３点
ローラ２ａ〜２ｃに正対した場合を除き）ウェハ１の周
囲の円弧部分が中央のローラ２ｂに接する。この状態（
第４図）において両端のローラ２ａ、２ｃはウェハ１に
摺触しないので、ウェハ１は中央のローラ２ｂによって
矢印りの如く図示左回り方向に回動せしめられる。
矢印入方向に押しつけると（偶然にオリフラ１ａが３点
ローラ２ａ〜２ｃに正対した場合を除き）ウェハ１の周
囲の円弧部分が中央のローラ２ｂに接する。この状態（
第４図）において両端のローラ２ａ、２ｃはウェハ１に
摺触しないので、ウェハ１は中央のローラ２ｂによって
矢印りの如く図示左回り方向に回動せしめられる。
ウェハ１が回動して、第３図に示したようにオリフラ１
ａが３点ローラ２ａ〜２ｃに正対する姿勢になると、該
オリフラ１ａは中央のローラ２ｂから離間して１両端の
ローラ２ａ、２ｃの摺触を受ける。
ａが３点ローラ２ａ〜２ｃに正対する姿勢になると、該
オリフラ１ａは中央のローラ２ｂから離間して１両端の
ローラ２ａ、２ｃの摺触を受ける。
ところが、この状態（第３図）においては両端のローラ
２ａと同２ｃとがそれぞれ反対方向に回転しているので
、ウェハ１が受ける回転駆動力が相殺され、該ウェハ゛
１が静止する。このとき、両端のローラ２ａ、２ｃを停
止させ、矢印Ａ方向の押動によってウェハ１をローラ２
ａ、２ｃ、３に押しつけてプリアライメントを完了する
。
２ａと同２ｃとがそれぞれ反対方向に回転しているので
、ウェハ１が受ける回転駆動力が相殺され、該ウェハ゛
１が静止する。このとき、両端のローラ２ａ、２ｃを停
止させ、矢印Ａ方向の押動によってウェハ１をローラ２
ａ、２ｃ、３に押しつけてプリアライメントを完了する
。
上に述べたプリアライメント作動の完了を検出するため
に、第５図に示した点Ｐ□に光センサが設けられる０本
第５図において、１点鎖線で描いた１−１はプリアライ
メント装置に供給された状態のウェハを示していて、こ
の状態のウェハは前述のように矢印り方向に回動せしめ
られ、実線で示した１−３位置にプリアライメントされ
る。ウェハがプリアライメント完了位置１−３になると
点Ｐ１に対向するので、この点Ｐ１に設けた光センサが
プリアライメント作動の完了を検知する。
に、第５図に示した点Ｐ□に光センサが設けられる０本
第５図において、１点鎖線で描いた１−１はプリアライ
メント装置に供給された状態のウェハを示していて、こ
の状態のウェハは前述のように矢印り方向に回動せしめ
られ、実線で示した１−３位置にプリアライメントされ
る。ウェハがプリアライメント完了位置１−３になると
点Ｐ１に対向するので、この点Ｐ１に設けた光センサが
プリアライメント作動の完了を検知する。
２点鎖線で示した１−２は、プリアライメント作動の前
半を終った状態を示し、この状態において３点ローラ２
ａ、２ｂ、２ｃを停止させるとともに。
半を終った状態を示し、この状態において３点ローラ２
ａ、２ｂ、２ｃを停止させるとともに。
ウェハ１−２を矢印Ａ方向にローラ（図示せず）で押し
つけてプリアライメント作動を完了させる。
つけてプリアライメント作動を完了させる。
なお、図示の２２点にも光センサを設けておくと。
プリアライメント作動の前半工程から後半工程に移行す
べきタイミングを掴むのに好都合である。
べきタイミングを掴むのに好都合である。
このＰ３の点にも光センサを設けた構成は１本発明者が
創作して別途に出願中の発明である。
創作して別途に出願中の発明である。
以上のようにしてプリアライメントを終えたウェハは第
６図に示すととく回動アーム６の先端部に吸着把持され
てｘ−Ｙテーブル４上に搬送される。ウェハ１には精密
位置決め用のアライメントパターン１ｂが設けられてお
り、ｘ−Ｙテーブル４上に搬送、載置されたウェハ１′
のアライメントパターンｌｂ’に対向するように光学系
（図示省略）の対物レンズ５が設置されている。
