JPS61201442A - ウエハのアライメント装置 - Google Patents

ウエハのアライメント装置

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Publication number
JPS61201442A
JPS61201442A JP4108185A JP4108185A JPS61201442A JP S61201442 A JPS61201442 A JP S61201442A JP 4108185 A JP4108185 A JP 4108185A JP 4108185 A JP4108185 A JP 4108185A JP S61201442 A JPS61201442 A JP S61201442A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wafer
positioning roller
arm
alignment
optical system
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP4108185A
Other languages
English (en)
Inventor
Yoshiji Namiki
南木 美嗣
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi High Tech Corp
Original Assignee
Hitachi Electronics Engineering Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Electronics Engineering Co Ltd filed Critical Hitachi Electronics Engineering Co Ltd
Priority to JP4108185A priority Critical patent/JPS61201442A/ja
Publication of JPS61201442A publication Critical patent/JPS61201442A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/68Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for positioning, orientation or alignment

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  • Computer Hardware Design (AREA)
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  • Power Engineering (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は、半導体ウェハの加工工程において、該ウェハ
を精密に位置決めする為のアライメント装置に関するも
のである。
〔発明の背景〕
半導体ウェハ1は一般に第3図に示すごとく、はぼ円形
の薄板に構成され、粗位置決め(プリアライメント)を
行う為の切欠(オリフラ)1mが設けられている。
このウェハ1を自動機器に供給して露光などの加工を行
う場合、精密な位置決めをする為の準備工程としてプリ
アライメントが行われる。
上記のプリアライメントの技術として、第4図に示すよ
うな3点ローラ式のプリアライメント装置が公知である
本第4図に仮想線で描いた1はウェハの外形を対比する
為に示したものであり、所望のプリアライメント位置を
表わしている。
オリフラ1aに沿って3個のローラ2m、 2b、 2
cが設けられている。詳しくは、両端のローラ2a、 
2cがオリフラ1aに接し、中央のローラ2bはオリフ
ラlaから微小寸法dだけ離間するようにオフセットさ
れている。
左端のロー22aは図の左回9に、中央のローラ2bと
右端のローラ2Cとは右回りに、それぞれ回転せしめら
れる。
上記3個のローラ(3点ローラと呼ぶ) 2a、 2b
2cに対して適宜に離れた位置に、位置決め用のローラ
3が設けられ、かつ、ウェハ1を矢印Aの如く(即ち、
位置決めローラと3点ローラとの中間に向かう方向に)
押動する手段が設けられる。
上記の矢印入方向の押動手段としては、プリアライメン
トの途中では例えばエアーを吹きつける方法が用いられ
、プリアライメントを終了する時点ではグツジャローラ
などの機械的部材が用いられる。
第5図に示すごとく、任意の姿勢にウェハ1を供給して
矢印入方向に押しつけると(偶然にオリフラ1aが3点
ローラ2a〜2Cに正対した場合を除き)ウェハ1の周
囲の円弧部分が中央のローラ2bに接する。この状態(
第5図)において両端のローラ2a、 2eはウェハ1
に指触しないので、ウニノ11は中央のローラ2bによ
って矢印りの如く図示左回り方向に回動せしめられる。
ウェハlが回動して、第4図に示したようにオリフラ1
aが3点ロー22a〜2Cに正対する姿勢になると、該
オリフラ1aは中央のローラ2bから離間して、両端の
ローラ2a、 2cの指触を受ける。ところが、この状
態(第4図)においては両端のローラ2aと同2Cとが
それぞれ反対方向に回転しているので、ウェハ1が受け
る回転駆動力が相殺され、該ウェハlが静止するので、
両端のロー22m、 2cを停止させ、矢印入方向の押
動によってウニノ\lをローラ2m、 2e、 3に押
しつけてシリアライメントを完了する。
第6図に実線で示した1の如くプリアライメントを完了
したウェハは、回動アーム6によって吸着把持されてX
‐Yテーブル4上に搬送される。
ウェハ1には精密位置決め用のアライメント・fターン
1bが設けられており、X‐Yテーブル4上に搬送、載
置されたウェハ1′のアライメントハターンlb’に対