６図に示すととく回動アーム６の先端部に吸着把持され
てｘ−Ｙテーブル４上に搬送される。ウェハ１には精密
位置決め用のアライメントパターン１ｂが設けられてお
り、ｘ−Ｙテーブル４上に搬送、載置されたウェハ１′
のアライメントパターンｌｂ’に対向するように光学系
（図示省略）の対物レンズ５が設置されている。
Ｘ−Ｙテーブル４は、光学系によってアライメントパタ
ーンｌｂ’を拡大投影しつつ、その位置が所定の個所へ
来るようにＸ−Ｙテーブル４を図のｘ−ｘ’力方向Ｙ−
Ｙ’力方向サブミクロンオーダで微動させる。これによ
ってウェハ１の精密位置決め（アライメント）が完了す
る。
ーンｌｂ’を拡大投影しつつ、その位置が所定の個所へ
来るようにＸ−Ｙテーブル４を図のｘ−ｘ’力方向Ｙ−
Ｙ’力方向サブミクロンオーダで微動させる。これによ
ってウェハ１の精密位置決め（アライメント）が完了す
る。
上に述べた精密位置決めの操作を迅速に、しかも高精度
で行うには、準備工程としてのプリアライメントが出来
る限り精密に行われることが望ましい、ところが、第６
図に示した従来技術においては、プリアライメントを精
密に行っても、これを吸着把持し、搬送し、Ｘ−Ｙテー
ブル４上の吸着手段（図示せず）に受渡す途中で位置ず
れを生じるという問題が有る。その上、ウェハ１を吸着
把持して搬送することは、ウェハの清浄を維持する為に
余り好ましくない。
で行うには、準備工程としてのプリアライメントが出来
る限り精密に行われることが望ましい、ところが、第６
図に示した従来技術においては、プリアライメントを精
密に行っても、これを吸着把持し、搬送し、Ｘ−Ｙテー
ブル４上の吸着手段（図示せず）に受渡す途中で位置ず
れを生じるという問題が有る。その上、ウェハ１を吸着
把持して搬送することは、ウェハの清浄を維持する為に
余り好ましくない。
そごで、プリアライメント済みのウェハを把持し直して
搬送、受渡しすることなく、プリアライメント済みのウ
ェハを吸着保持したままで光学系に対向する位置まで移
動させるため、第７図に示す構成が考えられる。この構
成（第７図）は本発明者が創作して別途に出願中のもの
である。
搬送、受渡しすることなく、プリアライメント済みのウ
ェハを吸着保持したままで光学系に対向する位置まで移
動させるため、第７図に示す構成が考えられる。この構
成（第７図）は本発明者が創作して別途に出願中のもの
である。
真空吸着ベッド７はＸ−Ｙテーブル（図示せず）の最上
面に設けられ、長ストロークのＸ−Ｙテーブルによって
矢印Ｘ−Ｘ’、Ｙ−Ｙ’方向に移動せしめられる。この
Ｘ−Ｙテーブルはセンチメートル単位の長ストローク移
動と１ミクロン単位の精密な微動との両方が可能な構造
である。
面に設けられ、長ストロークのＸ−Ｙテーブルによって
矢印Ｘ−Ｘ’、Ｙ−Ｙ’方向に移動せしめられる。この
Ｘ−Ｙテーブルはセンチメートル単位の長ストローク移
動と１ミクロン単位の精密な微動との両方が可能な構造
である。
この構成（第７図）によれば、Ｘ−Ｙテーブルを操作し
て矢印Ｘ′方向に移動させた位置（実線で示す）におい
てウェハ１のプリアライメントを行い、Ｘ−Ｙテーブル
の操作によってウェハ１を吸着している真空吸着ベッド
７を矢印Ｘ方向に移動させて仮想線で示した７′位置に
する。このＸ方向移動により、ウェハ１は１′位置とな
り、アライメントパターン１ｂがｌｂ’位置に移動せし
められて対物レンズ５に正対する。
て矢印Ｘ′方向に移動させた位置（実線で示す）におい
てウェハ１のプリアライメントを行い、Ｘ−Ｙテーブル
の操作によってウェハ１を吸着している真空吸着ベッド
７を矢印Ｘ方向に移動させて仮想線で示した７′位置に
する。このＸ方向移動により、ウェハ１は１′位置とな
り、アライメントパターン１ｂがｌｂ’位置に移動せし
められて対物レンズ５に正対する。
この構成（第７１１１）においては、真空吸着ベッド７