向するように光学系(図示省略)の対物レンズ5が設置
されている。
X‐Yテーブル4は、光学系によりてアライメント・母
ターンlb’を拡大投影しつつ、その位置が所定の個所
へ来るようにX‐Yテーブル4を図のx−x’力方向Y
‐Y’力方向サブミクロンオーダで微動させる。これに
よってウェハ1の精密位置決め(アライメント)が完了
する。
上に述べた精密位置決めの操作を迅速に、しかも高精度
で行うには、準備工程としてのノリアライメントが出来
る限り精密に行われることが望ましい。ところが、第6
図に示した従来技術においては、プリアライメントを精
密に行っても、これを吸着把持し、搬送し、X‐Yテー
ブル4上の吸着手段(図示せず)に受渡す途中で位置ず
れを生じるという問題が有る。その上、ウェハ1を吸着
把持して搬送することは、ウェハの清浄を維持する為に
も余り好ましくない。
上記の不具合を解消するため、本゛発明者は第7図に示
すようなアライメント装置を創作した(以下、試案と言
う)。
7はX‐Yテーブルで、 7aはそのベース部分である
。このベース部分である下段7aの上に、X−X′方向
の移動可能な中段のテーブル(本図において隠れている
)を介して、Y ‐Y’力方向移動可能な上段のテーブ
ル7bが搭載されていて、この上段のテーブル7bは水
平面内で直交2軸X、Yに沿って精密に駆動される。ウ
ェハ1は上記の上段7b上に供給される。
上記のX‐Yテーブル7のベース部材である下段7aを
往復矢印B−B’の如く水平に一定距離だけ往復動せし
めるように案内手段及び駆動手段(共に図示せず)を設
ける。
実線で示した7は矢印B方向に移動した状態のX‐Yテ
ーブル、鎖線で示した7′は同じ<B′方向に移動した
状態のX‐Yテーブルである。
7位置のX‐Yテーブル上にウェハlをプリアライメン
トするように3点ローラ2m、 2b、 2c、及び位
置決めローラ3を設ける。8は上記3点ローラ2a、 
2b、 2cの駆動手段である。
7位置のX‐Yテーブル上にプリアライメントしたウェ
ハを実線1で示す。1aはオリフラ、1bはアライメン
ト用の・母ターンである。
上記のX‐Yテーブル7を7′位置に駆動したとき、そ
の上に位置決めされたウェハを鎖線1′で示す。lb’
はこの状態におけるアライメント用の・母ターンである
上記の状態のアライメント用・ぐターンlb’に対向す
るよう、光学系(図示せず)の対物レンズ5を位置せし
めて、該光学系を当該アライメント装置の固定部分に設
置する。
以上のように構成した試案のアライメント装置(第7図
)によれば、7位置のX‐Yテーブル上でウェハを1位
置にプリアライメントし、これをX‐Yテーブルの上段
7bに対して吸着固定し、XYテーブルを7′位置に移
動せしめる。すると、搭載固定されたウェハ1′は、そ
の/4ターンlb’を対物レンズ5に正対せしめられる
上述の構造機能から明らかなように、この試案の装置に
よるとウニ・・1がその表面を吸着把持さ、れないので
汚染される虞れが無く、また、吸着把持→搬送→受渡し
といった工程を含まないので、搬送・受渡しによる位置
ずれを生じる虞れが無い。
ところが、上記の試案(第7図)において、X‐Yテー
ブル7を7′位置に移動させるとき、該X‐Yテーブル
7に搭載されている位置決めローラ3が光学系(対物レ
ンズ5を支承している。図示省略)に干渉するという問
題が有る。
上記の位置決めローラを退避せしめ得るように構成しよ
うとすると、迅速、容易に退避・復元できなければなら
ない上に、退避後に復元したとき正確に原位置に一致し
なければならない。
従来技術によって前記の位置決めローラを退避せしめ得
るように構成した場合、これを正確に原位置に復元させ
るためには複雑で大形の位置決め手段(位置決めローラ
の位置決め手段)を設けなければならず、コスト高とな
る上に保守整備が厄介である。
〔発明の目的〕
本発明は上述の事情に鑑みて為されたもので、X‐Yテ
ーブルをプリアライメント位置から光学系を設けた位置
に移動させる際、上記X‐Yテーブルに搭載した位置決
めローラが光学系機器と干渉しないように迅速、容易に
退避することができ、しかも精密に原位置に復元せしめ
得る、ウェハのアライメント装置を提供しようとするも
のである。
〔発明の概要〕
上記の目的を達成するため、本発明の装置は、水平な直
交2軸に沿って精密に移動する機能を備えたX‐Yテー
ブル上にノリアライメント装置を搭載し、上記のノリア
ライメント装置はウェハのオリフラに当接する3点ロー
ラと、該ウェハの円周に当接する位置決めローラとを設
けたものとし、かつ、前記ノリアライメント装置に載置
したプリアライメント済みのウェハが光学系の対物レン
ズに正対するように前記のX‐Yテーブルのベース部材
を移動せしめる構成のウェハ用アライメント装置におい
て、前記X‐Yテーブルのベース部材に対して回動可能
に支承したアーム部材を設け、上記アーム部材の先端に
前記の位置決めローラを軸着して、X‐Yテーブルのベ
ース部材を移動せしめる際、該X‐Yテーブルに搭載さ
れた位置決めローラが光学系と干渉しないように下方へ
退避せしめ得るように構成したことを特徴とする。
〔発明の実施例〕
次に、本発明の1実施例を第1図及び第2図について説
明する。
本実施例は第7図に示した試案の装置に本発明を適用し
て改良した1例であって、第7図(試案)におけると同
一の図面参照番号を付して示した3点ローラ2m、 2
b、 2c、及びx‐Yテーブル7は試案の装置におけ
ると同様、乃至は類似の構成部材である。第1図は本実
施例を模式的に描いた平面図、第2図は上記実施例を矢
印B方向に見た側面図である。
3“は、試案(第7図)における位置決めローラ3に対
応する位置決めローラで、アーム9の先端に軸支しであ
る。
第2図に示したように、X‐Yテーブル7は、X‐Yテ
ーブルベース部材7aに対してY‐Y’力方向精密に駆
動される中段のテーブル(Yテーブル)7cの上に、x
 −x’力方向紙面に垂直方向)に精密に駆動される上