によるプリアライメント済みウェハ１の吸着を解除せず
に、そのまま光学系による精密位置決め作動に移行でき
る。
によるプリアライメント済みウェハ１の吸着を解除せず
に、そのまま光学系による精密位置決め作動に移行でき
る。
しかし、この第７図の構成を実施する場合、前に述べた
ように点ｐ、、Ｐ、に設けた光センサが、Ｘ−Ｙテーブ
ルの移動を妨げないことが必要で、しかもＸ−Ｙテーブ
ルが一旦矢印Ｘ方向に畏ストローク移動しても、同Ｘ′
方向に長ストローク復帰したとき、該光センサはプリア
ライメントさるべきウェハ位置（実線で示した１）に対
して精密に所定の関係位置に復元しなければならない。
ように点ｐ、、Ｐ、に設けた光センサが、Ｘ−Ｙテーブ
ルの移動を妨げないことが必要で、しかもＸ−Ｙテーブ
ルが一旦矢印Ｘ方向に畏ストローク移動しても、同Ｘ′
方向に長ストローク復帰したとき、該光センサはプリア
ライメントさるべきウェハ位置（実線で示した１）に対
して精密に所定の関係位置に復元しなければならない。
本発明は上述の事情に鑑みて為されたもので。
Ｘ−Ｙテーブル上に載置された位置のウェハを介して、
光センサの投光手段（例えばＬＥＤ）と、光センサの受
光手段（例えばフォトトランジスタ）とを対向せしめて
支承し、かつ、該光センサの設置によってＸ−Ｙテーブ
ルの作動を妨げる虞れ無く、しかもＸ−Ｙテーブルの作
動に拘らず光センサの設置位置精度を保ち得る。ウェハ
のアライメント装置を提供しようとするものである。
光センサの投光手段（例えばＬＥＤ）と、光センサの受
光手段（例えばフォトトランジスタ）とを対向せしめて
支承し、かつ、該光センサの設置によってＸ−Ｙテーブ
ルの作動を妨げる虞れ無く、しかもＸ−Ｙテーブルの作
動に拘らず光センサの設置位置精度を保ち得る。ウェハ
のアライメント装置を提供しようとするものである。
上記の目的を達成するため、本発明に係る装置は、オリ
フラ及びアライメント用のパターンを設けた円板状の半
導体ウェハを、該ウェハの周囲に摺触してこれを回動さ
せる複数個のローラと該ウェハの円周部に当接する位置
決めローラとによってプリアライメントし、上記のプリ
アライメント済みウェハに設けたパターンが光学系の対
物レンズに正対するように該ウェハを移動せしめ、上記
のパターンが精密に所定の位置、姿勢となるように該ウ
ェハを搭載したＸ−Ｙテーブルを微動せしめるように構
成したアライメント装置において。
フラ及びアライメント用のパターンを設けた円板状の半
導体ウェハを、該ウェハの周囲に摺触してこれを回動さ
せる複数個のローラと該ウェハの円周部に当接する位置
決めローラとによってプリアライメントし、上記のプリ
アライメント済みウェハに設けたパターンが光学系の対
物レンズに正対するように該ウェハを移動せしめ、上記
のパターンが精密に所定の位置、姿勢となるように該ウ
ェハを搭載したＸ−Ｙテーブルを微動せしめるように構
成したアライメント装置において。
前記のｘ−Ｙテーブルが水平面内で一定距離を往復移動
してプリアライメント手段と光学系との間を往復する構
造とし、かつ、前記Ｘ−Ｙテーブルの上段のテーブル面
上に凹みを設けて光センサ用の投光手段及び受光手段の
何れか一方を設けるとともに、前記の両手段の何れか他
方を上記の一方に対向して位置せしめ、この他方側の手
段を支持手段を介して前記Ｘ−Ｙテーブルを構成してい
る中段のテーブルに対して支承したことを特徴とする。
してプリアライメント手段と光学系との間を往復する構
造とし、かつ、前記Ｘ−Ｙテーブルの上段のテーブル面
上に凹みを設けて光センサ用の投光手段及び受光手段の
何れか一方を設けるとともに、前記の両手段の何れか他
方を上記の一方に対向して位置せしめ、この他方側の手
段を支持手段を介して前記Ｘ−Ｙテーブルを構成してい
る中段のテーブルに対して支承したことを特徴とする。
次に１本発明の一実施例を第１図について説明する。
本実施例のＸ−Ｙテーブル４′は、下段４ａ、中段４ｂ
、上段４ｃの３個のテーブルを積み重ねた構造で、下段
のテーブル４ａはベース部材である。
、上段４ｃの３個のテーブルを積み重ねた構造で、下段
のテーブル４ａはベース部材である。
中段のテーブル４ｂはＹ−Ｙ’（第１図において紙面と
垂直）方向に往復移動して、これに搭載した上段のテー
ブル４ｃｌｃＸ−Ｘ’力方向往復移動せしめる。
垂直）方向に往復移動して、これに搭載した上段のテー
ブル４ｃｌｃＸ−Ｘ’力方向往復移動せしめる。
上記上段のテーブル４Ｃは、その頂面に真空吸着ベッド
７を一体的に設けてあり、該上段のテーブル４ｃ上に載
置されたウェハ１がプリアライメントを終了すると、こ
のウェハ１を吸着保持する。
７を一体的に設けてあり、該上段のテーブル４ｃ上に載
置されたウェハ１がプリアライメントを終了すると、こ
のウェハ１を吸着保持する。
本第１図においては、読図を容易ならしめるため、プリ
アライメント用の３点ローラ及び位置決めローラの図示
を省略しである。
アライメント用の３点ローラ及び位置決めローラの図示
を省略しである。
上段のテーブル４ｃが矢印Ｘ方向に移動して４ａ’位置
になると、これに吸着保持されたウェハは１′位置とな
る。
になると、これに吸着保持されたウェハは１′位置とな
る。
ウェハが１′位置になると、このウェハ１′に設けられ
たアライメント用のパターン１ｂ′が対物レンズ５に対
向するので、この状態で中段テーブル４ｂ’をＹ−Ｙ’
力方向紙面と垂直）に精密に微動させるとともに、上段
のテーブル４ｃ’を矢印Ｘ −Ｘ′方向に精密に微動せ
しめ、対物レンズ５を含む光学系（図示省略）によって
ウェハ１′のアライメントパターンｌｂ’を精密にアラ
イメントする。
たアライメント用のパターン１ｂ′が対物レンズ５に対
向するので、この状態で中段テーブル４ｂ’をＹ−Ｙ’
力方向紙面と垂直）に精密に微動させるとともに、上段
のテーブル４ｃ’を矢印Ｘ −Ｘ′方向に精密に微動せ
しめ、対物レンズ５を含む光学系（図示省略）によって
ウェハ１′のアライメントパターンｌｂ’を精密にアラ
イメントする。
本実施例は、上段のテーブル４Ｃの頂面に凹みを設けて
フォトトランジスタ１ｏ−ｔ、 ｔｏ−２を設置する。
フォトトランジスタ１ｏ−ｔ、 ｔｏ−２を設置する。
上記のフォトトランジスタ１０−ｔ、 １０−２は、そ
れぞれ第５図に示した点２１２点Ｐ２に対応する位置に
設置し、その上端が真空吸着ベッド７の上面よりも突出
しないよう、僅かに下げて設置する。
れぞれ第５図に示した点２１２点Ｐ２に対応する位置に
設置し、その上端が真空吸着ベッド７の上面よりも突出
しないよう、僅かに下げて設置する。
上記のフォトトランジスタｔｏ−ｔ、 １ｏ−２に対し
てそれぞれＬＥＤＩＬＩ、同１１−２を正対せしめて配
設し、サポートアーム１２によって中段のテーブル４ｂ
に対して支承する。上記フォトトランジスタ１０−’ｔ
、 １０−！は、その下端がウェハ１の上面よりも僅か
に上方に位置するように支承する。
てそれぞれＬＥＤＩＬＩ、同１１−２を正対せしめて配
設し、サポートアーム１２によって中段のテーブル４ｂ
に対して支承する。上記フォトトランジスタ１０−’ｔ
、 １０−！は、その下端がウェハ１の上面よりも僅か
に上方に位置するように支承する。
本発明は上記のようにして、投光手段（本例においては
ＬＥＤ）及び受光手段（本例においてはフォトトランジ
スタ）を、ウェハを介して対向せしめて光センサを構成
する０本発明を実施する際。
ＬＥＤ）及び受光手段（本例においてはフォトトランジ
スタ）を、ウェハを介して対向せしめて光センサを構成
する０本発明を実施する際。
投光手段、受光手段の何れを上段テーブルに埋設しても
よい。
よい。
また１本実施例においては、投、受光手段の片方をサポ