段のテーブル(Xテーブル)7bを搭載して構成されて
いる。
上記の下段テーブルであるベース部材7aは案内レール
10(第2図)上に載置されて往復矢印B−B′方向(
第1図参照・第2図において紙面と垂直方向)に駆動さ
れる。
上記X‐Yテーブルのベース部材7aにブラケット11
を設置して前記のアーム9を回動自在に枢支する。第2
図に仮想線で示した9′は下降方向に回動させたアーム
を示し、この場合の位置決めローラの位置を仮想線3″
で示す。
以上のように構成したウェハのアライメント装置(第1
図、第2図)においては、X‐Yテーブル7を第1図の
矢印B′方向、第2図において紙面と垂直に手前方向に
移動させる際、ウェハ1(仮想線で示す)の直上部に位
置する光学系(図示せず)との干渉を僻けるよう、アー
ム9を円弧矢印C′力方向回動せしめ、位置決めローラ
3//を3#位置に退避させる。
上記の退避作動は、アーム9を円弧矢印C′力方向回動
させるだけであるから迅速・容易に行うことができ、更
に該アームを円弧矢印C方向に回動させて位置決めロー
ラを3“位置へ復元させることも容易にできる。
その上、上記の円弧矢印Cは、垂直線H−H’に接して
いるので、アーム9がほぼ水平姿勢にあるときは、その
回動停止位置に僅かの誤差があっても(アーム9が水平
に対して僅かに傾いていても)、これに支承された位置
決めロー23′の平面位置(平面投影における位置)に
及ぼす誤差は実用上まったく零であるとみなすことがで
きる。
〔発明の効果〕
以上詳述した如く、本発明に係る装置によれば、X‐Y
テーブルをプリアライメント位置から光学系を設けた位
置に移動させる際、上記X‐Yテーブルに搭載した位置
決めローラが光学系機器と干渉しないように迅速、容易
に退避することができ、しかも精密に原位置に復元せし
め得るという優れた実用的効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の1実施例を模式的に描いた平面図、第
2図は第i図の矢印B方向に見た模式的な側面図である
。 第3図はウェハの平面図、第4図及び第5図は3点ロー
ラ式プリアライメントの説明図、第6図は従来のウェハ
のアライメント装置の説明図、第7図は試案のアライメ
ント装置の説明図である。 1.1′・・・ウェハ、1m・・・オリフラ、lb、 
lb’・・・アライメントノやターン、2a、 2b、
 2c・・・3点ローラ、4・・・X‐Yテーブル、5
・・・対物レンズ、6・・・アーム、7・・・X‐Yテ
ーブル、7&・・・X‐Yテーブルのベース部材、8・
・・3点ローラの駆動手段、9・・・アーム、10・・
・X‐Yテーブルのベース部材を案内するレール、11
・・・ブラケット。 特許出願人  日立電子エンジニアリング株式会社代 
理 人  弁理士  秋  本  正  実第1図 第2図 第3図 第4図 第5図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 水平な直交2軸に沿って精密に移動する機能を備えたX
    ‐Yテーブル上にプリアライメント装置を搭載し、上記
    のプリアライメント装置はウェハのオリフラに当接する
    3点ローラと、該ウェハの円周に当接する位置決めロー
    ラとを設けたものとし、かつ、前記プリアライメント装
    置に載置したプリアライメント済みのウェハが光学系の
    対物レンズに正対するように前記のX‐Yテーブルのベ
    ース部材を移動せしめる構成のウェハ用アライメント装
    置において、前記X‐Yテーブルのベース部材に対して
    回動可能に支承したアーム部材を設け、上記アーム部材
    の先端に前記の位置決めローラを軸着して、X‐Yテー
    ブルのベース部材を移動せしめる際、該X‐Yテーブル
    に搭載された位置決めローラが光学系と干渉しないよう
    に下方へ退避せしめ得るように構成したことを特徴とす
    る、ウェハのアライメント装置。
JP4108185A 1985-03-04 1985-03-04 ウエハのアライメント装置 Pending JPS61201442A (ja)

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JP4108185A JPS61201442A (ja) 1985-03-04 1985-03-04 ウエハのアライメント装置

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JPS61201442A true JPS61201442A (ja) 1986-09-06

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ID=12598511

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JP4108185A Pending JPS61201442A (ja) 1985-03-04 1985-03-04 ウエハのアライメント装置

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007023706A (ja) * 2005-07-21 2007-02-01 Denki Kagaku Kogyo Kk 吹付けコンクリート製造装置、それを用いた吹付けコンクリートの製造方法、及びその吹付けコンクリート

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007023706A (ja) * 2005-07-21 2007-02-01 Denki Kagaku Kogyo Kk 吹付けコンクリート製造装置、それを用いた吹付けコンクリートの製造方法、及びその吹付けコンクリート

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