ートアーム１２によって、Ｙテーブルである中段テーブ
ルに対して支承したが１本発明を実施する際、直交２軸
Ｘ、Ｙは任意に設定することができるので、Ｘテーブル
、Ｙテーブルといった名称に拘ることなく、投、受光手
段の一方を上段のテーブルに埋設するとともに、他方を
中段のテーブルに対して支承する。
ートアーム１２によって、Ｙテーブルである中段テーブ
ルに対して支承したが１本発明を実施する際、直交２軸
Ｘ、Ｙは任意に設定することができるので、Ｘテーブル
、Ｙテーブルといった名称に拘ることなく、投、受光手
段の一方を上段のテーブルに埋設するとともに、他方を
中段のテーブルに対して支承する。
以上のように構成した本実施例の装置（第１図）におい
ては、フォトトランジスタ１Ｇ−ｔ、 ＩＬ２が上段の
テーブル４ｃに埋設されているので、このフォトトラン
ジスタＩＬｔ、 １０−２はウェハ１に接触することが
なく、プリアライメント作動を妨げる虞れが無い。
ては、フォトトランジスタ１Ｇ−ｔ、 ＩＬ２が上段の
テーブル４ｃに埋設されているので、このフォトトラン
ジスタＩＬｔ、 １０−２はウェハ１に接触することが
なく、プリアライメント作動を妨げる虞れが無い。
更に、Ｌ Ｅ Ｄｌｌ−＋、 １１−２が中段のテーブ
ル４ｂに対して直接的に支承されているので、上段のテ
ーブル４ｃをＸ軸方向に移動せしめる際、該ＬＥＤＩＬ
ｔ、１１−２と光学系の部材（例えば対物レンズ５）と
の干渉を生じない。
ル４ｂに対して直接的に支承されているので、上段のテ
ーブル４ｃをＸ軸方向に移動せしめる際、該ＬＥＤＩＬ
ｔ、１１−２と光学系の部材（例えば対物レンズ５）と
の干渉を生じない。
以上説明したように１本発明の装置によれば。
Ｘ−Ｙテーブル上に載置された位置のウェハを介して、
光センサの投光手段（例えばＬＥＤ）と、光センサの受
光手段（例えばフォトトランジスタ）とを対向せしめて
支承しても、該光センサの設置によってＸ−Ｙテーブル
の作動を妨げる虞れ蕪＜。
光センサの投光手段（例えばＬＥＤ）と、光センサの受
光手段（例えばフォトトランジスタ）とを対向せしめて
支承しても、該光センサの設置によってＸ−Ｙテーブル
の作動を妨げる虞れ蕪＜。
しかもｘ−Ｙテーブルの作動に拘らず設置位置を正確に
保持し得るという優れた実用的効果を奏する。
保持し得るという優れた実用的効果を奏する。
第１図は本発明を適用したウェハ用アライメント装置の
一実施例を示す概要的な側面図、第２図はウェハの外観
図、第３図は３点ローラ式プリアライメント装置のロー
ラ配置を示す平面図、第４図は同じく作動説明図、第５
図は従来のアライメント装置の一例を示す平面図である
。第６図は従来のアライメント装置の説明図、第７図は
改良形アライメント装置の説明図である。 １．１’・・・ウェハ、ｌａ−オリフラ、ｌｂ、 ｌｂ
’・・・アライメント用パターン、１−ｔ、 １−２．
１−ａ・・・ウェハ、２ａ、２ｂ、２ｃｍ３点ローラ、
２ａ’、２ｂ’。 ２ｃ’・・・３点ローラ、３，３′・・・位置決めロー
ラ、４・・・Ｘ−Ｙテーブル、４ａ・・・下段のテーブ
ル（べ−ス部材）、４ｂ・・・中段のテーブル（Ｙテー
ブル）、４ｃ・・・上段のテーブル（Ｘテーブル）、５
・・・対物レンズ、７，７′・・・真空吸着ベッド、Ｉ
Ｌｔ、 １Ｇ−２・・・フォトトランジスタ、１１−ｔ
、 １１４・・・ＬＥＤ、１２・・・サポートアーム。 特許出願人 日立電子エンジニアリング株式会社代理
人弁理士 秋 本 正 実 第５図
一実施例を示す概要的な側面図、第２図はウェハの外観
図、第３図は３点ローラ式プリアライメント装置のロー
ラ配置を示す平面図、第４図は同じく作動説明図、第５
図は従来のアライメント装置の一例を示す平面図である
。第６図は従来のアライメント装置の説明図、第７図は
改良形アライメント装置の説明図である。 １．１’・・・ウェハ、ｌａ−オリフラ、ｌｂ、 ｌｂ
’・・・アライメント用パターン、１−ｔ、 １−２．
１−ａ・・・ウェハ、２ａ、２ｂ、２ｃｍ３点ローラ、
２ａ’、２ｂ’。 ２ｃ’・・・３点ローラ、３，３′・・・位置決めロー
ラ、４・・・Ｘ−Ｙテーブル、４ａ・・・下段のテーブ
ル（べ−ス部材）、４ｂ・・・中段のテーブル（Ｙテー
ブル）、４ｃ・・・上段のテーブル（Ｘテーブル）、５
・・・対物レンズ、７，７′・・・真空吸着ベッド、Ｉ
Ｌｔ、 １Ｇ−２・・・フォトトランジスタ、１１−ｔ
、 １１４・・・ＬＥＤ、１２・・・サポートアーム。 特許出願人 日立電子エンジニアリング株式会社代理
人弁理士 秋 本 正 実 第５図
Claims (1)
- オリフラ及びアライメント用パターンを設けた円板状の
半導体ウェハを、該ウェハの周囲に摺触してこれを回動
させる複数個のローラと該ウェハの円周部に当接する位
置決めローラとによってプリアライメントし、上記のプ
リアライメント済みウェハに設けた上記のパターンが光
学系の対物レンズに正対するように該ウェハを移動せし
め、前記のパターンが精密に所定の位置、姿勢となるよ
うに該ウェハを搭載したＸ−Ｙテーブルを微動せしめ得
るように構成したアライメント装置において、前記のＸ
−Ｙテーブルが水平面内で一定距離を往復移動してプリ
アライメント手段と光学系との間を往復する構造とし、
かつ、前記Ｘ−Ｙテーブルの上段のテーブル面上に凹み
を設けて光センサ用の投光手段及び受光手段の何れか一
方を設けるとともに、前記の両手段の何れか他方を上記
の一方に対向して位置せしめ、この他方側の手段を、支
持手段を介して前記Ｘ−Ｙテーブルを構成している中段
のテーブルに対して支承したことを特徴とするウェハの
アライメント装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6838385A JPS61228643A (ja) | 1985-04-02 | 1985-04-02 | ウエハのアライメント装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6838385A JPS61228643A (ja) | 1985-04-02 | 1985-04-02 | ウエハのアライメント装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61228643A true JPS61228643A (ja) | 1986-10-11 |
Family
ID=13372146
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6838385A Pending JPS61228643A (ja) | 1985-04-02 | 1985-04-02 | ウエハのアライメント装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61228643A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01133332A (ja) * | 1987-08-11 | 1989-05-25 | Applied Materials Inc | ウエハの心出し方法及び同方法に使用する装置 |
-
1985
- 1985-04-02 JP JP6838385A patent/JPS61228643A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01133332A (ja) * | 1987-08-11 | 1989-05-25 | Applied Materials Inc | ウエハの心出し方法及び同方法に使用する装置 |
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